JPH05190479A - 縦型熱処理装置 - Google Patents

縦型熱処理装置

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JPH05190479A
JPH05190479A JP20716792A JP20716792A JPH05190479A JP H05190479 A JPH05190479 A JP H05190479A JP 20716792 A JP20716792 A JP 20716792A JP 20716792 A JP20716792 A JP 20716792A JP H05190479 A JPH05190479 A JP H05190479A
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JP
Japan
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heat
heat treatment
vertical
reaction container
target object
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JP20716792A
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English (en)
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Shingo Watanabe
伸吾 渡辺
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Tokyo Electron Sagami Ltd
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Tokyo Electron Sagami Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 縦型熱処理装置に用いられる保温部の破裂事
故を防ぐ。 【構成】 反応容器1の下端開口部を塞ぐための蓋体4
を、保温部カバ−5と保温筒支持盤6とにより構成す
る。前記カバー5は下端が開口し、上端が有底の筒状に
作られている。このカバー5により囲まれる領域内に保
温筒7を配置し、この保温筒7を前記支持盤6により支
持する。保温筒7の底部及び支持盤6に夫々通気孔7
4、61を形成し、保温筒7内を大気圧に維持する。保
温筒7はカバー5によって熱処理領域と気密に分離され
ているので保温筒7からのコンタミネーションはなく、
また保温筒7は大気圧に維持されるので破裂のおそれが
ない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、縦型熱処理装置に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエハに対して酸化、拡散、CV
Dなどの熱処理を行う装置として、ウエハのロード、ア
ンロード時における反応容器内への空気の巻き込みが少
なくて自然酸化膜の成長を抑えることができる点で、従
来の横型炉に代って縦型炉が注目されてきている。
【0003】従来の縦型の酸化、拡散炉の概略につい
て、図4を参照しながら説明すると、1は縦型の二重管
構造の反応容器であって、内管1a及び外管1bよりな
り、その下端外周面にはシリカ(SiO)あるいはア
ルミナ(Al)繊維よりなる断熱材11が巻装さ
れている。この反応容器1の外周には、均熱管12を介
して当該反応容器1を取り囲むようにヒ−タ10が配設
されており、均熱管12の下端には、アルミナ(Al
)系の断熱材13が設けられている。
【0004】そして前記反応容器1内に、ウエハWを多
数枚搭載したウエハボート21を、ボートエレベータ2
2によって下端開口部よりロードして、蓋体23により
前記開口部を密閉すると共に、図示しないガス導入管よ
りの処理ガスを内管1aと外管1bの間に導入すると共
に、内管1aの頂部の細孔1cを介して処理ガスを多数
枚のウエハWへ供給し、図示しない排気管で内管1aよ
り排気しながらウエハWに対して所定の熱処理を行うも
のである。
【0005】ここで反応容器1内の熱処理領域を外部か
ら熱的に遮断して保温するため、及び反応容器1下方側
を熱処理領域の熱から保護するためにウエハボート21
と蓋体23との間に保温筒24が介在して設けられてい
る。この保温筒24は、図4に示すようにコンタミネー
ションを避けるために石英よりなる筒状の容器25を用
い、この容器25内に断熱効果の高い綿状の石英ウール
26を充填して構成されており、容器25は、内部が減
圧状態とされた密閉構造となっている。
【0006】保温筒24をこのような構造とした理由
は、容器25の表面が反応容器1内にさらされるので処
理ガスなどの付着により汚れ、このため定期的に洗浄す
る必要があるが、洗浄液が内部に入り込むと乾燥に長い
時間がかかるため密閉構造としており、また反応容器1
内は例えば千度前後に加熱されることから大気圧のまま
密閉すると空気の熱膨脹により破裂してしまうので所定
の真空度まで減圧する必要があるからである。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら保温筒2
4は石英で作られていることから洗浄時あるいは運搬時
などにおける衝撃により、クラックが入るなど破損する
ことがある。ここでクラックが目視で認識できる場合に
は保温筒24を交換すればよいが、クラックが非常に小
さくて目視で認識できない場合には、この状態で保温筒
24を洗浄すると、内部に洗浄液が入り込み、これを反
応容器1内にて高温雰囲気にさらしたときに水蒸気の熱
膨脹により破裂事故を起こしてしまう。
【0008】そしてこのような非常に小さいクラック
(マイクロクラック)や保温筒24内の圧力変化を簡単
に検出できる適当な装置は現状では見当たらず、上述の
破裂事故を防止できないのが実情である。
【0009】更にまた従来の縦型熱処理装置にあって
は、均熱管12下部の断熱材としてアルミナ系のものが
使用されているが、アルミナ系の材質はアルミナの粉が
飛散しやすく、しかもこのアルミナの粉は半導体デバイ
スに対しては汚染物質であり、今後半導体デバイスのパ
タ−ンの微細化が進むにつれてデバイスの特性に悪影響
を与えることになる。また反応管1の下部の断熱材とし
て用いられているシリカ繊維についても繊維が飛散しや
すく、やはりパタ−ンの微細化に伴いパ−ティクルの発
生源になるという問題がある。
【0010】本発明はこのような事情のもとになされて
ものであり、その目的は、被処理体に対してコンタミネ
−ションを抑えることのできる縦型熱処理装置を提供す
ることにあり、更には保温筒の破裂事故をなくし、安全
な運転を行うことのできる縦型熱処理装置を提供するこ
とにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は、熱処理領域を
形成する縦型の反応容器内に、当該反応容器の下方側か
ら、被処理体収納部に収納された被処理体をロードし、
前記被処理体収納部の下方側に断熱材よりなる保温部を
介して設けられた蓋体によって、前記反応容器の下端開
口部を塞ぐ縦型熱処理装置において、前記保温部を熱処
理領域に対して気密に分離するための保温部カバーを設
け、前記保温部の配置される領域は、大気側に連通して
いることを特徴とする。
【0012】前記保温カバーは、反応容器の下端開口部
を塞ぐための蓋体に保温部を覆うように設けてもよい
し、あるいは蓋体とは別途に保温部の上部に設けてもよ
い。
【0013】また保温部としては種々の構造を採用する
ことができるが、例えば容器の中に石英ウールを収納し
たものや発泡石英よりなる例えばブロック体を用いるこ
とができる。
【0014】更に蓋体を、下端が開口すると共に上端が
閉塞した筒状部と、この筒状部の下端周縁部に設けら
れ、反応容器の下端周縁部に気密に接合されるフランジ
部とから構成し、この蓋体により被処理体収納部の保持
台を兼用するようにしてもよい。この場合保温部を設け
ない構成とすることもできる。
【0015】また他の発明では、熱処理領域を形成し、
均熱管により囲まれた縦型の反応容器内に、当該反応容
器の下方側から、被処理体収納部に収納された被処理体
をロ−ドする縦型熱処理装置において、前記均熱管の下
部に設けられた断熱材または前記反応容器の下部に当該
反応容器を囲むように設けられた断熱材のうち少なくと
も一方は発泡石英により構成されていることを特徴とし
ている。
【0016】
【作用】被処理体を反応容器内にロードして蓋体により
反応容器の下端開口部を塞いだとき、保温部の断熱効果
により熱処理領域が所定の温度に維持される。そして保
温部は前記カバーにより熱処理領域と気密に分離されて
いるので、処理ガスなどにより汚れるおそれがなく従っ
て洗浄の必要がない。このため保温部は密閉しなくてよ
く、しかも大気と連通しているので内部ガスの熱膨脹に
よる破裂のおそれはない。また蓋体が保持台を兼用する
場合には、別途保持台を設ける必要がない。更にまた均
熱管の下部の断熱材または反応管の下部の断熱材の少な
くとも一方を発泡石英により構成しているのでパ−ティ
クルの発生が押さえられ、不純物汚染のおそれもない。
【0017】
【実施例】図1は本発明を拡散炉に適用した実施例を示
す図であり、被処理体であるウエハが反応容器内にロー
ドされた状態を示している。熱処理領域を形成する反応
容器1は、各々略鉛直方向に沿って配置された内管1a
及び外管1bよりなる二重管構造に作られると共に、下
端のフランジ部14を介して図示しないベースプレート
に固定されている。また内管1aの頂部には、多数のガ
ス流路である細孔1cが形成されており、さらに外管1
bの側壁にはガス導入管3が連結されている。そして、
内管1aには排気管31が接続されており、所定の圧力
で排気が行われるように構成されている。
【0018】前記反応容器1の下端開口部をウエハのロ
ード時に気密に塞ぐための蓋体4は、保温部カバ−5と
支持盤6とにより構成される。前記保温部カバ−5は、
下端が開口し、上端が閉塞した例えば石英よりなる筒状
部50と、この筒状部50の下端周縁部に形成されたフ
ランジ部51とよりなり、このフランジ部51の上面が
反応容器1のフランジ部14の下面と密合することによ
り反応容器1の下端開口部を気密に塞ぐと共に、後述の
保温筒を反応容器1内の熱処理領域に対して気密に分離
する役割をもつ。
【0019】またこの保温部カバ−5の上部には、被処
理体収納部としてのウエハボート21が載置されてお
り、保温部カバ−5の上面に周方向に沿って設けられた
突出部52とウエハボート21の脚部21aとが係合す
ることによりウエハボート21が脱落しないようになっ
ている。従ってこの例では、蓋体4は、ウエハボート2
1を保持する保持台を兼用している。
【0020】前記支持盤6は、前記保温部カバ−5の下
端開口部を塞ぐように当該カバー5の下面に取り付けら
れていて、前記フランジ部51の外周縁に係合してお
り、ボートエレベータ22によって保持されている。
【0021】前記保温部カバ−5で囲まれた領域内に
は、保温部としての保温筒7が配置されており、この保
温筒7は、下面周縁に脚部71を備えていて、当該脚部
71を介して前記支持盤6により支持されている。前記
保温筒7は、例えば石英よりなる筒状の容器72内に断
熱効果の高い断熱材としての綿状の石英ウール73が充
填されて構成されている。そして前記容器72の底面及
び支持盤6の中央部には、夫々通気孔74、61が形成
されており、容器72の内部空間は前記通気孔74、6
1を介して大気側に連通して大気圧に維持されるように
なっている。
【0022】次に上述実施例の作用について述べる。先
ずボートエレベータ22を反応容器1の下方側に位置さ
せておいてウエハボート21に未処理のウエハWを例え
ば99枚載置した後、ウエハボート21を蓋体4により
(詳しくは保温部カバ−5のフランジ部51により)反
応容器1の下端開口部を塞ぐ位置(図1に示す位置)ま
で上昇させ、ウエハWを反応容器1内にロードする。次
いで図示しないヒータにより反応容器1内が所定の温度
に達した後、ガス導入管3から細孔1cを経て内管1a
内に処理ガスを導入すると共に図示しない排気管により
排気しながら反応容器1内を所定の圧力に維持して、ウ
エハWに対して例えば拡散処理を行う。ここで反応容器
1内とその下方側とは大きな温度差があるが、保温筒7
による断熱効果のため熱処理領域は所定の均一な温度に
維持されると共に、反応容器1の下方側の温度上昇が抑
えられる。
【0023】そして保温筒7内は可成り高い温度になる
が、上述のように通気孔74、61を介して外部に連通
しているので大気圧に維持され、内部のガスの熱膨脹に
よる破裂は起こり得ない。また保温筒7は保温部カバ−
5により熱処理領域とは気密に分離されているので、保
温筒7内から放出されるガスは熱処理領域に入り込むこ
とがないし、逆に反応容器1内の処理ガスが保温筒7に
接触することもない。従って保温筒7は従来のように処
理ガスによって汚染されないので洗浄する必要がない。
【0024】以上において本発明は、拡散炉に適用する
ことに限定されるものではなく、酸化、CVD、エッチ
ングなどの熱処理を行う熱処理装置に適用することがで
き、またウエハボート21が鉛直軸のまわりに回転する
構造の装置に適用してもよい。ウエハボート21を回転
させる構造に適用する場合、例えば保温部カバ−5の上
面に差動排気シ−ル機構部を伴う回転軸部や磁気シール
部を伴う回転軸部を設けると共に、保温筒7の下部側に
回転機構を設け、この回転機構により保温筒7及び回転
軸部を介してウエハボートを回転させるといった構造と
すればよい。
【0025】更に保温部カバ−5は、保温部を熱処理領
域から気密に分離する役割を果たせばよいので、図2に
示すように、円盤状に成形して保温筒7の上部に配置
し、内管1bの内周縁に環状に設けた突起部15に保温
部カバ−5の周縁が密接して保温部カバ−5の上方側と
下方側とを気密に分離するようにしてもよい。
【0026】図3は本発明の他の実施例を示す図であ
り、この実施例では保温部カバ−5で囲まれた領域内に
は、発泡石英で作られたブロック体よりなる保温部8が
配置されており、この保温部8は下面周縁に脚部81を
備えていて当該脚部81を介して支持盤6に支持されて
いる。前記発泡石英は、例えば合成石英を溶融させ(溶
融点1700〜1800℃)て発泡させ、これを冷却し
てなる多孔質石英である。
【0027】また前記反応容器1の下部には、当該反応
容器1を囲むように発泡石英よりなる断熱材91が設け
られており、この断熱材91によって反応容器1の下部
外周面からの放熱を抑え、反応容器1と後述の均熱管9
2との間隙の対流を防止している。そして反応容器1の
外側には、断熱層10aの内面に電熱線10bを巻装し
てなるヒ−タ10が設けられ、このヒ−タ10と反応容
器1との間には例えばSiCよりなる均熱管92が配設
されている。この均熱管92の下部には発泡石英よりな
る断熱材93が設けられ、この断熱材93はベ−スプレ
−ト94に固定されている。
【0028】このような実施例によれば、発泡石英は内
部に気泡を含むため断熱効果が大きい上、非常に軽量で
あるため、反応容器1内にロ−ドされる部分を軽量化す
ることができる。また石英ウ−ルを用いる場合のように
容器を用いなくて済むので構造が簡単であり、しかも発
泡石英は低コストであるため保温部8の製作上有利であ
る。この保温部8について発泡石英を用いるにあたって
は、例えば発泡石英のブロック体の上にアルミナの板を
組み合わせるなど種々の構造を採用することができる。
【0029】そして発泡石英は一体成型されているので
パ−ティクルの発生が少なく、従って反応管1や均熱管
92の断熱材91、93を発泡石英により構成すること
によりパ−ティクルの発生が抑えられ、また不純物汚染
のおそれもない。なお本発明では、断熱材91、93の
うち少なくとも一方が発泡石英により構成されていれば
よい。
【0030】以上において保温部については、容器72
内に石英ウール73を充填する構造や発泡石英よりなる
ブロック構造とする代わりに、石英板をブラスト加工し
たものを用いてもよいし、また保温部が熱処理領域と気
密に分離されているので汚染源になることがなく、従っ
て石英以外の断熱材により保温部を構成してもよい。具
体的には、保温部は、アルミナなどの断熱ブロックや、
あるいはその断熱ブロックを石英のブラスト構造体の上
に載置したものなど種々の構成を採用することができ
る。
【0031】以上において従来では、ウエハボートをヒ
ータにより加熱される均熱領域に位置させるために、熱
処理温度がそれ程高くない場合にも蓋体とウエハボート
との間に保持台を兼用する保温筒を一律に用いていた
が、例えば図1の実施例のように蓋体によりウエハボー
トの保持台を兼用させれば、保温筒が不要になるので、
構造が簡単になる。このような構造とした場合、熱処理
領域の温度が例えば500℃と低い場合には保温筒など
の保温部は必ずしも必要とするものではない。又、反応
容器は二重構造に限らず単管構造にも応用することがで
きるのは勿論である。なお被処理体としては半導体ウエ
ハに限らずガラス基板などであってもよい。
【0032】
【発明の効果】請求項1、2の発明によれば、保温部カ
バーにより保温部を熱処理領域に対して気密に分離して
いるため、保温部は処理ガスなどにより汚れることがな
いので洗浄する必要がなくなり、従って保温部を密閉構
造としなくてよいので従来のような破裂の危険がない
し、熱処理時に被処理体に対するコンタミネ−ションの
おそれもない。しかも保温部自体が熱処理における汚染
源とならないことから、石英以外の材質を用いることが
できるし、構造にも制限がなくなるので、設計上の自由
度が大きい。この結果本発明は安全に運転することがで
き、更に設計上においても有利である。
【0033】請求項3の発明によれば、容器内に石英ウ
ールを収納した構造であるため、断熱効果が非常に大き
く、しかも保温部が配置されている領域は、大気と連通
しているので容器内を密閉構造とすることなく大気に連
通した構造とすることができ、この結果大きな断熱効果
と安全性とを同時に確保することができ、非常に実用的
である。
【0034】請求項4の発明によれば、保温部を発泡石
英で構成しているため、複雑な構造としなくとも大きな
断熱効果が得られる上、装置を軽量化できる。
【0035】請求項5の発明によれば、蓋体により被処
理体収納部の保持台を兼用した構造としているので、格
別に保持台を介在させて被処理体収納部をヒータの加熱
領域に持ち上げなくてもよいので、構造が簡単になる。
【0036】請求項6の発明によれば、均熱管または反
応容器の下部の断熱材の少なくとも一方を発泡石英によ
り構成しているため、パ−ティクルの発生、不純物汚染
を抑えることができ、被処理体に対するコンタミネ−シ
ョンを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示す断面図である。
【図2】本発明の他の実施例を示す断面図である。
【図3】本発明の更に他の実施例を示す断面図である。
【図4】従来装置の一例を示す断面図である。
【図5】従来装置の一部を拡大して示す断面図である。
【符号の説明】
1 反応容器 21 ウエハボート 23、4 蓋体 5 保温筒カバー 6 保温筒支持盤 24、7 保温筒 25、72 容器 26、73 石英ウール 8 保温部 92 均熱管 91、93 断熱材

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 熱処理領域を形成する縦型の反応容器内
    に、当該反応容器の下方側から、被処理体収納部に収納
    された被処理体をロードし、前記被処理体収納部の下方
    側に断熱材よりなる保温部を介して設けられた蓋体によ
    って、前記反応容器の下端開口部を塞ぐ縦型熱処理装置
    において、 前記保温部を熱処理領域に対して気密に分離するための
    保温部カバーを設け、 前記保温部の配置される領域は、大気側に連通している
    ことを特徴とする縦型熱処理装置。
  2. 【請求項2】 熱処理領域を形成する縦型の反応容器内
    に、当該反応容器の下方側から、被処理体収納部に収納
    された被処理体をロードし、前記被処理体収納部の下方
    側に断熱材よりなる保温部を介して設けられた蓋体によ
    って、前記反応容器の下端開口部を塞ぐ縦型熱処理装置
    において、 保温部を熱処理領域に対して気密に分離するように覆う
    保温部カバーを蓋体に設け、 前記保温部の配置される領域は、大気側に連通している
    ことを特徴とする縦型熱処理装置。
  3. 【請求項3】 保温部は、容器の中に石英ウールを収納
    してなり、 前記容器の内部は、大気側に連通していることを特徴と
    する請求項2記載の縦型熱処理装置。
  4. 【請求項4】 保温部は発泡石英により構成されること
    を特徴とする請求項2記載の縦型熱処理装置。
  5. 【請求項5】 熱処理領域を形成する縦型の反応容器内
    に、当該反応容器の下方側から、被処理体収納部に収納
    された被処理体をロードし、蓋体によって、前記反応容
    器の下端開口部を塞ぐ縦型熱処理装置において、 前記蓋体を、下端が開口すると共に上端が閉塞した筒状
    部と、この筒状部の下端周縁部に設けられ、前記反応容
    器の下端周縁部に気密に接合されるフランジ部とから構
    成し、 前記蓋体の筒状部は、上面に被処理体収納部を保持する
    ための保持台を兼用することを特徴とする縦型熱処理装
    置。
  6. 【請求項6】 熱処理領域を形成し、均熱管により囲ま
    れた縦型の反応容器内に、当該反応容器の下方側から、
    被処理体収納部に収納された被処理体をロ−ドする縦型
    熱処理装置において、 前記均熱管の下部に設けられた断熱材または前記反応容
    器の下部に当該反応容器を囲むように設けられた断熱材
    のうち少なくとも一方は発泡石英により構成されている
    ことを特徴とする縦型熱処理装置。
JP20716792A 1991-07-11 1992-07-10 縦型熱処理装置 Pending JPH05190479A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001085349A (ja) * 1999-09-17 2001-03-30 Toshiba Ceramics Co Ltd 縦型熱処理装置
JP2016084879A (ja) * 2014-10-27 2016-05-19 東京エレクトロン株式会社 断熱部材及びこれを用いた熱処理装置

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JP2016084879A (ja) * 2014-10-27 2016-05-19 東京エレクトロン株式会社 断熱部材及びこれを用いた熱処理装置

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