JP4448238B2 - 縦型熱処理装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、縦型熱処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体デバイスの製造においては、被処理体例えば半導体ウエハに、酸化、拡散、CVD(Chemical Vapor Deposition)などの処理を行うために、各種の熱処理装置が用いられている。そして、その一つとして、一度に多数枚の被処理体の熱処理が可能な縦型熱処理装置が知られている。
【0003】
この縦型熱処理装置は、複数枚の被処理体を下方から収容する縦型の処理容器を有し、この処理容器の外側にはこれを取り囲むヒータが設置されている。図8に示すように、このヒータ10の上部には、急速昇降温を可能とすべくヒータ10の内部雰囲気を強制的に排気するための排気口20と、この排気口20をエアシリンダ29の駆動によりスライド開閉する蓋部材30とが設けられている。
【0004】
特に、従来の縦型熱処理装置においては、前記蓋部材が、図8の(a)に示すようにエアシリンダ29の駆動によりロッド29aの伸張方向へ移動されて排気口20を閉塞し、逆に図8の(b)に示すようにロッド29aの収縮方向に移動されて排気口20を開放するように構成されていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記縦型熱処理装置においては、エアシリンダ29のロッド29aの先端に蓋部材30が直接取付けられていたので、蓋部材30が排気口20を閉塞している昇温時に、蓋部材30が高温例えば1000℃程度に昇温してその熱がロッド29aを介してエアシリンダ29に伝わり、エアシリンダ29が昇温し易かった。また、ロッド29aは先端側ほど高温となる温度勾配になっているため、蓋部材30を開方向に移動すべくロッド29aを収縮させると、ロッド29aのより高温部分がエアシリンダ29内に入り込むようになる。
【0006】
このため、前記エアシリンダとしては、耐熱仕様のものが採用されているものの、その耐熱温度を超えてしまう場合が考えられ、その場合、エアシリンダのパッキンの熱劣化を早め、耐久性の低下を招くだけでなく、エア漏れや動作不良を引き起こして信頼性の低下を招く恐れもある。また、ヒータの近傍には、過加熱センサ42が設置されているが、前記蓋部材30を開移動させた時に排気口27からの熱風が開移動方向に漏出し、その熱で過加熱センサ42が誤作動してしまう問題もあった。
【0007】
本発明は、前記事情を考慮してなされたもので、エアシリンダの昇温を抑制することができ、その耐久性および信頼性の維持向上が図れる縦型熱処理装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明のうち、請求項1の発明は、複数枚の被処理体を下方から収容する縦型の処理容器の外側に、これを取り囲むヒータを設置し、該ヒータの上部に、ヒータの内部雰囲気を強制的に排気するための排気口と、この排気口をエアシリンダの駆動によりスライド開閉する蓋部材とを設けた縦型熱処理装置において、前記エアシリンダのロッドに前記排気口との干渉を避ける枠部材を介して前記蓋部材を連結し、該蓋部材をロッドの伸張方向へ移動させて前記排気口を開放するように構成したことを特徴とする。
【0009】
請求項2の発明は、請求項1記載の縦型熱処理装置において、前記ヒータの上部に、蓋部材を開閉移動可能に収容するハウジングが設けられていることを特徴とする。
【0010】
請求項3の発明は、請求項1記載の縦型熱処理装置において、前記枠部材とロッドの連結部および枠部材と蓋部材の連結部に、上下方向の相対移動を吸収する吸収部が設けられていることを特徴とする。
【0011】
請求項4の発明は、請求項1記載の縦型熱処理装置において、前記蓋部材が、石英製の箱状本体と、この箱状本体内に収容された断熱材とから構成されていることを特徴とする。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施の形態を添付図面に基いて詳述する。
【0013】
図1において、1は縦型熱処理装置で、この縦型熱処理装置1は複数枚の被処理体例えば半導体ウエハwを収容して所定の熱処理例えばCVD処理を施す縦型の処理容器(プロセスチューブ)2を備えている。この処理容器2は、耐熱性および耐食性を有する材料例えば石英ガラスにより形成されている。
【0014】
処理容器2は、本実施の形態では、内管2aと外管2bの二重管構造になっている。内管2aは上端および下端が開放されている。外管2bは、上端が閉塞され、下端が開放されている。なお、処理容器2は、外管2bのみからなっていてもよく、この場合、外管2bの頂部に排気部が設けられていてもよい。
【0015】
処理容器2の下部には、本実施の形態では、処理容器2内に処理ガスや不活性ガスを導入するガス導入部3と、処理容器2内を排気する排気部4とを有する短円筒状のマニホールド5が設けられている。このマニホールド5は、耐熱性および耐食性を有する材料例えばステンレス鋼により形成されている。
【0016】
ガス導入部3には、ガス源に通じるガス供給系の配管が接続される。排気部4には、真空ポンプおよび圧力制御機構を有する排気系が接続され、処理容器2内を所定の処理圧力に制御し得るようになっている。この処理圧力に制御された状態で、ガス導入部3から導入された処理ガスが処理容器2の内管2a内を上昇してウエハwの所定の熱処理に供された後、内管2aと外管2bとの間の環状通路を下降して排気部4から排気されるようになっている。
【0017】
前記マニホールド5の上端には、フランジ部5fが形成されており、この上端フランジ部5fの上面には、外管2bの下端フランジ部2fが載置され、フランジ押え6により接合固定されている。マニホールド5の上端フランジ部5fと外管2bの下端フランジ部2fとの間には、シール手段である例えばOリング7が介設されている。マニホールド5の内側には、内管2aを支持するための内管支持部8が設けられている。
【0018】
前記マニホールド5は、ベースプレート9の下部に取付けられており、このベースプレート9の上部には、処理容器2の周囲を取り囲み処理容器2内のウエハwを所定の熱処理温度に加熱昇温するためのヒータ10が設置されている。このヒータ10は、処理容器2の周囲を取囲む筒状(円筒状)の断熱材11を備え、この筒状断熱材11の内周に抵抗発熱線12が螺旋状または蛇行状に配設されている。前記ヒータ10は、高さ方向に複数の領域に分けて温度制御が可能に構成されている。
【0019】
また、ヒータ10の筒状断熱材11の上部には、ヒータ10の頂部断熱材である円板状の板状断熱材13が被せられ(載置され)ている。ヒータ10本体の筒状断熱材11およびヒータ10頂部の板状断熱材13は、所定の断熱材料例えばシリカ(SiO2)およびアルミナ(Al2O3)の混合材料により形成されている。
【0020】
前記ヒータ10の筒状断熱材11の外側には、金属製の円筒状のアウターシェル14が設けられ、このアウターシェル14には水冷ジャケット15が設けられている。アウターシェル14の上部には、板状断熱材13の上方を覆う金属製の天板16が取付けられている。急速昇降温処理を可能とすべくヒータ10内を強制的に空冷するために、ヒータ10の下部(ボトム面板17)とベースプレート9との間には複数の送風ノズル18を有する環状の送風ダクト19が設けられていると共に、ヒータ10の上部中央(板状断熱材13の中央)には排気口20が形成されている。
【0021】
そして、ヒータ10の上部、具体的には天板16上には、前記排気口20を開閉する後述の開閉機構21が設けられている。なお、天板16は、図4に示すように、アウターシェル14の上端周縁部に設けられた外向きのフランジ部14aに対して上方からネジ22で着脱可能に取付けられ、板状断熱材13の交換等のメンテナンスが容易にできるようになっている。また、天板16は、一枚の板材からなっていてもよいが、図示例のように同心状の複数の板材を外側から順に重ねて接合形成されていることが強度上好ましい。
【0022】
処理容器2内に複数枚例えば150枚程度の半導体ウエハwを高さ方向に所定間隔で搭載保持するために、ウエハwは保持具である例えば石英ガラス製のボート23に保持され、このボート23はマニホールド5の下端開口部(炉口)を密閉する例えばステンレス鋼製の蓋体24の上部に炉口断熱手段である保温筒25を介して載置されている。前記処理容器2の下方には、蓋体24を昇降させて蓋体24の開閉および処理容器2に対するボート23の搬入搬出を行うための昇降機構26が設けられていると共にその作業領域であるローディングエリア27が設けられている。
【0023】
マニホールド5の下端(開口端)と蓋体24との接合部には、シール手段である例えばOリングが設けられている(図示省略)。また、蓋体24には、ウエハwの面内均一な熱処理を可能とするためにボート23を回転するための回転機構28が設けられている。
【0024】
一方、前記開閉機構21は、前記排気口20をエアシリンダ29の駆動によりスライド開閉する蓋部材(シャッター)30を有し、前記エアシリンダ29のロッド29aに前記排気口20との干渉を避ける枠部材31を介して前記蓋部材30を連結し、この蓋部材30をロッド29aの伸張方向へ移動させて前記排気口20を開放するように構成されている。前記蓋部材30は石英製好ましくは不透明石英製の上方が開放された箱状本体32と、この箱状本体32内に収容された断熱材33とから構成されており、耐熱性および断熱性の向上が図られている。
【0025】
前記アウターシェル14の天板16には、前記板状断熱材13の排気口20に筒状の接続部34を介して連通する開口部35を有し、この開口部35を開閉すべく前記蓋部材30を水平方向にスライド可能に支持する石英製のベース部材(シャッターベース)36が取付けられている。このベース部材36は、図2ないし図4にも示すように、蓋部材30の閉位置を区画形成する平面U字状の区画壁36aを有し、この区画壁36aの上部には石英製のベースカバー37が取付けられている。
【0026】
また、前記天板16上には、前記蓋部材30を開閉移動可能に収容する金属製のハウジング38が設けられている。このハウジング38は、前記区画壁36aの周囲を取り囲んでいると共に、蓋部材30の開位置を区画形成している。このハウジング38の上部であって前記開口部35と対応する位置には、蓋部材30が開移動された時に排気口20と連通してヒータ10内の雰囲気を排気する排気ボックス39が設けられ、この排気ボックス39に図示しない工場排気系が接続されている。
【0027】
前記枠部材31は、蓋部材30の開閉移動方向に長い長方形の枠状に形成されており、枠部材31の内側に前記ハウジング38が位置される。枠部材31の長手方向の一端にはエアシリンダ29のロッド29a先端が連結され、他端には蓋部材30を枠部材31内の略中央に配置すべく連結するための連結アーム31aが内方へ突設されている。この連結アーム31aの先端側は、ハウジング38の端壁を緩く貫通してハウジング38内に挿入され、前記蓋部材30に連結されている。エアシリンダ29は、アウターシェル14の外側にこれを取り囲むように設けられたフレーム41の上端部に設置されている。前記ヒータ10は、縦型熱処理装置1の図示しない筐体内に設置され、この筐体の天井には過加熱センサ42が設置され(図7参照)、設定温度以上の時に警報を発するようになっている。
【0028】
前記枠部材31を水平方向(蓋部材の開閉移動方向)に移動可能に支持するために、図2ないし図3に示すように、枠部材31の両側には計4個の車輪43が設けられ、前記天板16上にはこれらの車輪43を脱輪しないようしてに走行可能に支持するガイドレール44が設置されている。
【0029】
前記天板16は、フレーム41に比してヒータ10からの熱影響を受け易く、急速昇降温に伴って熱膨張収縮して、エアシリンダ29と枠部材31との間および枠部材31と蓋部材30との間の連結がリジッドであると、連結部に上下方向の相対的変位による応力が集中し易い。そこで、この問題を解消するために、エアシリンダ29のロッド29aと枠部材31との連結部および枠部材31の連結アーム31aと蓋部材30との連結部には、図5ないし図6に示すように、上下方向の相対移動を吸収する吸収部45,46が設けられている。
【0030】
具体的には、枠部材31には、図5に示すように、エアシリンダ29のロッド29a先端に設けた係合部47を係合する係合孔48が形成され、この係合孔48を係合部47が上下方向に移動可能な長穴とすることにより、エアシリンダ29のロッド29aと枠部材31との間の上下方向の相対移動を吸収する吸収部45とされている。また、蓋部材31の開移動側の端部には、図6に示すように、連結アーム31aの先端部をピン49で連結するためのピン孔50が形成され、このピン孔50をピン49が上下方向に移動可能な長穴とすることにより、枠部材31の連結アーム31aと蓋部材30との間の上下方向の相対移動を吸収する吸収部46とされている。
【0031】
次に、以上の構成からなる縦型熱処理装置の作用を述べる。先ず、ウエハwの移載が終了したボート23は、ローディングエリア27において、蓋体24上の保温筒25上に載置される。次に、昇降機構26による蓋体24の上昇によってボート23を処理容器2内にその下端開口(マニホールド5の下端開口部)から搬入し、その開口を蓋体24で気密に閉塞する。
【0032】
そして、処理容器2内を、排気部4からの排気系による減圧排気により所定の圧力ないし真空度に制御すると共にヒータ10により所定の処理温度に制御し、回転機構28によりボート23を回転させながらガス導入部3より処理ガスを処理容器2内に導入してウエハwに所定の熱処理例えばCVD処理を開始する。この時、前記開閉機構21の蓋部材30は排気口20を閉塞する閉位置に移動されている。
【0033】
所定の熱処理が終了したなら、先ず、ヒータ10の電源を切り、前記蓋部材30を開位置に移動して排気口20を開放すると共に送風ダクト19の送風ノズル18から空気を吹き出してヒータ10内を強制空冷し、また、処理ガスの導入を停止して不活性ガスの導入により処理容器2内をパージする。次に、回転機構28を停止し、蓋体24を下降させて処理容器2内を開放すると共にボート2をローディングエリア27に搬出すればよい。
【0034】
特に、前記開閉機構21においては、図7の(a)に示すように、エアシリンダ29のロッド29aを収縮させることにより、枠部材31を介して蓋部材30を閉位置に移動させることができ、逆に、図7の(b)に示すように、エアシリンダ29のロッド29aを伸張させることにより、枠部材31を介して蓋部材30を開位置に移動させることができ。
【0035】
このように前記縦型熱処理装置1によれば、複数枚のウエハwを下方から収容する縦型の処理容器2の外側に、これを取り囲むヒータ10を設置し、このヒータ10の上部に、ヒータ10の内部雰囲気を強制的に排気するための排気口20と、この排気口20をエアシリンダ29の駆動によりスライド開閉する蓋部材30とを設けており、前記エアシリンダ29のロッド29aに前記排気口20との干渉を避ける枠部材31を介して前記蓋部材30を連結し、この蓋部材30をロッド29aの伸張方向へ移動させて前記排気口20を開放するように構成されているため、エアシリンダ29の昇温を抑制することができ、その耐久性および信頼性の維持向上が図れる。
【0036】
すなわち、エアシリンダ29のロッド29aには枠部材31を介して蓋部材30が連結され、好ましくは枠部材31の一端にエアシリンダ29のロッド29aが連結され、枠部材31の他端に連結アーム31aを介して蓋部材30が連結されているため、蓋部材31からエアシリンダ29までの熱伝導距離が長くなり、蓋部材30が高温に昇温していても、蓋部材30からの熱伝導によるエアシリンダ29の昇温を抑えることができる。また、蓋部材30を閉位置から開位置に移動させる動作時には、エアシリンダ29のロッド29aが伸張するので、ロッド29aがエアシリンダ29内に入ってくることがなく、エアシリンダ29の昇温を更に抑制することができる。このため、エアシリンダ29のパッキンの熱劣化を防止でき、耐久性の向上が図れると共に、エア漏れや動作不良を引き起こす恐れがなく、信頼性の向上が図れる。
【0037】
また、前記ヒータ10の上部には、蓋部材30を開閉移動可能に収容するハウジング38が設けられているため、ヒータ10内の高温雰囲気が外部に漏出するのを抑制することができ、過加熱センサ42の誤作動を防止することができる。更に、前記枠部材31とロッド29aの連結部および枠部材31と蓋部材30の連結部に、上下方向の相対移動を吸収する吸収部45,46が設けられているため、ヒータ10の高さ方向の熱膨張収縮に伴って枠部材31とエアシリンダ29間および枠部材31と蓋部材30間に生じる相対的変位ないし応力を吸収することができ、耐久性の向上が図れる。また、前記蓋部材30が、石英製の箱状本体32と、この箱状本体32内に収容された断熱材33とから構成されているため、耐熱性と断熱性の向上が図れる。
【0038】
以上、本発明の実施の形態を図面により詳述してきたが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲での種々の設計変更等が可能である。例えば、前記実施の形態では、熱処理の一例としてCVD処理が例示されているが、本発明の縦型熱処理装置は、CVD処理以外に、例えば拡散処理、酸化処理、アニール処理等を行うことが可能である。また、前記実施の形態では、処理容器にマニホールドを備えた縦型熱処理装置が例示されているが、本発明の縦型熱処理装置は、処理容器にマニホールドを備えていなくてもよい。また、被処理体としては、半導体ウエハ以外に、例えばLCD基板やガラス基板等であってもよい。
【0039】
【発明の効果】
以上要するに本発明によれば、次のような効果を奏することができる。
【0040】
(1)請求項1の発明によれば、複数枚の被処理体を下方から収容する縦型の処理容器の外側に、これを取り囲むヒータを設置し、該ヒータの上部に、ヒータの内部雰囲気を強制的に排気するための排気口と、この排気口をエアシリンダの駆動によりスライド開閉する蓋部材とを設けた縦型熱処理装置において、前記エアシリンダのロッドに前記排気口との干渉を避ける枠部材を介して前記蓋部材を連結し、該蓋部材をロッドの伸張方向へ移動させて前記排気口を開放するように構成されているため、エアシリンダの昇温を抑制することができ、その耐久性および信頼性の維持向上が図れる。
【0041】
(2)請求項2の発明によれば、前記ヒータの上部に、蓋部材を開閉移動可能に収容するハウジングが設けられているため、ヒータ内の高温雰囲気が外部に流出するのを抑制することができる。
【0042】
(3)請求項3の発明によれば、前記枠部材とロッドの連結部および枠部材と蓋部材の連結部に、上下方向の相対移動を吸収する吸収部が設けられているため、ヒータの高さ方向の熱膨張収縮に伴って枠部材とエアシリンダ間および枠部材と蓋部材間に生じる相対的変位ないし応力を吸収することができ、耐久性の向上が図れる。
【0043】
(4)請求項4の発明によれば、前記蓋部材が、石英製の箱状本体と、この箱状本体内に収容された断熱材とから構成されているため、耐熱性と断熱性の向上が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態を示す縦型熱処理装置の縦断面図である。
【図2】図1の要部の一部断面拡大平面図である。
【図3】図2の一部省略側面図である。
【図4】図1の要部拡大断面図である。
【図5】枠部材とロッドの連結部の構造を示す拡大断面図である。
【図6】枠部材と蓋部材の連結部の構造を示す拡大断面図である。
【図7】本実施の形態の作用を説明する平面図である。
【図8】従来の縦型熱処理装置の作用を説明する平面図である。
【符号の説明】
w 半導体ウエハ(被処理体)
1 縦型熱処理装置
2 処理容器
10 ヒータ
20 排気口
29 エアシリンダ
29a ロッド
30 蓋部材
31 枠部材
32 箱状本体
33 断熱材
38 ハウジング
45,46 吸収部
Claims (4)
- 複数枚の被処理体を下方から収容する縦型の処理容器の外側に、これを取り囲むヒータを設置し、該ヒータの上部に、ヒータの内部雰囲気を強制的に排気するための排気口と、この排気口をエアシリンダの駆動によりスライド開閉する蓋部材とを設けた縦型熱処理装置において、前記エアシリンダのロッドに前記排気口との干渉を避ける枠部材を介して前記蓋部材を連結し、該蓋部材をロッドの伸張方向へ移動させて前記排気口を開放するように構成したことを特徴とする縦型熱処理装置。
- 前記ヒータの上部に、蓋部材を開閉移動可能に収容するハウジングが設けられていることを特徴とする請求項1記載の縦型熱処理装置。
- 前記枠部材とロッドの連結部および枠部材と蓋部材の連結部に、上下方向の相対移動を吸収する吸収部が設けられていることを特徴とする請求項1記載の縦型熱処理装置。
- 前記蓋部材が、石英製の箱状本体と、この箱状本体内に収容された断熱材とから構成されていることを特徴とする請求項1記載の縦型熱処理装置。
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