JPH01276138A - 膜面保護フレーム付ペリクル - Google Patents
膜面保護フレーム付ペリクルInfo
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- JPH01276138A JPH01276138A JP63105631A JP10563188A JPH01276138A JP H01276138 A JPH01276138 A JP H01276138A JP 63105631 A JP63105631 A JP 63105631A JP 10563188 A JP10563188 A JP 10563188A JP H01276138 A JPH01276138 A JP H01276138A
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- JP
- Japan
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- pellicle
- frame
- film
- adhesive
- pellicle film
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- Pending
Links
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
ペリクルに設けたペリクル膜の保護方法に関し、簡単且
つ容易に設けることができる保護フレームをペリクル膜
の外周のフレームの上にペリクル膜を介して設け、ペリ
クルのハンドリングに際してペリクル膜に歪を加えない
ようにすることが可能な膜面保護フレーム付ペリクルの
提供を目的とし、 フォトマスクの表面の周縁に接着剤によって貼付して固
定したフレームに、接着剤によってペリクル膜を貼付し
て固定したペリクルの表面の周縁に、前記ペリクル膜を
介して接着剤により保護フレームを貼付して固定するよ
う構成する。
つ容易に設けることができる保護フレームをペリクル膜
の外周のフレームの上にペリクル膜を介して設け、ペリ
クルのハンドリングに際してペリクル膜に歪を加えない
ようにすることが可能な膜面保護フレーム付ペリクルの
提供を目的とし、 フォトマスクの表面の周縁に接着剤によって貼付して固
定したフレームに、接着剤によってペリクル膜を貼付し
て固定したペリクルの表面の周縁に、前記ペリクル膜を
介して接着剤により保護フレームを貼付して固定するよ
う構成する。
本発明は、フォトマスクの膜面を保護するペリクルに係
り、特にペリクルに設けたペリクル膜の保護方法に関す
るものである。
り、特にペリクルに設けたペリクル膜の保護方法に関す
るものである。
半導体装置の製造工程のフォトプロセス工程においては
、半導体基板にパターンを転写するのに用いるフォトマ
スクの表面にゴミや塵埃等の異物が付着すると、これら
のゴミや塵埃等がそのまま半導体基板上に転写されて欠
陥が発生する。
、半導体基板にパターンを転写するのに用いるフォトマ
スクの表面にゴミや塵埃等の異物が付着すると、これら
のゴミや塵埃等がそのまま半導体基板上に転写されて欠
陥が発生する。
このような障害の発生を防止するために、フレームに膜
厚の薄いニトロセルローズ膜よりなるペリクル膜を貼付
したペリクルを、フォトマスクの周縁に貼付して固定し
、これらの異物がフォトマスクの表面に直接付着するの
を防止し、仮にこのペリクル膜に異物が付着してもマス
ク面とペリクル膜との距離による焦点ずれを利用し、こ
れらの異物の像が半導体基板上に転写されないようにし
ている。
厚の薄いニトロセルローズ膜よりなるペリクル膜を貼付
したペリクルを、フォトマスクの周縁に貼付して固定し
、これらの異物がフォトマスクの表面に直接付着するの
を防止し、仮にこのペリクル膜に異物が付着してもマス
ク面とペリクル膜との距離による焦点ずれを利用し、こ
れらの異物の像が半導体基板上に転写されないようにし
ている。
しかしながら、このニトロセルローズ膜は高価な上、非
常に膜厚が薄く、取り扱いには非常に注意することが必
要である。
常に膜厚が薄く、取り扱いには非常に注意することが必
要である。
以上のような状況からペリクルに設けたペリクル膜に対
するダメージを無くすことが可能なペリクルが要望され
ている。
するダメージを無くすことが可能なペリクルが要望され
ている。
従来のフォトマスクのペリクルの構造を第２図により説
明する。
明する。
従来のペリクルは図に示すように、アルミニウム合金よ
りなるフレーム１３に、膜厚の薄いニトロセルローズよ
りなるペリクル膜１５を接着剤１４により貼付して固定
したものであり、これを接着剤１２によりフォトマスク
１１の周縁に貼付して固定している。
りなるフレーム１３に、膜厚の薄いニトロセルローズよ
りなるペリクル膜１５を接着剤１４により貼付して固定
したものであり、これを接着剤１２によりフォトマスク
１１の周縁に貼付して固定している。
このフォトマスク１１の面とペリクル膜１５の距離によ
る焦点ズレにより、仮にこのペリクル膜１５上に異物が
付着しても、この異物の像が半導体基板上に転写されな
いようにしている。
る焦点ズレにより、仮にこのペリクル膜１５上に異物が
付着しても、この異物の像が半導体基板上に転写されな
いようにしている。
このような形状のため、ペリクルのハンドリングに際し
ては、ペリクル膜１５と直交する方向で保持することが
できず、必ずフレーム１３の側壁を保持しなければなら
ないので大径化したフレーム１３の保持が困難となった
。
ては、ペリクル膜１５と直交する方向で保持することが
できず、必ずフレーム１３の側壁を保持しなければなら
ないので大径化したフレーム１３の保持が困難となった
。
そのため万一、ペリクル膜１５と直交する方向で保持し
た場合には、ペリクル膜１５に歪が生じる虞がある。
た場合には、ペリクル膜１５に歪が生じる虞がある。
以上説明の従来のペリクルにおいては、フレームに接着
剤で貼付して固定したニトロセルローズよりなるペリク
ル膜は高価な上、非常に膜厚が薄く、取り扱いには非常
に注意することが必要であり、万一、ペリクル膜面に与
えたダメージにより膜に歪が生じると、肉眼では認識出
来ないような微小な歪であっても使用時に入射光が散乱
するので正常に結像しなくなる障害が発生するという問
題点があった。
剤で貼付して固定したニトロセルローズよりなるペリク
ル膜は高価な上、非常に膜厚が薄く、取り扱いには非常
に注意することが必要であり、万一、ペリクル膜面に与
えたダメージにより膜に歪が生じると、肉眼では認識出
来ないような微小な歪であっても使用時に入射光が散乱
するので正常に結像しなくなる障害が発生するという問
題点があった。
本発明は以上のような状況から簡単且つ容易に設けるこ
とができる保護フレームをペリクル膜の外周のフレーム
の上にペリクル膜を介して設け、ペリクルのハンドリン
グに際してペリクル膜に歪を加えないようにすることが
可能な膜面保護フレーム付ペリクルの提供を目的とした
ものである。
とができる保護フレームをペリクル膜の外周のフレーム
の上にペリクル膜を介して設け、ペリクルのハンドリン
グに際してペリクル膜に歪を加えないようにすることが
可能な膜面保護フレーム付ペリクルの提供を目的とした
ものである。
上記問題点は、フォトマスクの表面の周縁に接着剤によ
って貼付して固定したフレームに、接着剤によってペリ
クル膜を貼付して固定したペリクルの表面の周縁に、前
記ペリクル膜を介して接着剤により保護フレームを貼付
して固定した本発明による膜面保護フレーム付ペリクル
によって解決される。
って貼付して固定したフレームに、接着剤によってペリ
クル膜を貼付して固定したペリクルの表面の周縁に、前
記ペリクル膜を介して接着剤により保護フレームを貼付
して固定した本発明による膜面保護フレーム付ペリクル
によって解決される。
即ち本発明においては、フレームに接着剤によってペリ
クル膜を貼付して固定したペリクルを、フォトマスクの
表面の周縁に接着剤によって貼付して固定し、更に保護
フレームをこのペリクル膜を介して接着剤によりフレー
ムに貼付して固定するので、フォトマスクのハンドリン
グに際してペリクル膜に直交する方向でこのペリクルを
保持することがあっても、保護フレームが設けられてい
るので０、ペリクル膜に力が加わることがなく、したが
ってペリクル膜に歪を生じることを防止できるので、ペ
リクル膜の歪に起因する入射光の結像状態の異常を解消
することが可能となる。
クル膜を貼付して固定したペリクルを、フォトマスクの
表面の周縁に接着剤によって貼付して固定し、更に保護
フレームをこのペリクル膜を介して接着剤によりフレー
ムに貼付して固定するので、フォトマスクのハンドリン
グに際してペリクル膜に直交する方向でこのペリクルを
保持することがあっても、保護フレームが設けられてい
るので０、ペリクル膜に力が加わることがなく、したが
ってペリクル膜に歪を生じることを防止できるので、ペ
リクル膜の歪に起因する入射光の結像状態の異常を解消
することが可能となる。
以下第１図について本発明の一実施例を説明する。
図に示すように、本実施例においては、フォトマスク１
の周縁にブチルゴム系の接着剤２によりアルミニウム合
金よりなるフレーム３を貼付して固定し、ニトロセルロ
ーズ膜よりなる膜１７１μｍ以下のペリクル膜５を、ブ
チルゴム系の接着剤４によりフレーム３に貼付して固定
する。
の周縁にブチルゴム系の接着剤２によりアルミニウム合
金よりなるフレーム３を貼付して固定し、ニトロセルロ
ーズ膜よりなる膜１７１μｍ以下のペリクル膜５を、ブ
チルゴム系の接着剤４によりフレーム３に貼付して固定
する。
更にアルミニウムよりなる保護フレーム７をブチルゴム
系の接着剤６によりペリクル膜５を介してフレーム３に
貼付して固定する。
系の接着剤６によりペリクル膜５を介してフレーム３に
貼付して固定する。
このようにペリクル膜５の周囲に保護フレーＪ・′１が
設けられているので、フォトマスクｌのハンドリングに
際してペリクル膜５と直交する方向でこのペリクルを保
持することがあっても、ペリクル膜に力が加わることが
なく、したがってペリクル膜に歪を生じることを防止で
きるので、ペリクル膜の歪に起因する入射光の結像状態
の異常を解消することが可能となる。
設けられているので、フォトマスクｌのハンドリングに
際してペリクル膜５と直交する方向でこのペリクルを保
持することがあっても、ペリクル膜に力が加わることが
なく、したがってペリクル膜に歪を生じることを防止で
きるので、ペリクル膜の歪に起因する入射光の結像状態
の異常を解消することが可能となる。
以上の説明から明らかなように本発明によれば掻めて簡
単な構造の保護フレームを設けることにより、ペリクル
付のフォトマスクのハンドリングを行う際の保持方向を
従来のようにフレームの側面をペリクル膜と平行する方
向でフレームを保持することに限定することなく、ペリ
クル膜と直交する方向で保持してもペリクル膜に歪を与
えないようにすることが可能となり、大径化したフォト
マスクのハンドリングが容易になる等の利点があり、著
しい経済的及び、信顛性向上の効果が期待でき工業的に
は極めて有用なものである。
単な構造の保護フレームを設けることにより、ペリクル
付のフォトマスクのハンドリングを行う際の保持方向を
従来のようにフレームの側面をペリクル膜と平行する方
向でフレームを保持することに限定することなく、ペリ
クル膜と直交する方向で保持してもペリクル膜に歪を与
えないようにすることが可能となり、大径化したフォト
マスクのハンドリングが容易になる等の利点があり、著
しい経済的及び、信顛性向上の効果が期待でき工業的に
は極めて有用なものである。
第１図は本発明による一実施例を示ず側断面図、第２図
は従来のペリクルを示す側断面図、である。 図において、 １はフォトマスク、 ２は接着剤、 ３はフレーム、 ４は接着剤、 ５はペリタル膜、 ６は接着剤、 ７は保護フレーム、 を示す。
は従来のペリクルを示す側断面図、である。 図において、 １はフォトマスク、 ２は接着剤、 ３はフレーム、 ４は接着剤、 ５はペリタル膜、 ６は接着剤、 ７は保護フレーム、 を示す。
Claims (1)
- フォトマスク（１）の表面の周縁に接着剤（２）によ
って貼付して固定したフレーム（３）に、接着剤（４）
によってペリクル膜（５）を貼付して固定したペリクル
の表面の周縁に、前記ペリクル膜（５）を介して接着剤
（６）により保護フレーム（７）を貼付して固定したこ
とを特徴とする膜面保護フレーム付ペリクル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63105631A JPH01276138A (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | 膜面保護フレーム付ペリクル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63105631A JPH01276138A (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | 膜面保護フレーム付ペリクル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01276138A true JPH01276138A (ja) | 1989-11-06 |
Family
ID=14412819
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63105631A Pending JPH01276138A (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | 膜面保護フレーム付ペリクル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01276138A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH052153U (ja) * | 1991-06-19 | 1993-01-14 | 株式会社エヌ・エム・ビーセミコンダクター | ペリクル膜付きレチクル |
| JP2012169316A (ja) * | 2011-02-10 | 2012-09-06 | Think Laboratory Co Ltd | エッチングマスク付基材及びその製造方法 |
-
1988
- 1988-04-28 JP JP63105631A patent/JPH01276138A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH052153U (ja) * | 1991-06-19 | 1993-01-14 | 株式会社エヌ・エム・ビーセミコンダクター | ペリクル膜付きレチクル |
| JP2012169316A (ja) * | 2011-02-10 | 2012-09-06 | Think Laboratory Co Ltd | エッチングマスク付基材及びその製造方法 |
| US9188873B2 (en) | 2011-02-10 | 2015-11-17 | Think Laboratory Co., Ltd. | Substrate having etching mask and method for producing same |
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