JP2974032B2 - 縦型熱処理装置 - Google Patents
縦型熱処理装置Info
- Publication number
- JP2974032B2 JP2974032B2 JP2283806A JP28380690A JP2974032B2 JP 2974032 B2 JP2974032 B2 JP 2974032B2 JP 2283806 A JP2283806 A JP 2283806A JP 28380690 A JP28380690 A JP 28380690A JP 2974032 B2 JP2974032 B2 JP 2974032B2
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- Japan
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- heater
- frame
- reaction tube
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は半導体製造の縦型処理装置に関する。
［従来の技術］ 従来、ウェハの成膜に用いられる縦型熱処理装置は、
第３図に示すように下端にウェハ１を収納した石英ボー
ト２を搬入出する搬入出口３を有する反応管４がベース
プレート５にマニホールド６を介して固定されて設けら
れる。反応管４の上部には反応ガス供給系から供給され
る反応ガス導入口（図示せず）及び反応管４の下部には
反応後の生成ガスや余剰の反応ガスを排出する反応ガス
排出口８が設けられ図示しない排気装置に接続されてい
る。反応管４の周囲には断面均熱を保って反応管４を加
熱できるようにいくつかのゾーンに分割されたヒータ９
がベースプレート５に支持されて配設されると共に、下
方には高温による加熱を防止するための下部スカベンジ
ャ10及び搬入出口３から石英ボート２を搬入出するため
のボート搬送装置11が設けられる。
第３図に示すように下端にウェハ１を収納した石英ボー
ト２を搬入出する搬入出口３を有する反応管４がベース
プレート５にマニホールド６を介して固定されて設けら
れる。反応管４の上部には反応ガス供給系から供給され
る反応ガス導入口（図示せず）及び反応管４の下部には
反応後の生成ガスや余剰の反応ガスを排出する反応ガス
排出口８が設けられ図示しない排気装置に接続されてい
る。反応管４の周囲には断面均熱を保って反応管４を加
熱できるようにいくつかのゾーンに分割されたヒータ９
がベースプレート５に支持されて配設されると共に、下
方には高温による加熱を防止するための下部スカベンジ
ャ10及び搬入出口３から石英ボート２を搬入出するため
のボート搬送装置11が設けられる。
ボート搬送装置11はモータ12と、このモータ12に連結
されたボールスクリュー13と、このボールスクリュー13
の回転により昇降する昇降アーム14とから成る。昇降ア
ーム14の先端には石英ボート２を載置する積載台15がモ
ータ16に接続されて設けられ、反応時に載置台15が回転
してウェハ１の均熱加熱が行えるようになっている。こ
の載置台15は保温筒７に包囲され、さらに、保温筒17に
は石英ボート２が上昇され、反応管４内に配置された
時、反応管４のボート搬入出口３を密閉する蓋18及び下
部スカベンシャ10を密閉する蓋19が備えられる。下部ス
カベンジャ10の側面には反応管４から排出される反応ガ
スの排気口20や、その他０リングを介して反応管４の蓋
18が閉じられた時、接触する高温のマニホールド６の熱
により０リングが劣化して気密シールが劣化しないため
にマニホールド６を冷却する冷却水や、ヒータ９や反応
管４の温度センサの熱電対等の電気系統等が接続され
る。
されたボールスクリュー13と、このボールスクリュー13
の回転により昇降する昇降アーム14とから成る。昇降ア
ーム14の先端には石英ボート２を載置する積載台15がモ
ータ16に接続されて設けられ、反応時に載置台15が回転
してウェハ１の均熱加熱が行えるようになっている。こ
の載置台15は保温筒７に包囲され、さらに、保温筒17に
は石英ボート２が上昇され、反応管４内に配置された
時、反応管４のボート搬入出口３を密閉する蓋18及び下
部スカベンシャ10を密閉する蓋19が備えられる。下部ス
カベンジャ10の側面には反応管４から排出される反応ガ
スの排気口20や、その他０リングを介して反応管４の蓋
18が閉じられた時、接触する高温のマニホールド６の熱
により０リングが劣化して気密シールが劣化しないため
にマニホールド６を冷却する冷却水や、ヒータ９や反応
管４の温度センサの熱電対等の電気系統等が接続され
る。
このような機構の縦型熱処理装置はヒータ９を包囲す
る断熱材21の外側にヒータカバー７が設けられ、このヒ
ータカバー７の外側所定の間隔を介してフレーム22で被
われてクリーンルーム内に設置される。フレーム22の下
部には反応管４を冷却するためのエア送入口23が設けら
れる。
る断熱材21の外側にヒータカバー７が設けられ、このヒ
ータカバー７の外側所定の間隔を介してフレーム22で被
われてクリーンルーム内に設置される。フレーム22の下
部には反応管４を冷却するためのエア送入口23が設けら
れる。
フレーム22の天井部分には、ヒータ９の上部を包囲し
て上部スカベンジャ25が工場排気系に連結されたダクト
26に接続されて、フレーム22のエア送入口23から取り入
れられたエアによりヒータ９から発生する熱を除去する
よう設けられる。また、上部スカベンジャ25部のフレー
ム22はメンテナンス等のための開口部27が設けられ、開
口部27には開口可能な蓋28が設けられている。
て上部スカベンジャ25が工場排気系に連結されたダクト
26に接続されて、フレーム22のエア送入口23から取り入
れられたエアによりヒータ９から発生する熱を除去する
よう設けられる。また、上部スカベンジャ25部のフレー
ム22はメンテナンス等のための開口部27が設けられ、開
口部27には開口可能な蓋28が設けられている。
［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、ウェハ１の大口径化、多数枚処理のた
め縦型熱処理装置の大型化が進み、設置されるクリーン
ルームの高さとも相まってヒータ９とフレーム22の天井
部分の間隙は40mm等と非常に狭くなっている。そのた
め、ヒータ９の加熱時においても工場排気系により上部
スカベンジャ25から排気を行っていた。しかし、フレー
ム22の天井部分や蓋28は100〜120℃と高温になり、非常
に危険であった。
め縦型熱処理装置の大型化が進み、設置されるクリーン
ルームの高さとも相まってヒータ９とフレーム22の天井
部分の間隙は40mm等と非常に狭くなっている。そのた
め、ヒータ９の加熱時においても工場排気系により上部
スカベンジャ25から排気を行っていた。しかし、フレー
ム22の天井部分や蓋28は100〜120℃と高温になり、非常
に危険であった。
本発明は上記の欠点を解消するためになされたもので
あって、上部のフレームが高温にならず危険排除した縦
型熱処理装置を提供することを目的とする。
あって、上部のフレームが高温にならず危険排除した縦
型熱処理装置を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］ 上記の目的を達成するため、本発明の縦型熱処理装置
は、下端にウェハを収納したボートの搬入出口を有する
反応管と、反応管の周囲に配設されたヒータと、ヒータ
を包囲するフレームと、ヒータとフレーム間の排気を行
う排気系に接続されるダクトとを備えた縦型熱処理装置
において、ヒータの上端とフレームとの間の空間に分流
板を設け、分流板の上下に冷却用空気の排気経路が形成
されたものであり、好ましくは、分流板は一端をダクト
に設けられる排気孔を２分する位置に着装してなるもの
である。
は、下端にウェハを収納したボートの搬入出口を有する
反応管と、反応管の周囲に配設されたヒータと、ヒータ
を包囲するフレームと、ヒータとフレーム間の排気を行
う排気系に接続されるダクトとを備えた縦型熱処理装置
において、ヒータの上端とフレームとの間の空間に分流
板を設け、分流板の上下に冷却用空気の排気経路が形成
されたものであり、好ましくは、分流板は一端をダクト
に設けられる排気孔を２分する位置に着装してなるもの
である。
［作用］ 縦型熱処理装置の高温になるフレームの天井部分にフ
レームとヒータ間に分流板を設け、分流板の一端を排気
装置に接続されたダクトに着装させる。これにより分流
板自体で熱を遮断すると共に、断熱板の上下に排気通路
を形成するため、フレームの天井部分及び蓋が高温にな
るのを防止することができる。そのため、縦型熱処理装
置であっても安全性の高いものが得られる。
レームとヒータ間に分流板を設け、分流板の一端を排気
装置に接続されたダクトに着装させる。これにより分流
板自体で熱を遮断すると共に、断熱板の上下に排気通路
を形成するため、フレームの天井部分及び蓋が高温にな
るのを防止することができる。そのため、縦型熱処理装
置であっても安全性の高いものが得られる。
［実施例］ 本発明の縦型熱処理装置を適用した一実施例を図面を
参照して説明する。
参照して説明する。
第１図に示す縦型熱処理装置は、第３図と同一部分に
は同一符号を付して説明する。下端にウェハ１を収納し
た石英ボート２を搬入出する搬入出口３を有する反応管
４がベースプレート５にマニホールド６を介して固定さ
れ設けられる。反応管４の上部には反応ガス供給系から
供給される反応ガス導入口（図示せず）及び反応管４の
下部には反応後の生成ガスや余剰の反応ガスを排出する
反応ガス排出口８が設けられ図示しない排気装置に接続
されている。反応管４の周囲には断面均熱を保って反応
管４を加熱できるようにいくつかのゾーンに分割された
ヒータ９がベースプレート５に支持されて配設されると
共に、下方には高温による加熱を防止するための下部ス
カベンジャ10及び搬入出口３から石英ボート２を搬入出
するためのボート搬送装置11が設けられる。
は同一符号を付して説明する。下端にウェハ１を収納し
た石英ボート２を搬入出する搬入出口３を有する反応管
４がベースプレート５にマニホールド６を介して固定さ
れ設けられる。反応管４の上部には反応ガス供給系から
供給される反応ガス導入口（図示せず）及び反応管４の
下部には反応後の生成ガスや余剰の反応ガスを排出する
反応ガス排出口８が設けられ図示しない排気装置に接続
されている。反応管４の周囲には断面均熱を保って反応
管４を加熱できるようにいくつかのゾーンに分割された
ヒータ９がベースプレート５に支持されて配設されると
共に、下方には高温による加熱を防止するための下部ス
カベンジャ10及び搬入出口３から石英ボート２を搬入出
するためのボート搬送装置11が設けられる。
ボート搬送装置11はモータ12と、このモータ12に連結
されたボールスクリュー13と、このボールスクリュー13
の回転により昇降する昇降アーム14とから成る。昇降ア
ーム14先端には石英ボート２を載置する載置台15がモー
タ16に接続されて設けられ、反応中載置台15が回転して
ウェハ１の均熱加熱が行えるようになっている。この載
置台15は保温筒17に包囲され、さらに、保温筒17には石
英ボート２が上昇され、反応管４内に載置された時、反
応管４のボート搬入出口を密閉する蓋18及び下部スカベ
ンジャ10を密閉する蓋19が備えられる。反応ガスの排気
口20やその他０リングを介して反応管４の蓋18が閉じら
れた時、接触する高温のマニホールド６の熱によりシー
ルドが劣化しないためのマニホールド６の冷却水や反応
管４の温度センサの熱電対等の電気系統等が接続され
る。
されたボールスクリュー13と、このボールスクリュー13
の回転により昇降する昇降アーム14とから成る。昇降ア
ーム14先端には石英ボート２を載置する載置台15がモー
タ16に接続されて設けられ、反応中載置台15が回転して
ウェハ１の均熱加熱が行えるようになっている。この載
置台15は保温筒17に包囲され、さらに、保温筒17には石
英ボート２が上昇され、反応管４内に載置された時、反
応管４のボート搬入出口を密閉する蓋18及び下部スカベ
ンジャ10を密閉する蓋19が備えられる。反応ガスの排気
口20やその他０リングを介して反応管４の蓋18が閉じら
れた時、接触する高温のマニホールド６の熱によりシー
ルドが劣化しないためのマニホールド６の冷却水や反応
管４の温度センサの熱電対等の電気系統等が接続され
る。
このような機械の縦型熱処理装置はヒータ９を包囲す
る断熱材21の外側にヒータカバー７が設けられ、ヒータ
カバー７の外側所定間隔を介してフレーム22で被われて
クリーンルーム内に設置される。フレーム22の下部には
エア送入口23が設けられる。フレーム22の天井部分には
フレーム22のメンテナンス等のための開口部27と開口部
27の蓋28が設けられる。ヒータ９とフレーム22の中間に
は分流板が備えられ、分流板29は第２図に示すように一
端ａを工場排気系に接続されたダクト26の排気孔である
スリット30を２分するように着装される。分流板29は厚
さ2mmのSUS板で形成され、ｂ及びｃ方向はフレーム22に
接触するよう設けられるため、分流板29とフレーム22の
間隙31（第１図）及び分流板29とヒータ９の間隙32の両
方向に排気通路を形成できる。尚、このフレーム22の蓋
28及び分流板29に排気通路を狭くしない程度の厚さの断
熱材33を取着させて断熱効果を高めるようにしてもよ
い。
る断熱材21の外側にヒータカバー７が設けられ、ヒータ
カバー７の外側所定間隔を介してフレーム22で被われて
クリーンルーム内に設置される。フレーム22の下部には
エア送入口23が設けられる。フレーム22の天井部分には
フレーム22のメンテナンス等のための開口部27と開口部
27の蓋28が設けられる。ヒータ９とフレーム22の中間に
は分流板が備えられ、分流板29は第２図に示すように一
端ａを工場排気系に接続されたダクト26の排気孔である
スリット30を２分するように着装される。分流板29は厚
さ2mmのSUS板で形成され、ｂ及びｃ方向はフレーム22に
接触するよう設けられるため、分流板29とフレーム22の
間隙31（第１図）及び分流板29とヒータ９の間隙32の両
方向に排気通路を形成できる。尚、このフレーム22の蓋
28及び分流板29に排気通路を狭くしない程度の厚さの断
熱材33を取着させて断熱効果を高めるようにしてもよ
い。
このような構成の縦型処理装置により成膜処理を行う
場合は、ウェハ１を収納した石英ボート２を保温筒17畳
の載置台15に載置する。ボート搬送装置11のモータ12を
作動させ、昇降アーム14を上昇させる。石英ボート２が
反応管４の搬入出口３から反応管４内に挿入され最上位
まで上昇されると反応管４及び下部スカベンジャ10は蓋
18及び19で密閉される。その後、図示しない反応ガス導
入口から反応ガスを反応管４内に供給する。この時反応
管４内はヒータ９が通電されて、所定温度に加熱され
る。この時モータ16を駆動させ石英ボート２の載置台15
を回転させ、ウェハ１を断面均一に加熱されるようにし
てウェハ１上に均一な膜厚の薄膜を形成できるようにす
る。同時にダクト26を工場排気系に接続してヒータの上
方の排気通路（間隙31及び32）から排気を行う。このよ
うにすることでヒータカバー７とフレーム22の天井部分
の間隙が40mmであってもヒータ９の加熱中フレーム22の
蓋28は50℃にしか加熱されない。反応管４内で熱処理が
所定の時間行われた後、ボート搬送装置11を作動させ昇
降アーム14を下降させて石英ボート２を反応管４から搬
出する。
場合は、ウェハ１を収納した石英ボート２を保温筒17畳
の載置台15に載置する。ボート搬送装置11のモータ12を
作動させ、昇降アーム14を上昇させる。石英ボート２が
反応管４の搬入出口３から反応管４内に挿入され最上位
まで上昇されると反応管４及び下部スカベンジャ10は蓋
18及び19で密閉される。その後、図示しない反応ガス導
入口から反応ガスを反応管４内に供給する。この時反応
管４内はヒータ９が通電されて、所定温度に加熱され
る。この時モータ16を駆動させ石英ボート２の載置台15
を回転させ、ウェハ１を断面均一に加熱されるようにし
てウェハ１上に均一な膜厚の薄膜を形成できるようにす
る。同時にダクト26を工場排気系に接続してヒータの上
方の排気通路（間隙31及び32）から排気を行う。このよ
うにすることでヒータカバー７とフレーム22の天井部分
の間隙が40mmであってもヒータ９の加熱中フレーム22の
蓋28は50℃にしか加熱されない。反応管４内で熱処理が
所定の時間行われた後、ボート搬送装置11を作動させ昇
降アーム14を下降させて石英ボート２を反応管４から搬
出する。
なお、本発明は上記の実施例に限定されるものではな
く、縦型熱処理装置であれば酸化、拡散装置、CVD装置
等何れのものにも適用することができる。
く、縦型熱処理装置であれば酸化、拡散装置、CVD装置
等何れのものにも適用することができる。
［発明の効果］ 以上の説明からも明らかなように、本発明の縦型熱処
理装置によれば、装置のフレームとヒータ間に分流板を
設け、分流板の上下に排気通路を設けたため、装置の上
面が高温に加熱されず危険を排除した安全性の高い縦型
熱処理装置が得られる。
理装置によれば、装置のフレームとヒータ間に分流板を
設け、分流板の上下に排気通路を設けたため、装置の上
面が高温に加熱されず危険を排除した安全性の高い縦型
熱処理装置が得られる。
第１図は本発明の縦型処理装置の一実施例を示す図、第
２図は第１図に示す一実施例の要部を示す図、第３図は
従来例を示す図である。 １……ウェハ ２……ボート ３……ボートの搬入出口 ４……反応管 ９……ヒータ 22……フレーム 29……分流板 31、32……間隙（排気通路）
２図は第１図に示す一実施例の要部を示す図、第３図は
従来例を示す図である。 １……ウェハ ２……ボート ３……ボートの搬入出口 ４……反応管 ９……ヒータ 22……フレーム 29……分流板 31、32……間隙（排気通路）
Claims (2)
- 【請求項１】下端にウェハを収納したボートの搬入出口
を有する反応管と、前記反応管の周囲に配設されたヒー
タと、前記ヒータを包囲するフレームと、前記ヒータと
フレーム間の排気を行う排気系に接続されるダクトとを
備えた縦型熱処理装置において、前記ヒータの上端と前
記フレームとの間の空間に分流板を設け、前記分流板の
上下に冷却用空気の排気経路が形成されたことを特徴と
する縦型熱処理装置。 - 【請求項２】前記分流板は一端を前記ダクトに設けられ
る排気孔を２分する位置に着装してなることを特徴とす
る請求項１記載の縦型熱処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2283806A JP2974032B2 (ja) | 1990-10-22 | 1990-10-22 | 縦型熱処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2283806A JP2974032B2 (ja) | 1990-10-22 | 1990-10-22 | 縦型熱処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04158513A JPH04158513A (ja) | 1992-06-01 |
| JP2974032B2 true JP2974032B2 (ja) | 1999-11-08 |
Family
ID=17670389
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2283806A Expired - Lifetime JP2974032B2 (ja) | 1990-10-22 | 1990-10-22 | 縦型熱処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2974032B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100574140B1 (ko) * | 1999-07-02 | 2006-04-25 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 반도체 제조 설비, 반도체 제조 장치 및 반도체 제조 방법 |
-
1990
- 1990-10-22 JP JP2283806A patent/JP2974032B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04158513A (ja) | 1992-06-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
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