JPH05186452A - L−アンブロックスの製造方法 - Google Patents

L−アンブロックスの製造方法

Info

Publication number
JPH05186452A
JPH05186452A JP35877891A JP35877891A JPH05186452A JP H05186452 A JPH05186452 A JP H05186452A JP 35877891 A JP35877891 A JP 35877891A JP 35877891 A JP35877891 A JP 35877891A JP H05186452 A JPH05186452 A JP H05186452A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
reaction
solvent
tetramethyl
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP35877891A
Other languages
English (en)
Inventor
Goro Asanuma
五朗 浅沼
Hironobu Tamai
洋進 玉井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kuraray Co Ltd
Original Assignee
Kuraray Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kuraray Co Ltd filed Critical Kuraray Co Ltd
Priority to JP35877891A priority Critical patent/JPH05186452A/ja
Priority to EP92121945A priority patent/EP0550889B1/en
Priority to DE69213916T priority patent/DE69213916T2/de
Priority to US07/995,978 priority patent/US5290955A/en
Publication of JPH05186452A publication Critical patent/JPH05186452A/ja
Priority to US08/116,605 priority patent/US5347048A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Furan Compounds (AREA)
  • Fats And Perfumes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 L−アンブロックスを低コスト且つ工業的に
高い光学純度で製造できるようにする。 【構成】 (−)−2,5,5,8a−テトラメチル−
1−(カルボキシメチル)−2−ヒドロキシデカリンを
(10)脱水反応によりラクトン化してデカヒドロ−3
a,6,6,9a−テトラメチル−(3aα,5aβ,
9aα,9aβ)−(+)−ナフト[2,1−b]フラ
ン−2(1H)−オン(11)を形成し、更に金属水素
化物により還元して(−)−2,5,5,8a−テトラ
メチル−1−(ヒドロキシエチル)−2−ヒドロキシデ
カリン(12)に変換した後、脱水環化することにより
L−アンブロックス(1)が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、優れたアンバー香を
有する重要な香料物質である式(1)
【0002】
【化5】 の(−)−3a,6,6,9a−テトラメチル−ドデカ
ヒドロナフト[2,1−b]フラン(以下、L−アンブ
ロックスと称する)の製造方法に関する。より詳しく
は、低コストで且つ工業的に製造可能な式(10)
【0003】
【化6】 の(−)−2,5,5,8a−テトラメチル−1−(カ
ルボキシメチル)−2−ヒドロキシデカリン(以下、
(−)HC酸と称する)を原料として用いてL−アンブ
ロックスを製造する方法に関する。
【0004】
【従来の技術】従来、L−アンブロックスの製造方法と
しては、以下に示す方法が提案されている: 方法(a).天然のSalvia sclareaの精
油中に存在する光学活性体の(−)−スクラレオ−ルを
出発原料とし、これをクロム酸化して(+)−ノルアン
ブレノリドを製造し(Helv.Chim.Act
a.,14,570(1931)、更に(+)−ノルア
ンブレノリドを還元した後に環化する方法[Drago
co Report,11/12,276〜283(1
979)]; 方法(b).光学活性体の(+)−マヌールを出発原料
に用いる方法[特開昭62−39539]; 方法(c).光学活性体のL−アビチエン酸を出発原料
に用いる方法[M.Ohno,et al.,Tetr
ahedron Letters,28,2863(1
987)];及び 方法(d).光学活性体のL−レボピマール酸を出発原
料に用いる方法[Y.Nishi,et al.,J.
Jpn.Oil.Chem.Soc.,38,276
(1989)]。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
方法(a)には、使用する出発原料のSalvia s
clarea油が特定の気候、風土の限られた地域でし
か栽培されていない植物から得られ、従って原料の供給
量に限りがあり、また比較的高価であるので、工業的に
L−アンブロックスを製造するための原料としては不適
であるという問題があった。しかも、この方法には、
(−)−スクラレオ−ルの酸化分解の際に酸化剤とし
て、廃水の汚染等の問題を引き起こすために工業的に使
用するには不向きな過マンガン酸カリウムやクロム酸等
の重金属酸化剤を使用するという問題もあった。
【0006】また、方法(b)の場合には、出発原料の
供給面で方法(a)よりも若干有利であると記載されて
いるが、酸化分解工程でやはり重金属酸化剤を使用する
という問題があった。
【0007】方法(c)及び(d)の場合には、原料供
給面で方法(a)及び(b)に比べ有利であると思われ
るが、反応工程数が多く、高価な試薬を用いなければな
らず、また工業的実施には不適な反応操作を多く含むと
いう問題があった。
【0008】このように、高い光学純度のL−アンブロ
ックスを低コストで且つ工業的に製造することが望まれ
ていた。
【0009】この発明は以上のような従来技術の問題点
を解決しようとするものであり、高い光学純度のL−ア
ンブロックスを低コスト且つ工業的に製造できるように
することを目的としている。
【0010】
【課題を解決するための手段】この発明者らは、上記の
目的が、光学活性な(−)HC酸を原料として用いれ
ば、低コストで工業的に実施可能な方法により、高い光
学純度のL−アンブロックスを製造できることを見出
し、この発明を完成するに至った。
【0011】即ち、この発明は、式(10)
【0012】
【化7】 の(−)HC酸、即ち(−)−2,5,5,8a−テト
ラメチル−1−(カルボキシメチル)−2−ヒドロキシ
デカリンを脱水反応によりラクトン化して式(11)
【0013】
【化8】 のデカヒドロ−3a,6,6,9a−テトラメチル−
(3aα,5aβ,9aα,9aβ)−(+)−ナフト
[2,1−b]フラン−2(1H)−オンを形成し、更
に金属水素化物により還元して式(12)
【0014】
【化9】 の(−)−2,5,5,8a−テトラメチル−1−(ヒ
ドロキシエチル)−2−ヒドロキシデカリンに変換した
後、脱水環化することを特徴とする式(1)
【0015】
【化10】 の(−)−3a,6,6,9a−テトラメチル−ドデカ
ヒドロナフト[2,1−b]フランの製造方法を提供す
る。
【0016】この発明において、原料の(−)HC酸は
種々の方法により製造されたものを使用することができ
る。例えば、入手容易なβ−ヨノンを部分水添して得ら
れるジヒドロ−β−ヨノンとβ−カルボキシエチルトリ
フェニルホスホニウムクロリドとのウィティヒ反応によ
り誘導されるβ−モノシクリロファルネシル酸を酸触媒
で環化する方法(特開昭57−145869号公報)な
どを利用することにより製造したものを使用することが
できるが、低コスト且つ工業的にL−アンブロックスを
製造するという観点から、次のように製造した(−)H
C酸を原料として用いることが非常に好ましい。
【0017】即ち、工業的に入手可能な式(2)のβ−
ヨノンを部分水添して式(3)のジヒドロ−β−ヨノ−
ルとし、ビニルマグネシウムクロリドを作用させて式
(4)のジヒドロ−β−ビニル−ヨノ−ルに変換する。
次に、水素化ナトリウムを反応させた後に、クロルギ酸
エステルを反応させて式(5)の炭酸エステルとし、パ
ラジウム触媒の存在下で一酸化炭素の挿入反応を行い、
加水分解して式(6)のβ−モノシクロホモファルネシ
ル酸を合成する。得られたβ−モノシクロホモファルネ
シル酸にクロルスルホン酸を作用させることにより環化
することにより式(7)の(±)−ノルアンブレノリド
を製造する。この(±)−ノルアンブレノリドを加水分
解することにより式(9)の(±)HC酸を得る。つい
で、この(±)HCを光学活性な分割剤を用いて高い光
学純度の(−)HC酸を得る。この発明では、このよう
にして得られた(−)HC酸を使用することが非常に好
ましい。以下に、反応スキームにしたがって、β−ヨノ
ンを出発原料とするL−アンブロックスの全合成を詳細
に説明する。
【0018】
【化11】 工程A まず、式(2)のβ−ヨノンを式(3)のジヒドロ−β
−ヨノンに還元する。この場合、カルボニル基のα,β
位の二重結合のみを選択的に還元するためには、種々の
還元法を適用できるが操作の容易性、コストの点から、
好ましくはβ−ヨノンをニッケルケイソウ土触媒の存在
下で溶媒中で水添する。この場合、ニッケルケイソウ土
触媒は、β−ヨノンに対して0.5〜50重量%、好ま
しくは0.8〜5重量%、より好ましくは1重量%で使
用する。
【0019】また、この還元反応においては溶媒を使用
することが好ましいが、このための溶媒としては、メタ
ノール、エタノール、n−プロパノール等の脂肪族アル
コール、特にエタノールを使用することが好ましい。な
お、その他にテトラハイドロフラン、ジオキサン等のエ
ーテル化合物なども使用することができる。このような
溶媒の使用量は、溶媒の種類により異なるが、一般には
β−ヨノンに対して好ましくは20〜90重量%、より
好ましくは30〜50重量%で使用する。
【0020】この還元反応における水添の際の水素圧力
も、使用する触媒の量、溶媒の種類、反応温度等により
異なるが、通常1〜100気圧、好ましくは5〜20気
圧、より好ましくは8〜12気圧であり、反応温度も通
常20〜150℃、好ましくは60〜100℃、より好
ましくは75〜85℃である。反応時間もやはり、使用
する溶媒の種類や、水素の圧力により異なるが、好まし
くは10〜20時間である。このようにして、β−ヨノ
ンをニッケルケイソウ土触媒存在下で接触水添すること
によりジヒドロ−β−ヨノンを高収率(通常85〜95
%)で得ることができる。
【0021】工程B 工程Aで得られたジヒドロ−β−ヨノン又は商業的に入
手したジヒドロ−β−ヨノンを溶媒中でわずかに過剰当
量のCH=CHMgX(式中Xはクロロ、ブルモ等の
ハロゲンである)と反応させて式(4)のジヒドロ−β
−ビニル−ヨノールを形成する。この際溶媒としては、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジエチレング
リコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒、好まし
くはテトラヒドロフランを使用する。反応は、使用する
溶媒の種類等により異なるが、通常0〜100℃、好ま
しくは約15〜25℃で1〜5時間行う。その後、反応
液を氷冷却下で塩酸、硫酸等の鉱酸の水溶液にあけ、常
法により有機層を抽出分離、処理することによりジヒド
ロ−β−ビニル−ヨノールをジヒドロ−β−ヨノンに対
して高収率(約85%)で得ることができる。
【0022】なお、溶媒として低沸点の溶媒、例えばテ
トラヒドロフランを使用した場合には、CH=CHM
gXをジヒドロ−β−ヨノンに作用させた後に、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、好
ましくはトルエンを反応容器に加え、徐々に加熱し、テ
トラヒドロフランを留去させる。反応容器を100℃に
まで加熱して大部分のテトラハイドロフランを留去させ
た後に、反応液を室温まで冷却し、氷冷却下で塩酸、硫
酸等の鉱酸の水溶液にあけることにより、水を含まない
状態でテトラハイドロフランを回収することができる。
【0023】工程C 工程Bで得られたジヒドロ−β−ビニル−ヨノールか
ら、その水酸基をクロロギ酸エチル等のハロゲン化ギ酸
エステルで炭酸エステル化することにより式(5)のジ
ヒドロ−β−ビニル−ヨノール炭酸エステル(式中Rは
メチル、エチル等の脂肪族アルキル基である)を形成す
る。この場合、炭酸エステル化前に、ジヒドロ−β−ビ
ニル−ヨノールの水酸基をアルカリ金属の水素化物、例
えば水素化ナトリウム等でナトリウムアルコシキドとし
た後に、クロロギ酸エステル等を反応させることが好ま
しい。
【0024】即ち、ジヒドロ−β−ビニル−ヨノールを
テトラハイドロフランやジオキサン等のエーテル系溶媒
もしくはベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒、
好ましくはトルエン中で、わずかに過剰当量の水素化ナ
トリウムを水素ガスが生じなくなるまで還流下で反応さ
せ、0〜5℃に冷却する。その後にハロゲン化ギ酸エス
テルを反応液に添加し、室温まで昇温して反応を完了さ
せ、この反応液を氷冷下で水にあけて炭化水素系溶媒で
抽出し、常法により分離、処理することによりジヒドロ
−β−ビニル−ヨノールの炭酸エステルがほぼ定量的に
得られる。
【0025】工程D 工程Cで得られたジヒドロ−β−ビニル−ヨノールの炭
酸エステルに一酸化炭素ガスをパラジウム触媒の存在下
で反応させて式(6)のβ−モノシクロホモファルネシ
ル酸を形成する。使用するパラジウム触媒の種類として
は、酢酸パラジウム、塩化パラジウムなどの2価の塩類
や、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム
などの0価の錯体、パラジウムカーボン、パラジウムア
ルミナなどの担体付触媒が使用できる。中でも、工業的
に回収操作の容易なパラジウムカーボンが好ましい。パ
ラジウム触媒の使用量は、触媒の種類により異なるが、
ジヒドロ−β−ビニル−ヨノールの炭酸エステルに対し
一般に0.01〜50重量%、好ましくは2〜10重量
%,より好ましくは4〜6重量%である。
【0026】また、リガンドとなる化合物として、無置
換あるいは置換トリアリールホスフィン類、トリアルキ
ルホスフィン類、ビスジフェニルホスフィノエタンなど
の2座配位型の化合物を使用することができ、好ましく
はトリ−オルト−トリルホスフィンを使用する。このよ
うな化合物の使用量は、使用するパラジウム触媒の種類
により異なるが、触媒としてパラジウムカーボンを使用
した場合に、パラジウムカーボンに担持されている金属
パラジウムに対して0.5〜10倍モル当量、好ましく
は3〜5倍モル当量である。
【0027】また、この工程Dにおいては溶媒を使用す
ることが好ましく、例えばメタノール、エタノール、イ
ソプロパノール等の脂肪族低級アルコール、好ましくは
イソプロパノールを使用する。このような溶媒の使用量
は、一般にはジヒドロ−β−ビニル−ヨノールの炭酸エ
ステルに対して重量で0.5〜10倍、好ましくは3〜
7倍程度である。
【0028】反応操作としては、まず一酸化炭素をガス
圧力1〜100気圧、好ましくは40〜60気圧で反応
容器に導入し、反応温度30〜100℃、好ましくは4
0〜60℃で約5時間反応させる。反応終了後、触媒を
濾別する。濾液に過剰量の水酸化ナトリウム等のアルカ
リ金属水酸化物の10〜50%,好ましくは30%水溶
液を加え、20〜80℃、好ましくは約30〜50℃に
加温して加水分解を行い、常法に従ってβ−モノシクロ
ホモファルネシル酸をジヒドロ−β−ビニルヨノールの
炭酸エステルに対し高収率(65〜75%)で得ること
ができる。
【0029】工程E 工程Dで得られたβ−モノシクロホモファルネシル酸を
酸触媒の存在下で環化させて式(7)の(±)−ノルア
ンブレノリドを形成する。使用する酸触媒としては、塩
酸、硫酸等の鉱酸類、塩化第2スズ、ボロントリフルオ
ロエーテレート等のルイス酸、パラトルエンスルホン
酸、フルオロスルホン酸、クロルスルホン酸等のスルホ
ン酸類などを使用することができる。中でも、コスト、
安全性、環化収率等の点から、酸触媒としてはクロルス
ルホン酸が好ましい。
【0030】また、このような酸触媒は、β−モノシク
ロホモファルネシル酸に対して通常1〜5倍モル、好ま
しくは1.5〜2.5倍モルの量で使用する。
【0031】このような酸触媒の存在下、環化反応は、
ニトロメタン、ニトロプロパン等のニトロアルカン類、
ジクロロメタン、トリクロロメタン等の塩素化炭化水素
類、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン等のエ
ーテル類或いはアセトニトリルなどの溶媒、好ましくは
ジクロロメタン中で、反応温度−100〜0℃、好まし
くは−80〜−30℃の温度で約0.1〜1時間、好ま
しくは0.4〜0.6時間行う。
【0032】反応終了後、反応液を氷水に注ぎ,ジクロ
ロメタン等の溶媒で有機層を抽出し、常法に従って処理
して得られる粗生成物をn−ヘキサン、n−ヘプタン等
の炭化水素系溶媒を用いて再結晶することにより(±)
−ノルアンブレノリドを高収率(約85%)で得ること
ができる。この場合、式(8)の(±)−9−epi−
ノルアンブレノリドが副生する。両者の生成比率は、β
−モノシクロホモファルネシル酸のカルボン酸のβγ位
の2重結合の立体化学に依存し、トランス体から(±)
−ノルアンブレノリド、シス体から(±)−9−epi
−ノルアンブレノリドが生成する。一般に両者の比率は
(±)−ノルアンブレノリドが60〜65%、(±)−
9−epi−ノルアンブレノリドが35〜40%であ
る。
【0033】工程F 次に工程Eで得られた(±)−ノルアンブレノリドを加
水分解して式(9)の(±)−2,5,5,8a−テト
ラメチル−1−(カルボキシメチル)−2−ヒドロキシ
デカリン(以下、(±)HC酸と称する)を製造する。
工程Eで得られた(±)−ノルアンブレノリドは(±)
−9−epi−ノルアンブレノリドを不純物として含有
しているので、両者を分離する必要がある。この分離
は、分別再結晶法やカラムクロマトグラフィー法などに
より行うこともできるが、両者の混合物を単にアルカリ
加水分解することにより(±)−ノルアンブレノリドの
みが加水分解されるという事実に基づき、以下に述べる
簡便な方法により両者の分離と(±)HC酸との形成を
同時に行うことができる。
【0034】即ち、(±)−ノルアンブレノリドと
(±)−9−epi−ノルアンブレノリドとの混合物を
1〜20重量倍、好ましくは5重量倍のメタノール、エ
タノール等の脂肪族低級アルコールに溶解させた後に、
過剰モル量、好ましくは2〜5モル倍当量の水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の1
0〜50%,好ましくは30%水溶液を加えて、好まし
くは60〜70℃或いは還流条件下で約5時間加水分解
を行う。この条件下では、(±)−ノルアンブレノリド
が選択的に加水分解して(±)HC酸の塩となるが、
(±)−9−epi−ノルアンブレノリドはこの条件で
はほとんど加水分解しない。この後は常法に従って両者
を分離すればよい。例えば、加水分解後の反応液を室温
まで冷却し、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の炭化水素
類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等の脂
肪族エーテル類などの抽出溶媒を加え未反応の(±)−
9−epi−ノルアンブレノリドを抽出する。残った水
層に氷冷下で硫酸、塩酸等の鉱酸の水溶液を加えて酸性
化し、フリーの(±)HC酸とし、脂肪族炭化水素類、
脂肪族エーテル類、酢酸エステル類等の溶媒で抽出し
て、常法により処理することにより純度の高い(±)H
C酸が得られる。
【0035】工程G 次に、工程Fで得られた光学不活性な(±)HC酸を、
分割剤として光学活性な1−(アリール)エチルアミン
と反応させて、(+)HC酸と(−)HC酸とに対応す
る2種のジアステレオマー塩を形成する。この場合、
(±)HC酸と分割剤とを溶媒中に加熱溶解させること
により行うことが好ましい。
【0036】この反応に使用する分割剤としての光学活
性な1−(アリール)エチルアミンとしては、種々のア
ミン類を使用することができるが、入手容易性、ジアス
テレオマー塩の形成のし易さ等の点から(+)又は
(−)−1−(p−トリル)−エチルアミン又は(+)
又は(−)−1−(α−ナフチル)−エチルアミンが好
ましい。また、(±)−HC酸と分割剤とのモル比は特
に限定されないが、分割を効率良く且つ高純度で実施す
るために、(±)HC酸に対し分割剤を0.4〜1.0
モル当量使用することが好ましい。
【0037】また、溶媒としては、メタノール、エタノ
ール、n−プロパノール、イソプロパノール,n−ブタ
ノール等のC1〜6、好ましくはC1〜4アルコール
類、アセトン、メチルイソブチルケトン等のC3〜6の
アルキルケトン類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
テトラヒドロピラン等のエーテル類、、水又はそれらの
混合物、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類、シクロヘキサン等のC3〜8シクロアルカン
類、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、n−
デカン等のアルカン類などを使用することができる。中
でも、高純度の光学活性な(+)又は(−)HC酸を得
るためには水とメタノールの混合溶媒又はジオキサンを
溶媒として使用することが好ましい。
【0038】なお、溶媒として水を用いた場合には、ジ
アステレオマー塩を形成後に未反応の(±)HC酸と水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ
やアンモニアなどの塩基により中和することができるの
で、より高純度の光学活性な(+)又は(−)HC酸を
得ることができる。
【0039】使用する溶媒の量は、分割剤の種類、溶媒
の種類、ジアステレオマー塩の溶解度等により異なる
が、分割剤として光学活性な1−(p−トリル)−エチ
ルアミン又は1−(α−ナフチル)−エチルアミンを使
用した場合には、分割剤1モルあたり1〜20リットル
使用する。
【0040】なお、得られるジアステレオマー塩は、使
用する分割剤が(+)−1−(アリール)エチルアミン
の場合に、(+)HC酸と(−)HC酸とに対応して、
[(+)HC酸・(+)−1−(アリール)エチルアミ
ン]塩と[(−)HC酸・(+)−1−(アリール)エ
チルアミン]塩の2種の化合物である。また、使用する
分割剤が(−)−1−(アリール)エチルアミンの場合
に、(+)HC酸と(−)HC酸とに対応して、
[(+)HC酸・(−)−1−(アリール)エチルアミ
ン]塩と[(−)HC酸・(−)−1−(アリール)エ
チルアミン]塩の2種のジアステレオマー塩が得られ
る。
【0041】次に、2種のジアステレオマー塩を常法に
より分離する。例えば、ジアステレオマー塩の溶媒に対
する溶解度差を利用して分離することができる。この場
合、ジアステレオマー塩を形成した反応液から一方のよ
り難溶性のジアステレオマ−塩だけを晶析させるため
に、反応液を所定の晶析温度に冷却して過飽和状態とし
その状態を維持することが好ましい。晶析温度は、溶媒
の種類やその量、ジアステレオマーの溶解度差等により
異なるが、経済的な見地から−20〜+50℃の範囲で
ある。なお、一方のジアステレオマー塩を析出させる場
合に、その少量のジアステレオマー塩を種結晶として反
応液に加えることが好ましい。また、析出したジアステ
レオマー塩は、濾過や遠心分離などの一般的手法により
単離することができる。
【0042】最後に、得られたジアステレオマー塩を常
法によりフリーのカルボン酸とすることにより目的の
(+)又は(−)HC酸を得る。例えば、得られたジア
ステレオマー塩をメタノール等の溶媒と水との混合溶媒
に溶解し、塩酸、硫酸、燐酸、などの鉱酸類、p−トル
エンスルホン等のスルホン酸類などの酸を加えて酸性化
することによりフリーのカルボン酸を有する(+)又は
(−)HC酸とし、これを酢酸エチル等の溶媒で抽出
し、洗浄後、溶媒を除去することにより高純度の(+)
又は(−)HC酸を得ることができる。なお、必要に応
じ、光学活性の分割剤を回収するために、ジアステレオ
マ−塩溶液を酸性化する前に水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、ナトリウムメトキシドなどの塩基により溶液
をアルカリ性とした後にエーテル等の抽出溶媒で光学活
性な分割剤を回収除去してもよく、また、酸を加えて
(+)又は(−)HC酸を抽出した水性残液に対してこ
のような回収操作を行ってもよい。
【0043】なお、分離されたジアステレオマー塩の光
学純度は常法により求めることができる。例えば、旋光
度やNMRのデ−タから以下に説明するように求めるこ
とができる。
【0044】旋光度により光学純度を求める場合 (−)体の1−(p−トリル)エチルアミンとの塩であ
るジアステレオマー塩をメタノールに溶解させて旋光度
を測定する。これとは別に、天然のスクラレオールから
導いた(−)HC酸{[α] 29−3.17°(c=
0.50、メタノール)}の(−)体の1−(p−トリ
ル)エチルアミンとの塩の旋光度を測定し、その結果
{[α] 30+16.18°(c=1.00)}と先
に得たジアステレオマー塩の旋光度と比較することによ
り光学純度を求めることができる。
【0045】NMRにより光学純度を求める場合 まず、測定の前段階として、光学不活性なヒドロキシカ
ルボン酸に等モル量の(−)体の1−(α−ナフチル)
エチルアミンを作用させて塩を形成し、これを重水素ク
ロロホルムに溶解し、プロトンNMRを測定し、δ1.
12ppmとδ1.15ppmにジアステレオマ−に由
来する1:1の比率で分離したメチル基のシグナルが存
在することを確認する。また、天然のスクラレオールか
ら導いた(−)HC酸と(−)体の1−(α−ナフチ
ル)エチルアミンとからなる塩のNMRデーターからδ
1.12ppmのシグナルだけが存在することを確認す
る。このシグナルは以下に示すようにC8位のメチル基
に由来する。
【0046】
【化12】 このような事実を踏まえて、次にこの発明で得たジアス
テレオマー塩のNMRを測定し、δ1.12ppmとδ
1.15ppmのシグナルの相対強度から光学純度を求
めることができる。
【0047】工程H 工程Gで得られた式(10)の(−)HC酸を常法に従
ってラクトン化して式(11)の(+)−ノルアンブレ
ノリドを形成する。例えば、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素溶媒に(−)HC酸を溶解させて加熱還流
させ、生成する水を除去することにより行うことができ
る。
【0048】工程I 工程Hで得られた(+)−ノルアンブレノリドを、還元
剤として水素化金属化合物を用いて、好ましくは溶媒中
で式(12)の(−)−2,5,5,8a−テトラメチ
ル−1−(ヒドロキシエチル)−2−ヒドロキシデカリ
ン(以下、(−)ジオ−ルと称する)を形成する。
【0049】水素化金属化合物としては、ラクトン環を
開環してジオールにすることができる還元剤の中から適
宜選択して使用することができる。このような還元剤と
しては、水素化ビス−(2−メトキシ−エトキシ)−ア
ルミニウムナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、
水素化ジイソブチルアルミニウム等の水素化アルミニウ
ム化合物を好ましく使用することができる。還元剤は、
(+)−ノルアンブレノリドに対して、等モル量よりも
若干過剰となる量で使用すればよく、また反応温度は、
使用する還元剤の種類などにより異なるが、一般に20
〜80℃の範囲内である。
【0050】この工程で使用できる溶媒としては、エー
テル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類などを例示す
ることができる。
【0051】還元反応終了後の後処理は常法により行う
ことができる。例えば、反応混合物を、氷冷下で塩酸、
硫酸等の鉱酸水溶液中に注ぎ入れた後、n−ヘキサン等
の炭化水素系溶媒などで抽出し、抽出液を炭酸水素ナト
リウム水溶液で洗浄後、水層が中性になるまで水洗し、
最後に飽和食塩水で洗浄した後、溶媒を留去することに
より行うことができる。
【0052】工程J 工程Iで得られた(−)ジオールを常法により脱水環化
することにより目的化合物である式(1)のL−アンブ
ロックスを得る。例えば、(−)ジオールを塩基の存在
下でp−トルエンスルホン酸クロリドを接触させること
によりL−アンブロックスを得ることができる。
【0053】反応に使用できる塩基としては、ピリジ
ン、キノリン、トリエチルアミンなどの窒素原子含有有
機塩基を使用することができる。この塩基の使用量は、
(−)ジオールに対して重量で1〜10倍、好ましくは
5倍程度の量である。また、p−トルエンスルホン酸ク
ロリドの使用量は、(−)ジオールに対して1〜10モ
ル倍、好ましくは2モル倍程度の量である。反応温度
は、使用する塩基の種類等により異なるが、−20〜+
60℃の範囲であり、反応時間は使用する塩基の種類、
反応温度等により異なるが、2〜20時間適度である。
【0054】反応終了後の後処理は常法により行うこと
ができる。例えば、反応混合物を、氷冷下で水中に注ぎ
入れた後、n−ヘキサン等の炭化水素系溶媒などで抽出
し、抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、水層
が中性になるまで水洗し、最後に飽和食塩水で洗浄した
後、溶媒を留去することにより行うことができる。
【0055】
【作用】この発明のL−アンブロックスの製造方法によ
れば、(−)HC酸を原料とするので、簡便な手段で所
望の立体構造を最終目的化合物にまで維持しながら製造
することが可能となる。特に、(−)HC酸を、β−ヨ
ノンを出発原料としてパラジウム触媒存在下で一酸化炭
素挿入反応を利用して製造したものを使用した場合に
は、原料供給に問題がなく、しかも重金属酸化剤を使用
しないので、低コストで工業的にも有利なL−アンブロ
ックスの製造方法となる。
【0056】
【実施例】以下、この発明を実施例により具体的に説明
する。
【0057】実施例1 攪拌装置を備えた300mlのオートクレーブに、触媒
として1.2gのニッケルケイソウ土(N−113、日
揮化学製)と80gのエタノールとを仕込み、水素圧1
0気圧、150℃で3時間、還元処理を施した後に、1
20gのβ−ヨノンを添加し、水素圧10気圧、温度8
0℃で5時間、水素添加反応を行った。
【0058】反応終了後、触媒を濾別し、濾液から溶媒
を留去した残油を減圧蒸留することによりジヒドロ−β
−ヨノンを115.6g得た(沸点70〜72℃/0.
4Torr、純度94.0%、収率89.6%)。ま
た、そのHNMRと13CNMRのデ−タは以下の通
りである。
【0059】HNMR(300MHz、CDC
):δ0.885(s,6H,2×CH),1.
28〜1.35(m,2H,CH),1.473
(s,3H,CH),1.42〜1.52(m,2
H,CH),1.806(t,J=6.0Hz,2
H,CH),2.045(s,3H,CH),2.
10〜2.20(m,2H,CH),2.36〜2.
44(m,2H,CH).13 CNMR(75.5MHz、CDCl):δ1
9.2(t),19.5(q),22.0(t).2
8.2(2×q),29.5(q),32.5(t),
34.8(s),39,5(t),44.3(t),1
27.5(s),135.7(s),208.4
(s)。
【0060】実施例2 テトラヒドロフラン800ml中にビニルマグネシウム
クロライド45.57g(0.525モル)を含む溶液
を氷冷し、窒素雰囲気下で実施例1で得られたジヒドロ
−β−ヨノン103.2g(純度94.0%、0.50
モル)を15〜20℃の温度範囲で約1時間に亘って滴
下した。
【0061】滴下後、トルエン1000mlを反応液に
加え、徐々に加熱し、テトラハイドロフランを留去しな
がら、反応液の温度が100℃になるまで加熱を続け、
大部分のテトラヒドロフランを回収した後、室温まで反
応液を冷却し、氷冷した5%硫酸水溶液600gの中へ
反応混合物を注ぎ入れ、トルエンで抽出した。トルエン
層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、更に水層が中
性になるまで水洗し、最後に飽和食塩水で洗浄し、常法
に従ってトルエンを留去し、残渣を減圧蒸留しジヒドロ
−β−ビニル−ヨノ−ル99.3g(沸点82〜83℃
/0.4Torr、純度95.0%、収率85.0%)
を得た。また、そのHNMRと13CNMRのデ−タ
は以下の通りである。
【0062】HNMR(300MHz、CDC
):δ0.944(s,6H,2×CH),1.
262(s,3H,CH),1.32〜1.40
(m,2H),1.538(s,3H,CH),1.
45〜1.60(m,4H),1.852(t,J=
6.0Hz,2H,CH),1.90〜2.10
(m,2H),5.03(d,J=10.8Hz,1
H),5.20(d,J=17.3Hz,1H),5.
91(dd,J=10.8,17.3Hz,1H).13 CNMR(75.5MHz、CDCl):δ1
9.4(t),19.6(q),22.6(t),2
7.3(q),28.5(2×q),32.6(t),
34.9(s),39.7(t),42.2(t),7
3.3(s),111.6(t),126.7(s),
136.5(s),144.8(d)。
【0063】実施例3 トルエン800ml中に窒素雰囲気下で水素化ナトリウ
ム16.8g(60%品、0.42モル)を加え、次に
実施例2で得られたジヒドロ−β−ビニル−ヨノール9
3.5g(純度95%、0.40モル)を室温で加え、
還流下10時間反応させた。
【0064】次に0〜5℃でクロルギ酸メチル39.7
g(0.42モル)を加えた後に、更に室温で2時間攪
拌した。この反応液を氷冷下、水1000mlに注ぎ入
れた後、有機層をトルエンで抽出し、水層が中性になる
まで水洗し、最後に飽和食塩水で洗浄したのち、溶媒を
除去し、ジヒドロ−β−ビニル−ヨノールの炭酸メチル
エステル113.5g(純度95%、収率96.3%)
を得た。また、そのHNMRのデ−タは以下の通りで
ある。
【0065】HNMR(300MHz、CDC
):δ0.973(s,6H,2×CH),1.
37〜1.43(m,2H),1.572(s,3H,
CH),1.602(s,3H,CH),1.50
〜1.60(m,2H),1.80〜2.05(m,4
H),5.20(d,J=11Hz,1H),5.24
(d,J=18Hz,1H),6.04(dd,J=1
1.18Hz,1H)。
【0066】実施例4 300mlのオートクレーブに実施例3で得られたジヒ
ドロ−β−ビニル−ヨノールの炭酸メチルエステル5
8.9g(純度95%、0.2モル)、パラジウムカー
ボン0.85g(5%担持品、0.4ミリモル)、トリ
−オルトトリル−ホスフィン0.487g(1.6ミリ
モル)、及びイソプロパノール120gを仕込み、50
〜60℃の温度範囲、一酸化炭素圧50気圧という条件
で5時間攪拌した。
【0067】反応終了後、反応混合物をオートクレーブ
より取り出し、触媒を濾別し、濾液に30%水酸化ナト
リウム水溶液60gを加え、40℃で2時間攪拌した。
その後、反応液を室温まで冷却し、n−ヘキサン(10
0ml×2回)で中性成分を抽出した。次いで氷冷下、
5%硫酸水溶液500gを加えて酸性化したのち、n−
ヘキサン(200ml×2回)を加えて抽出した。n−
ヘキサン層を水層が中性になるまで水洗し、最後に飽和
食塩水で洗浄し、溶媒を留去してβ−モノシクロホモフ
ァルネシル酸35.6g(収率71.2%)を得た。
【0068】なお、得られたβ−モノシクロホモファル
ネシル酸のカルボキシル基のβγ位の2重結合に基づく
異性体の比率はNMR分析によれは、シス体:トランス
体=33:67であった。
【0069】HNMR(300MHz、CDC
):トランス体に特徴的シグナル;δ0.996
(s,6H,2×CH),1.606(s,3H,C
),1.682(s,3H,CH),3.08
(d,J=7Hz,2H),5.35(t,J=7H
z,1H). シス体に特徴的シグナル;δ1.014(s,6H,2
×CH),1.644(s,3H,CH),1.8
05(s,3H,CH),3.12(d,J=7H
z,2H),5.28(t,J=7Hz,1H). その他のシグナル;1.38〜1.46(m,2H),
1.52〜1.62(m,2H),1.86〜1.96
(m,2H)、2.05〜2.10(m,4H)。
【0070】実施例5 実施例4で得られたβ−モノシクロホモファルネシル酸
25.0g(0.10モル)のジクロロメタン50ml
溶液を、窒素雰囲気下において、−60〜−70℃に冷
却したクロロスルホン酸23.3g(0.2モル)とジ
クロロメタン200mlとの溶液に滴下した。滴下終了
後、20分間攪拌した後、反応液を氷500gに注ぎ、
ジクロロメタンで有機層を抽出した。ジクロロメタン層
を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、水層が中性にな
るまで水洗し、最後に飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去
し粗−ノルアンブレノリドを得、更にn−ヘキサンで再
結晶することにより20.8gのノルアンブレノリド
(収率83.2%)の結晶を得た。なお、結晶は、
(±)−ノルアンブレノリドと(±)−9−epi−ノ
ルアンブレノリドとの混合物であった(67:33)。
【0071】次に、この混合結晶をメタノール100m
lに溶解し、30%水酸化ナトリウム30gを加え、還
流条件下で加水分解した。これにより(±)−ノルアン
ブレノリドが選択的に加水分解され水層に移行した。室
温まで冷却した反応液から加水分解されなかった(±)
−9−epi−ノルアンブレノリドをn−ヘキサン(1
00ml×3回)で抽出分離し、残った水性反応液に、
氷冷下、5%硫酸水溶液250gを加え酸性化した後
に、酢酸エチル(100ml×3回)で抽出し、水層が
中性になるまで水洗し、最後に飽和食塩水で洗浄し、溶
媒を留去し(±)−ノルアンブレノリドのラクトン環が
開環した(±)HC酸、即ち[IUPAC名、(±)−
2,5,5,8a−テトラメチル−1−(カルボキシメ
チル)−2−ヒドロキシデカリン]の結晶13.3gを
得た。これらの化合物の物理化学的性質は以下の通りで
ある。
【0072】(±)HC酸[IUPAC名、(±)−
2,5,5,8a−テトラメチル−1−(カルボキシメ
チル)−2−ヒドロキシデカリン] 融点:73〜75℃ HNMR(300MHz、CDCl):δ0.79
9(s,6H,2×CH),0.886(s,3H,
CH),1.172(s,3H,CH),0.94
〜1.75(m,10H),1.835(t,J=6H
z,1H),1.95(dt,J=3,13Hz,1
H),2.34(dd,J=4,16Hz,1H),
2.51(dd,J=6,16Hz).13 CNMR(75.5MHz、CDCl):δ1
5.8(q),18.8(t),20.8(t),2
1.8(q),23.5(q),30.5(t),3
3.6(s),33.7(q),38.9(s),3
9.6(t),42.1(t),44.7(t),5
6.2(d),58.0(d),77.9(s),18
0.5(s)。
【0073】(±)−ノルアンブレノリド 融点:115〜116℃ HNMR(300MHz、CDCl):δ0.82
9(s,3H,CH),0.876(s,3H,CH
),0.904(s,3H,CH),1.326
(s,3H,CH),0.94〜1.91(m,10
H),1.96(dd,J=6,14Hz,1H),
2.07(dt,J=3,12Hz,1H),2.22
(dd,J=6,16Hz,1H),2.40(dd,
J=14,16Hz,1H).13 CNMR(75.5MHz、CDCl):δ1
5.0(q),18.0(t),20.5(t),2
0.9(q),21.5(q),28.7(t),3
3.0(s),33.1(q),36.0(s),3
8.7(t),39.4(t),42.1(t),5
6.6(d),59.0(d),86.3(s),17
6.8(s)。
【0074】(±)−9−epi−ノルアンブレノリド 融点:93〜94℃ HNMR(300MHz、CDCl):δ0.82
3(s,3H,CH),0.908(s,3H,CH
),1.101(s,3H,CH),1.546
(s,3H,CH),1.02〜1.68(m,10
H),1.95〜2.05(m,2H),2.40(d
d,J=8,17Hz,1H),2.62(dd,J=
14,17Hz,1H).13 CNMR(75.5MHz、CDCl):δ1
8.0(t),19.1(t),21.7(q),2
2.7(q),27.2(q),32.5(t),3
2.7(s),33.3(q),35.8(s),3
6.9(t),38.1(t),41.8(t),4
6.4(d),56.7(d),85.9(s),17
5.5(s)。
【0075】実施例6 ジオキサン150mlに実施例5で得られた(±)HC
酸1.34g(5.00mmol)、及び(−)−1−
(p−トリル)エチルアミン0.54g(4.00mm
ol)を加え加熱溶解した後、室温まで徐冷し、一晩撹
拌した。析出した結晶を濾別することにより(−)HC
酸・(−)−1−(p−トリル)エチルアミン塩を0.
866g(2.149mmol)を得た。用いた(−)
HC酸に対する収率は86.0%、旋光度は[α]
30+9.42°(c=1.0、メタノール)であり、
光学純度は58.2%であった。
【0076】この塩をジオキサン30mlから再結晶す
ることにより、(−)HC酸・(−)−1−(p−トリ
ル)エチルアミン塩を0.587g(1.457mmo
l)を得た。用いた(−)HC酸に対する収率は58.
2%、旋光度は[α] 30+15.27°(c=1.
0、メタノール)であり、光学純度は94.4%であっ
た。
【0077】この塩に1規定の水酸化ナトリウム水溶液
2.0mlを加え加水分解した後に、エーテル抽出して
(−)−1−(p−トリル)エチルアミンを回収した。
エーテル抽出した後の水層に、1規定の塩酸2.5ml
を加えた後、エーテル抽出し、エーテル層を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、減圧下でエーテルを除去することに
より、(−)HC酸を0.375g(1.399mmo
l、収率56.0%)。
【0078】実施例7 メタノール63ml、水40mlの混合液に実施例5で
得られた(±)HC酸5.36g(20.0mmo
l)、(−)−1−(p−トリル)エチルアミン1.3
5g(10.0mmol)及び1規定水酸化ナトリウム
溶液10ml(10.0mmol)を加え加熱溶解した
後、室温まで徐冷し、一晩撹拌した。析出した結晶を濾
別することにより(−)HC酸・(−)−1−(p−ト
リル)エチルアミン塩を2.859g(7.094mm
ol)を得た。用いた(−)HC酸に対する収率は7
0.9%、旋光度は[α] 30+15.66°(c=
1.0、メタノール)であり、光学純度は96.8%で
あった。
【0079】この塩に1規定の水酸化ナトリウム水溶液
10.0mlを加え加水分解した後に、エーテル抽出し
て(−)−1−(p−トリル)エチルアミンを回収し
た。エーテル抽出した後の水層に、1規定の塩酸12.
5mlを加えた後、エーテル抽出し、エーテル層を無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下でエーテルを除去する
ことにより、(−)HC酸を1.825g(6.810
mmol、収率68.1%)を得た。
【0080】実施例8 メタノール32ml、水20mlの混合液に実施例5で
得られた(±)HC酸2.68g(10.00mmo
l)、(−)−1−(α−ナフチル)エチルアミン0.
865g(5.00mmol)及び1規定水酸化ナトリ
ウム溶液5ml(5.00mmol)を加え加熱溶解し
た後、室温まで徐冷し、一晩撹拌した。析出した結晶を
濾別することにより(−)HC酸・(−)−1−(α−
ナフチル)エチルアミン塩を1.497g(3.408
mmol)を得た。用いた(−)HC酸に対する収率は
68.2%、プロトンNMR測定により(+)HC・
(−)−1−(α−ナフチル)エチルアミン塩と(−)
HC・(−)−1−(α−ナフチル)エチルアミン塩と
の比率は5.60:94.4であり、光学純度は88.
8%であった。
【0081】この塩に1規定の水酸化ナトリウム水溶液
7.0mlを加え加水分解した後に、エーテル抽出して
(−)−1−(α−ナフチル)エチルアミンを回収し
た。エーテル抽出した後の水層に、1規定の塩酸12.
5mlを加えた後、エーテル抽出し、エーテル層を無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下でエーテルを除去する
ことにより、(−)HC酸を0.860g(3.208
mmol、収率64.2%)を得た。
【0082】実施例9 水分離装置付の還流冷却器を取り付けたフラスコに、実
施例6,7又は8で得られた(−)HC酸26.8g
(0.10モル)、トルエン500mlを仕込み、生成
する水分を除去しながら還流条件下で5時間反応させる
ことにより(−)HC酸のラクトン化を行った。
【0083】反応後、トルエンを留去し(+)−ノルア
ンブレノリドを定量的な収率で得た。この化合物の物理
化学諸性質は以下のとおりである。
【0084】融点:123〜124℃ [α] 28+46.5°(c=1.00,CHC
HNMR(300MHz,CDCl):δ0.82
9(s,3H,CH),0.876(s,3H,CH
),0.904(s,3H,CH),1.326
(s,3H,CH),0.94〜1.91(m,10
H),1.96(dd,J=6.14Hz,1H),
2.07(dt,J=3.12Hz,1H),2.22
(dd,J=6.16Hz,1H),2.40(dd,
J=14.16Hz,1H).13 CNMR(75.5MHz,CDCl):δ1
5.0(q),18.0(t),20.5(t),2
0.9(q),21.5(q),28.7(t),3
3.0(s),33.1(q),36.0(q),3
8.7(t),39.4(t),42.1(t),5
6.6(d),59.0(d),86.3(s),17
6.8(s)。
【0085】実施例10 水素化ビス−(2−メトキシ−エトキシ)−アルミニウ
ムナトリウム30.3g(トルエン分散物、含量70
%、ネット量21.2g(0.105モル))をトルエ
ン50gに希釈した溶液の中に、実施例9で得られた
(+)−ノルアンブレノリド24.9gをトルエン65
gに溶解させた溶液を、20〜30℃の温度で滴下した
後、反応液の温度を60℃に加温して2時間撹拌した。
【0086】反応終了後、反応混合物を氷冷下で5%硫
酸水溶液350g中に注ぎ入れ、有機層をトルエンで抽
出した後、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、水層が
中性になるまで水洗し、最後に飽和食塩水で洗浄した後
にトルエンを留去することにより(−)ジオール25.
1g((−)HC酸からの収率98.8%)を得た。こ
の化合物の物理化学諸性質は以下のとおりである。
【0087】[α] 28−3.40°(c=0.5
0,MeOH) HNMR(300MHz,CDCl):δ0.78
5(s,6H,2×CH),0.870(s,3H,
CH),0.86〜0.950(m,1H),1.1
86(s,3H,CH),1.07〜1.71(m,
13H),1.89(dt,J=12,3Hz,1
H),3.10〜3.35(br,2H,2×OH),
3.43(dt,J=10,7Hz,1H),3.77
(dt,J=10,5Hz,1H).13 CNMR(75.5MHz,CDCl):δ1
5.3(q),18.4(t),20.4(t),2
1.4(q),24.6(q),27.8(t),3
3.2(s),33.4(q),38.9(s),3
9.3(t),41.8(t),44.2(t),5
6.0(d),59.2(d),64.0(t),7
3.0(t)。
【0088】実施例11 反応容器に実施例10で得られた(−)ジオール25.
0g(0.098モル)をピリジン120gに溶解し、
氷冷下、p−トルエンスルホン酸クロリド37.4g
(0.196モル)を仕込み、室温で24時間撹拌した
後、氷冷下で水500ml中に反応混合物を注ぎ入れ、
有機層をn−ヘキサン(300ml×3)で抽出し、5
%硫酸水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、水
層が中性になるまで水洗し、最後に飽和食塩水で洗浄し
た後にn−ヘキサンを留去することによりL−アンブロ
ックスの粗生成物22.8gを得た。この粗生成物を高
真空下で蒸留して、優れたアンバー香を有する純度98
%のL−アンブロックス16.5g((−)ジオールか
らの収率71.0%)を得た。
【0089】このL−アンブロックスを光学活性体分離
用キャピラリーカラム[クロムパック社製CP−Cyc
lodextrin B−236−M−19, φ0.
25mm×50m、インジェクション温度250℃、カ
ラム温度120−200℃昇温、1℃/分]で分析した
結果、L体[(−)体]が99%以上の比率で含まれて
いた。また、この化合物の物理化学諸性質は以下のとお
りである。
【0090】沸点:122〜124℃/0.4Torr 融点:74〜75℃ [α] 28−25.5°(c=1.00,CHC
HNMR(300MHz,CDCl):δ0.83
9(s,3H,CH),0.846(s,3H,CH
),0.884(s,3H,CH),1.093
(s,3H,CH),0.90〜1.80(m,13
H),1.91〜1.97(m,1H),3.78〜
3.96(m,2H).13 CNMR(75.5MHz,CDCl):δ1
4.7(q),18.1(t),20.3(t),2
0.8(2×q),22.3(t),32.7(s),
33.3(q),35.8(s),39.4(t),3
9.6(t),42.1(t),56.9(d),5
9.8(d),64.5(t),79.4(s)。
【0091】
【発明の効果】この発明によれば、L−アンブロックス
を低コスト且つ工業的に高い光学純度で製造できるよう
になった。特に、原料の(−)−2,5,5,8a−テ
トラメチル−1−(カルボキシメチル)−2−ヒドロキ
シデカリンとして、β−ヨノンを出発原料としてパラジ
ウム触媒存在下で一酸化炭素挿入反応を利用して製造し
たものを使用した場合には、原料供給に問題がなく、し
かも重金属酸化剤を使用しないので、低コストで工業的
にも有利にL−アンブロックスを製造することができ
た。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式(10) 【化1】 の(−)−2,5,5,8a−テトラメチル−1−(カ
    ルボキシメチル)−2−ヒドロキシデカリンを脱水反応
    によりラクトン化して式(11) 【化2】 のデカヒドロ−3a,6,6,9a−テトラメチル−
    (3aα,5aβ,9aα,9aβ)−(+)−ナフト
    [2,1−b]フラン−2(1H)−オンを形成し、更
    に金属水素化物により還元して式(12) 【化3】 の(−)−2,5,5,8a−テトラメチル−1−(ヒ
    ドロキシエチル)−2−ヒドロキシデカリンに変換した
    後、脱水環化することを特徴とする式(1) 【化4】 の(−)−3a,6,6,9a−テトラメチル−ドデカ
    ヒドロナフト[2,1−b]フランの製造方法。
JP35877891A 1991-12-29 1991-12-29 L−アンブロックスの製造方法 Pending JPH05186452A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP35877891A JPH05186452A (ja) 1991-12-29 1991-12-29 L−アンブロックスの製造方法
EP92121945A EP0550889B1 (en) 1991-12-29 1992-12-23 Process for producing L-Ambrox
DE69213916T DE69213916T2 (de) 1991-12-29 1992-12-23 Verfahren zur Herstellung von L-Ambrox
US07/995,978 US5290955A (en) 1991-12-29 1992-12-23 Process for producing L-ambrox
US08/116,605 US5347048A (en) 1991-12-29 1993-09-07 Process for producing (±)-2,5,5,8a-tetramethyl-1-(carboxymethyl)-2-hydroxydecalin

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP35877891A JPH05186452A (ja) 1991-12-29 1991-12-29 L−アンブロックスの製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05186452A true JPH05186452A (ja) 1993-07-27

Family

ID=18461063

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP35877891A Pending JPH05186452A (ja) 1991-12-29 1991-12-29 L−アンブロックスの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05186452A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008015977A1 (en) * 2006-07-31 2008-02-07 Kao Corporation PROCESS FOR PRODUCTION OF (±)-3a,6,6,9a– TETRAMETHYLDECAHYDRONAPHTHO[2,1-b]FURAN-2(1H)-ONE
JP2008508193A (ja) * 2004-07-30 2008-03-21 ジボダン エス エー 光学活性化合物の製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008508193A (ja) * 2004-07-30 2008-03-21 ジボダン エス エー 光学活性化合物の製造方法
WO2008015977A1 (en) * 2006-07-31 2008-02-07 Kao Corporation PROCESS FOR PRODUCTION OF (±)-3a,6,6,9a– TETRAMETHYLDECAHYDRONAPHTHO[2,1-b]FURAN-2(1H)-ONE
US8153826B2 (en) 2006-07-31 2012-04-10 Kao Corporation Process for production of (±)-3a,6,6,9a-Tetramethyldecahydronaphtho[2,1-b]Furan-2(1H)-one

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA2304809C (en) Process for the preparation of hydroxy substituted gamma butyrolactones
EP3107904B1 (en) Substituted delta-lactones and methods of preparing same
JP6980648B2 (ja) 3−ヒドロキシ−3,6−ジメチルヘキサヒドロベンゾフラン−2−オンおよびその誘導体の製造
US5290955A (en) Process for producing L-ambrox
US10975050B2 (en) Process for preparing optically pure (R)-4-n-propyl-dihydrofuran-2(3H)-one
JPH0977759A (ja) 光学活性環状化合物の製造方法
US5728866A (en) Process for the preparation of (+)-(1R) -cis-3-oxo-2-pentyl-1-cyclopentaneacetic acid
CA1265819A (en) Method for preparing ( )r-2-methyl-hexane-1,2-diol
JPH05186452A (ja) L−アンブロックスの製造方法
JP3099317B2 (ja) (±)−ノルアンブレノリドの製造方法
JP2006525294A (ja) 4−ヒドロキシイソロイシン及びその誘導体の製造方法
EP1167365B1 (en) Method of producing sesamol formic acid ester and sesamol
JP3828154B2 (ja) トリシクロカルボン酸エステル、その製造法およびそれからなる香料
JP2004161702A (ja) γ−ジャスモラクトンの製造方法
JPH0625137B2 (ja) ラセミ体形半エステルの分離方法
JPH05186388A (ja) (±)−2,5,5,8a−テトラメチル−1−(カルボキシメチル)−2−ヒドロキシデカリンの光学分割方法
JP4081619B2 (ja) 光学活性な5−ヒドロキシ−2−デセン酸の製造方法および光学活性なマソイヤラクトンの製造方法
JP2864491B2 (ja) 光学活性2−ノルボルナノンの製造方法
JP3254746B2 (ja) 末端アセチレン化合物およびその製造法
KR100469944B1 (ko) 히드록시테트라히드로퓨란의제조방법
JP4365602B2 (ja) 光学活性トランス−3−シクロヘキシル−オキシランカルボン酸の製造方法
JPS6234025B2 (ja)
JPH08104666A (ja) 4−イソプロピルシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体の製法
JPH0692918A (ja) 2−アミノメチルシクロプロパン−1−カルボン酸類
JP2001354615A (ja) 光学活性2,4−ジヒドロキシグルタル酸塩およびその製造方法