JPH05181290A - 電子写真感光体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 電子写真感光体のスプレー塗布方法におい
て、塗布液の種類毎に別々のスプレー塗布装置を設ける
ことなく、製造時間の短縮、製造コストの低下及び良品
率の向上する製造方法を提供する。 【構成】 導電性基体を回転させながら、塗布液の種類
毎に配置したスプレーノズルを一定の間隔を有して基体
の回転軸に対して平行して移動させることにより、基体
表面に塗布液を積層塗布する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は複写機、プリンター等の
電子写真感光体の連続生産において、スプレー式塗布法
によって安定した画像特性を有する電子写真感光体を製
造する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】複写機、プリンター等の電子写真感光体
は、アルミニウム等の導電性基体表面に縮合多環顔料も
しくはアゾ顔料等を含有する電荷発生層とヒドラゾン、
アリールアミン系等の材料を含有する電荷輸送層を積層
塗布することにより形成される。

【０００３】電子写真感光体等の塗布は主に浸漬塗布方
法で行なわれている。例えば導電性円筒状基体を塗布層
内の塗布液に浸漬し引き上げることにより基体表面に一
定膜厚の感光層を形成する。しかし、この浸漬塗布方法
は塗布液の使用効率が著しく悪く製品のコストアップの
一因となっている。

【０００４】塗布液の使用効率を上げる塗布方法として
リング方式がある。この方法は厚さ0.1mm 程度の樹脂成
形物（ブレード）を導電性円筒状基体よりも若干小さめ
にくり抜き（外径も同心円の方が好ましい）、ホルダー
にセットした中に塗布液を入れ（ブレードが円筒状基体
と密着しているため塗布液は洩れない）、該円筒状基体
を押し上げることにより塗膜を形成する方法である。こ
のリング式塗布法の場合、塗布液の使用効率は浸漬塗布
法よりも向上するが、装置が大きくなると共に、スペー
サーが必要となり、且つ該円筒状基体とスペーサーとの
嵌合部から塗布液がタレる欠点がある。更に、ブレード
との接触によるスジが該円筒状基体表面に入るため、画
像欠陥の原因となる等の問題があり、実際に使用されて
いる例は少ない。

【０００５】一般に、このような塗布技術を利用した感
光体の製造方法においては、かかる感光体を用いた画像
形成における画質の向上と画像欠陥の低減を図るため、
均一な感光層を形成すると共に、塗布液の使用効率を向
上させることや製造工程、製造時間を減らすことなどに
より、製造コストの低下が望まれている。

【０００６】しかしながら近年、感光体は円筒形のみな
らず、金属やポリエステルフィルム等のベルト状の基体
上に導電層を蒸着し、両端を接合したものが用いられて
いる。

【０００７】このような感光体は、円筒形の感光体と比
較して基体の肉厚が薄くて柔らかく、また、周方向の長
さが長いので、上述の浸漬塗布方法、リング式塗布方法
により製造すると塗布槽や装置全体が大きくなり、実際
的ではない。スプレイ式塗布方法は、このようなベルト
状の感光体を製造する場合にも好適であり、また、感光
層の厚みや質を比較的均一とし得る利点はある。更に、
かかるスプレイ式塗布方法は、塗布液の使用効率を例え
ば90％以上にも高めることができるので、製造コスト面
でも有利である。特に、スプレー塗布法は塗膜の積層化
が容易に可能であり、感光体の特性向上の面から塗膜の
積層化の容易性が重要視されている。

【０００８】図４は従来のスプレー式塗布装置の図であ
り、支持具17により導電性円筒状基体11を支持し、回転
軸18を回転させ、塗布液13をスプレーノズル19の先から
霧状にして該基体11上に吹き付け感光膜13ａを形成す
る。スプレーノズル19は該基体11の左端から右端を移動
する。

【０００９】しかしながら、図４のようなスプレー式塗
布方法は、一種類の塗布液しかスプレー出来ず、他の塗
布液を重ねて塗布する場合は、別のスプレー式塗布装置
を付け替えてスプレー塗布しなければならない。従っ
て、付け替える時間がロスとなり、且つ人手や塗布ロボ
ットも塗布液の種類毎に必要となるので、製造コスト高
を招き、その結果、塗布液の使用効率を高めることが製
造コストのダウンに反映できない。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】塗布液の種類毎のスプ
レー塗布装置を別々に設けることなく導電性基体の表面
に塗布液を積層する、製造時間の短縮された且つ製造コ
ストの安価な電子写真感光体の製造方法の提供が強く望
まれている。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者等の鋭意研究の
結果、導電性基体を回転させながら塗布液の種類毎に配
置したスプレーノズルを一定の間隔で該導電性基体の回
転軸に平行に移動させることにより、別のスプレー塗布
装置を設けることなく、該導電性基体の表面に塗布液を
積層塗布することが出来ることを見出し、この知見に基
づいて本発明を成すに至った。

【００１２】

【作用】図１乃至３は本発明のスプレー塗布方法の説明
図である。導電性基体11を基体クランパー12により支持
具17にクランプし、回転軸18の回転により導電性基体11
を回転する。電荷発生層用塗布液（第一層用塗布液）22
を噴霧するスプレーノズル２と電荷輸送層用塗布液（第
二層用塗布液）33を噴霧するスプレーノズル３とが成る
距離をおいて導電性基体の回転軸に直交するように配置
されている。

【００１３】スプレーノズル２、３は矢印Ｘｏの方向
に、導電性基体の表面から見て、一定の時間ずれて移動
する。スプレーノズル２、３は図１のように同一支持体
５上に設置されていても良いし、スプレーノズル２、３
はそれぞれ独立していても良い。スプレーノズル２及び
３の間の距離は、塗布された電荷輸送層用塗布液が流動
しないように乾燥する時間を所有する距離であれば、特
に限定はされないが、５cm以上であることが好ましい。
移動するスプレーノズルは塗布層の種類毎に導電性基体
の回転軸に対して実質的に平行に且つ直交するすように
配置されていれば良い。またスプレーノズルの数は塗布
液の数に相当し、例えば、下引き層、電荷発生層及び電
荷輸送層からなる感光体の場合には、３個のスプレーノ
ズルが配置される。各スプレーノズル間の距離は５cm以
上であることが好ましい。

【００１４】図２は電荷発生層用塗布液22を噴霧しはじ
めたところの本発明のスプレー塗布装置の図で、スプレ
ーノズル２による塗布は基体11の端部のスプレー塗布可
能な位置からスタートし、電荷発生層22ａが基体11の表
面に形成される。電荷輸送層用塗布液33はスプレーノズ
ル３が図２の位置にある時は噴霧されず、スプレーノズ
ル２の位置まで移動した時に初めて噴霧されるので、回
転軸18は塗布されることがない。

【００１５】図３は、電荷輸送層用塗布液33の噴霧が終
了しようとしているところの本発明のスプレー塗布装置
の図で、電荷発生層用塗布液22の噴霧は図３のスプレー
ノズル３の位置で既に終了しており、形成された電荷発
生層22ａの上に電荷輸送層33ａが形成される。

【００１６】各層の膜厚が異なる場合には、同じ塗布液
を噴霧するスプレーノズルを複数個設けることにより対
応出来る。

【００１７】スプレーノズルの移動距離（Ｘ₁ ）は電荷
発生層用塗布液（第一層用塗布液）が基体11の端部の塗
布可能な位置から電荷輸送層用塗布液（最上層用塗布
液）が基体の反対側端部の塗布可能な部分の塗布を終了
する位置までである。

【００１８】電荷発生層はその膜厚が１μm 以下と薄い
ので、乾燥処理を必ずしも必要としないが、導電性基体
との接着性の向上、電荷輸送層用塗布液を形成する溶剤
に対する不溶化及び電荷発生層中の残留溶剤による繰り
返し特性の残留電位の上昇を抑制する為に、電荷発生層
用塗布液の塗布と電荷輸送層用塗布液の塗布との間に乾
燥処理手段を設けるのが好ましい。

【００１９】図５及び６は乾燥処理手段としての乾燥ヒ
ーター付スプレー塗布装置の説明図である。乾燥ヒータ
ー１は、スプレーノズル２と３の間で、支持体５に取り
付けられていて、スプレーノズル２、３の移動と連動し
てＸｏの方向に移動する。乾燥ヒーター１がスプレーノ
ズル２、３の動きと連動してＸｏ方向に移動すれば、支
持体５に取り付けられている必要はなく、独立して設け
られていても良い。更に、乾燥ヒーター１は図６のよう
にリング状であれば乾燥効率も良く好ましいが、加熱空
気を吹き付けるような乾燥手段であっても良い。スプレ
ーノズル２と乾燥ヒーター１との距離は３０mm以上、乾
燥ヒーター１とスプレーノズル３との距離は３０mm以上
であることが好ましい。更に、基体表面とヒーターの距
離は５〜５０mmが好ましい。

【００２０】３層以上積層する場合には、各層を形成す
るスプレーノズルの間に乾燥手段を設ければ良い。

【００２１】電子写真感光体の製造はクリーンルーム内
で導電性基体の洗浄、乾燥、冷却後の感光層の形成がお
こなわれるが、クリーンルーム内であっても多少のダス
トが存在することから、導電性基体表面へのこれらのダ
ストの付着による塗布欠陥の発生の抑制と良品率の低下
を防止するため、導電性基体の表面に塗布液を塗布する
直前に、該基体表面に付着しているダストをエアー等の
気体を噴射し除去することが好ましい。

【００２２】図７及び８はエアーノズル付スプレー塗布
装置の説明図である。電荷発生層用塗布液（第一層用塗
布液）を噴霧するスプレーノズル２よりも移動方向で前
方に位置するエアーノズル４からコンプレサーより供給
された圧縮空気が、最初に導電性基体11表面に噴射さ
れ、該基体11表面に付着しているダストが吹き飛ばさ
れ、ダクト６により吸引・除去される。噴射される気体
はエアーの他に、窒素ガス、炭酸ガスを用いても良い。

【００２３】ダストはクリーンルーム内では導電性基体
11の表面に軽く乗っている状態であるので、エアーノズ
ル４はスプレーノズル２、３と同じ支持体５に設置され
る必要はなく、むしろスプレーノズル２、３より上方に
位置して、該基体11表面をエアーが通り抜けて、後方の
ダクト６にてエアーとダストが吸引されるように位置す
ることが好ましい。エアースプレー４とスプレーノズル
２との距離は80〜120mm が好ましく、近づきすぎると、
噴射されるエアーの流れに、塗布液スプレーミストの流
れが乱されて塗布ムラが発生し、遠すぎると塗布液が飛
散しすぎて、塗布液の使用効率が低下する。圧縮気体の
圧力は導電性基体表面に付着しているダストが吹き飛ば
されれば良く、特に制限はないが、４〜１０kg／cm² が
好ましい。

【００２４】図７のように、まず最初に圧縮エアーがエ
アーノズル４から噴射され、導電性基体の回転軸に平行
に矢印方向に移動する。エアーノズルの矢印方向への移
動はスプレーノズル２、３の矢印方向への移動と連動し
ており、スプレーノズル２が導電性基体の端部の塗布の
ための所定の位置に達するとスプレー塗布が始まり、ス
プレーノズル３がスプレーノズル２の矢印方向への移動
に伴い導電性基体の端部塗布のための所定の位置に達す
るとスプレー塗布が始まり積層される。塗布すべき導電
性基体の終端部にエアーノズル４、スプレーノズル２及
び３がそれぞれ達すると、噴射、噴霧がそれぞれ終了す
る。

【００２５】本発明で用いる電子写真感光体の導電性基
体としては、アルミニウム、銅、ニッケル、ステンレ
ス、真ちゅう等の金属の円筒状基体又は薄膜シート、ま
たはアルミニウム、錫合金、酸化インジウム等をポリエ
ステルフィルムあるいは紙、金属フィルムの円筒状基体
などに蒸着したものが挙げられる。

【００２６】感光体層の接着性改良、塗布性改良、基体
上の欠陥の被膜及び基体からの電荷発生層への電荷注入
改良などのために下引き層が設けられることが有る。下
引き層の材料としては、ポリアミド、共重合ナイロン、
カゼイン、ポリビニルアルコール、セルロース、ゼラチ
ン等の樹脂が知られている。これらを各種有機溶媒に溶
解し、膜厚が0.1 〜５μm 程度になるように導電性円筒
状基体上に塗布される。

【００２７】電荷発生層は、光照射により電荷を発生す
る電荷発生材料を主成分とし、必要に応じて公知の結合
剤、可塑剤、増感剤を含有し、これら成分を溶剤に分散
し、膜厚が１μm 以下（乾燥膜厚）となるように導電性
円筒状基体又は下引き層の上に塗布されている。

【００２８】電荷発生材料としては、ペリレン系顔料、
多環キノン系顔料、フタロシアニン顔料、金属フタロシ
アニン系顔料、スクエアリウム色素、アズレニウム色
素、チアピリリウム色素、及びカルバソール骨格、スチ
リルスチルベン骨格、トリフェニルアミン骨格、ジベン
ゾチオフェン骨格、オキサジアゾール骨格、フルオレノ
ン骨格、ビススチルベン骨格、ジスチリルオキサジアゾ
ール骨格又はジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ
顔料などが挙げられる。

【００２９】電荷輸送層は、電荷発生材料が発生した電
荷を受け入れこれを輸送する能力を有する電荷輸送材
料、シリコーン系レベリング材及び結着剤を必須成分と
し、必要に応じて公知の可塑剤、増感剤などを含有し、
これらの成分を溶剤に溶解して、乾燥膜厚：５〜70μm
になるように、電荷発生層の上の塗布されている。

【００３０】電荷輸送材料としては、ポリーＮ−ビニル
カルバゾール及びその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリル
エチルグルタメート及びその誘導体、ピレン−ホルムア
ルデヒド縮合物及びその誘導体、ポリビニルピレン、ポ
リビニルフェナントレン、オキサゾール誘導体、オキソ
ジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、９−（ｐ−ジ
エチルアミノスチリル）アントラセン、１，１−ビス
（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパン、スチリル
アントラセン、スチリルピラゾリン、フェニルヒドラゾ
ン類、ヒドラゾン誘導体等の電子供与性物質、或いはフ
ルオレノン誘導体、ジベンゾチオフェン誘導体、インデ
ノチオフェン誘導体、フェナンスレンキノン誘導体、イ
ンデノピリジン誘導体、チオキサントン誘導体、ベンゾ
［ｃ］シンノリン誘導体、フェナジンオキサイド誘導
体、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタ
ン、プロマニル、クロラニル、ベンゾキノン等の電子受
容性物質などが挙げられる。

【００３１】電荷輸送層を構成する結着剤としては、電
荷輸送材料と相容性を有するものであれば良く、例えば
ポリカーボネート、ポリビニルブチラール、ポリアミ
ド、ポリエステル、ポリケトン、エポキシ樹脂、ポリウ
レタン、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリアクリ
ルアミド、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げら
れる。

【００３２】電荷発生層塗布液及び電荷輸送層塗布液の
溶剤としては、ジクロロエタン、ベンゼン、クロロホル
ム、シクロヘキサノン、エチルエーテル、アセトン、エ
タノール、ジクロロベンゼン、メチルエチルケトン等が
挙げられる。

【００３３】本発明の方法により、塗布液毎にスプレー
塗布装置を設ける必要がないので、電子写真感光体の製
造時間を大幅に短縮することが出来るとともに、製造コ
ストをダウンすることが出来、且つ良品率も向上する。

【００３４】スプレー塗布の直後に乾燥処理をし、その
後直ちにスプレー塗布により積層することが出来るの
で、基体への接着性が向上し、積層時塗布液の溶剤によ
り既に形成した塗膜が溶解することなく、且つ溶剤が残
留することがないので繰り返し特性の残留電位の上昇を
抑制することが出来る。

【００３５】スプレー塗布直前に導電性基体の表面に付
着しているダストを除去することが出来るので、塗布欠
陥の減少を図ることが出来、且つ良品率が向上する。

【００３６】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。

【００３７】電子写真感光体製造のための電荷発生用塗
布液及び電荷輸送用塗布液としてそれぞれ下記Ａ液とＢ
液を用いた。

【００３８】（Ａ液） ・ジブロムアンスアンスロン ２重量部、 ・ブタラール樹脂（エスレック ＢＭ−２、セキスイ化
学（株）製） ２重量部、及び ・シクロヘキサノン 230 重量部を ボールミルにて８時間分散したもの。

【００３９】（Ｂ液） ・ヒドラゾン系電荷輸送材［日本化薬（株）製、商品名
−ＡＢＰＨ］ １重量部、及び ・ポリカーボネート樹脂［帝人化成（株）製、商品名−
パンライトＬ−1250］１重量部を ジクロルエタン ８重量部に溶解したもの。

【００４０】実施例１ 図１のスプレー塗布装置を用いて、下記の条件にて電子
写真感光体20本を製造した。

【００４１】・導電性基体の回転速度： 300rpm ・スプレーノズル２及び３の移動速度： 20cm／分 ・Ａ液をスプレーノズル２より噴霧 ・Ｂ液をスプレーノズル３より噴霧 ・Ａ液の吹出流量(gal／分）： 0.015 ・Ｂ液の吹出流量(gal／分）： 0.2 ・Ｂ液塗布後の乾燥処理条件： 70℃で１時間 ・電荷発生層の乾燥膜厚： 0.5 μm ・電荷輸送層の乾燥膜厚： 20μm ・使用スプレー装置及びノズル： ノードソン（株）製
エアースプレー装置で特殊クロスカットノズル使用 電子写真感光体20本の製造時間（乾燥処理時間を除く）
は48分20秒であった。主な動作とその所要時間は以下の
通りであった。

【００４２】・ノズルの移動時間： ２分 ・ノズルの塗布終了点から塗布開始点１復帰するのに必
要な時間： ５秒 １本の基体の着脱、セッティングに要する時間： 10秒 得られた電子写真感光体20本を回転用冶具に装着し複写
機［ＳＦ−8260、シャープ（株）製］に搭載してコピー
を取りハーフトーンによる画像評価を行なった。結果を
表１に示す。

【００４３】比較例１ 図４のスプレー塗布装置２台（Ａ及びＢ）準備し、Ａ液
の乾燥膜厚が0.5 μmとなるようにスプレー塗布装置Ａ
を用いてＡ液を導電性基体20本の表面に塗布し、次い
で、Ｂ液の乾燥膜厚が20μm となるようにスプレー塗布
装置Ｂを用いてＢ液をＡ液が塗布された基体20本の表面
にそれぞれ塗布し、70℃で１時間乾燥して、電子写真感
光体を得た。

【００４４】電子写真感光体20本の製造時間（乾燥処理
時間を除く）は90分であった。

【００４５】得られた電子写真感光体20本を実施例１と
同様に画像評価した。結果を表１に示す。

【００４６】

【表１】

【００４７】実施例２ 図５のスプレー塗布装置を用いて、下記の条件にて電子
写真感光体20本を製造した。

【００４８】・導電性基体の回転速度： 300rpm ・スプレーノズル２及び３の移動速度： 20cm／分 ・Ａ液をスプレーノズル２より噴霧 ・Ｂ液をスプレーノズル３より噴霧 ・Ａ液の吹出流量(gal／分）： 0.015 ・Ｂ液の吹出流量(gal／分）： 0.2 ・電荷発生層の乾燥膜厚： 0.5 μm ・電荷輸送層の乾燥膜厚： 20μm ・スプレー装置及びノズル： ノードソン（株）製エア
ースプレー装置で特殊クロスカットノズル使用 ・乾燥ヒーター： ステンレス管内に電熱線を入れたも
の。

【００４９】・乾燥ヒーター温度： 90℃ ・乾燥ヒーターとスプレーノズル２との距離： ３０mm ・乾燥ヒーターと基体表面との距離： ５ｍｍ ・Ｂ液塗布後の乾燥処理条件： ７０℃で１時間 得られた電子写真感光体20本を回転用冶具に装着し複写
機［ＳＦ−8620、シャープ（株）製］に搭載してそれぞ
れ10,000回コピーを取り、画像評価とその表面電位の変
化、残留電位の変化を測定した。それらの平均値と良品
率を表２に示す。

【００５０】比較例２ 図４のスプレー塗布装置を用いて、Ａ液を乾燥膜厚が0.
5 μm になるようにスプレー塗布し、80℃で10分間乾燥
した。冷却後、同様に図４のスプレー塗布装置を用い
て、Ｂ液を乾燥膜厚が20μm になるようにスプレー塗布
し、70℃で１時間乾燥して電子写真感光体20本を製造し
た。

【００５１】得られた電子写真感光体20本を実施例２と
同様に画像評価と表面電位の変化、残留電位の変化を測
定した。結果を表２に示す。

【００５２】

【表２】

【００５３】実施例３ 図７のスプレー塗布装置を用いて、下記の条件にて電子
写真感光体20本を製造した。

【００５４】・導電性基体の回転速度： ３００ｒｐｍ ・スプレーノズル２及び３とエアーノズル４の移動速
度： ２０ｃｍ／分 ・圧縮空気をエアーノズル４より噴射 ・Ａ液をスプレーノズル２より噴霧 ・Ｂ液をスプレーノズル３より噴霧 ・圧縮空気の圧力： ７kg／cm² ・Ａ液の吹出流量(gal／分）： 0.015 ・Ｂ液の吹出流量(gal／分）： 0.2 ・電荷発生層の乾燥膜厚： 0.5 μm ・電荷輸送層の乾燥膜厚： 20μm ・エアーノズル４とスプレーノズル３との距離： 100m
m ・Ｂ液塗布後の乾燥処理： 70℃で１時間 ・使用スプレー装置及びノズル： ノードソン（株）エ
アースプレー装置で特殊クロスカットノズル使用 得られた電子写真感光体20本を回転用冶具に装着し、複
写機［ＳＦ−8620、シャープ（株）製］に搭載して、コ
ピーを取り画像評価をおこなった。電子写真感光体20本
中の0.5mm 以上の欠陥数は７で、良品率は95％であっ
た。

【００５５】

【発明の効果】本発明の方法によれば、塗布液毎にスプ
レー塗布装置を設ける必要がないので、製造時間を大幅
に短縮することが出来るとともに製造コストをダウンす
ることが出来、且つ良品率も向上する。

【００５６】スプレーノズル間に乾燥ヒーターを設けた
スプレー塗布装置を用いた方法では、上述の効果に加え
て、接着性が向上するとともに、積層塗布時に塗布液の
溶剤により既に形成した塗膜が溶解することなく且つ溶
剤が残留することがないので繰返し特性の残留電位の上
昇を抑制することが出来る。

【００５７】スプレー塗布直前に基体表面のダストを除
去する方法では、塗布欠陥の減少を図ることが出来ると
ともに、良品率が更に向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のスプレー塗布装置の概略図である。

【図２】本発明のスプレー塗布装置を用いてスプレーし
始めたところを示す図である。

【図３】本発明のスプレー塗布装置を用いたスプレー終
了時を示す図である。

【図４】従来のスプレー塗布装置の概略図である。

【図５】本発明の乾燥ヒーター付スプレー塗布装置の概
略図である。

【図６】本発明の乾燥ヒーター付スプレー塗布装置の側
面図である。

【図７】本発明のエアーノズル付スプレー塗布装置の概
略図である。

【図８】本発明のエアーノズル付スプレー塗布装置の側
面図である。

【符号の説明】

１ 乾燥ヒーター ２ スプレーノズル ３ スプレーノズル ４ エアーノズル ６ ダクト 11 導電性基体 22 電荷発生層用塗布液 22ａ 電荷発生層 33 電荷輸送層用塗布液 33ａ 電荷輸送層

フロントページの続き (72)発明者 松本 浩史 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 坂元 雅遊亀 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 忍 充弘 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性基体上にスプレー方式で感光体用
   塗布液を塗布する電子写真感光体の製造方法において、
   塗布液の種類毎に配置したスプレーノズルが一定間隔で
   該導電性基体の回転軸に平行に移動することにより該基
   体の表面に塗布液を積層塗布することを特徴とする電子
   写真感光体の製造方法。