JPH06236048A

JPH06236048A - 感光体の製造方法

Info

Publication number: JPH06236048A
Application number: JP2144593A
Authority: JP
Inventors: Yoshihiko Eto; 嘉彦江藤; Takeo Oshiba; 武雄大柴; Asao Matsushima; 朝夫松島
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1993-02-09
Filing date: 1993-02-09
Publication date: 1994-08-23

Abstract

(57)【要約】【目的】均質・高品質の塗膜の形成方法を提供するも
ので、特に高画質、高耐久性の感光膜の形成方法を提供
することにある。【構成】ＣＴＬ塗布液にＭw10万以上のポリカーボネ
ートを用い、加温により粘度調整を行なって浸漬塗布す
るか円形塗布装置を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関し、
特に構成層の塗布要件に関する。

【０００２】

【従来技術】電子写真感光体としては、無機光導電体又
は、有機光導電体を使用したものがある。有機光導電体
は、無公害、高生産性、低コストなどの利点があり、近
年多く使用されるようになってきた。

【０００３】前記有機光導電体の可視光を吸収して電荷
を発生する物質は、電荷保持力に乏しく、逆に、電荷保
持力が良好で、成膜性に優れた物質は、一般に可視光に
よる光導電性が乏しいという欠点がある。この問題を解
決するため、感光層を可視光を吸収して電荷を発生する
電荷発生層（ＧＣＬ）と、その電荷の輸送を行う電荷輸
送層（ＣＴＬ）とに機能分離した積層型のものとするこ
とが行われている。従って、電荷発生物質（ＣＧＭ）と
電荷輸送物質（ＣＴＭ）とを別個に選択できるようにな
り、それぞれの材料の選択基準を拡げることができる。

【０００４】又、電子写真感光体が、ＣＧＬ、ＣＴＬの
順に積層されたもので、光照射がＣＴＬ側よりなされる
場合には、高い感度を得る上で具備すべき条件として、
ＣＴＬがＣＧＬに活性な光に対して十分透明であること
が必要である。

【０００５】上記公知のＣＧＭ及びＣＴＭを使用して電
子写真感光体を作成するためには、上記した条件を満足
するものであって、感度、受容電位、電位保持性、電位
安定性、残留電位、分光特性などの電子写真特性、更に
強度、耐久性、耐汚染性、耐刷性などの使用特性、及び
塗布によって製造する際の製造安定性、品質安定性など
の生産性すべての点にわたって満足させる材料を選択し
なければならない。

【０００６】また現像トナーの帯電性及び耐刷性の点か
ら、支持体上にＣＧＬその上にＣＴＬを積層する層構成
が屡用いられる。

【０００７】ＣＴＬに用いる樹脂としては電気的特性、
機械強度が優れているポリカーボネートが用いられる。

【０００８】ポリカーボネートとしては基本的なビスフ
ェノールＡ型（ＢＰＡ）に加えて、２つのベンゼン間に
介在する炭素原子に立体的に複雑な置換基、好ましくは
環状の置換基を有するビスフェノールＺ型（ＢＰＺ）が
用いられる。その機械強度はポリカーボネートの分子量
に大きく依存し、Ｍw10万以上になると耐傷性、耐摩耗
性が極めて良好となる。しかしながら一方においてはそ
の構造上溶媒が少なく、またＭw10万以上になると著し
く高粘度溶液となり、塗布操作その他取扱い万端が難し
くなる傾向がある。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】ＣＴＬを形成する方法
として浸漬塗布が多用されている。この方法は塗膜の厚
みを溶液の固形分濃度、粘度及び塗布面の引上げ速度に
よって容易にコントロールでき簡便な方法である。

【００１０】しかしながらこの方法は前記のように液物
性によって膜厚制御を行なうので液物性に不均一がある
と膜厚むらを生ずる。特に高粘度塗布液の場合、液物性
を均一にすることは困難で膜厚むらが多発し易く、更に
高粘度である程、引上げ速度速度を遅くする必要があり
生産効率が低下する。

【００１１】一方固形分濃度を引き下げて低粘度化する
と引上げ速度を上げることはできるが、液垂れを生じ、
画像形成する上で好ましくない。

【００１２】前記状況に鑑み、本発明の目的は、高粘度
塗布液、具体的にＭw10万以上のポリカーボネートを含
有溶解した塗布液に係る支障を排除して、塗布方法に厚
み変動のない塗布均一性を与え生産性を上げ、また耐傷
性、耐摩耗性の高い感光体を与える塗布方法を提供する
ことにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明にあたって、塗布
形成、塗布液条件について種々検討した結果；導電性円
筒形支持体上に少なくとも電荷発生層と電荷輸送層を有
し、かつこの順に積層した感光体の電荷輸送層塗布液が
Ｍw10万以上のポリカーボネートを含有溶解しており、
前記塗布液を温度30℃以上、粘度100〜900cPに保って浸
漬塗布法を用いて電荷輸送層を塗布することを特徴とす
る感光体の製造方法、及び前記塗布液の粘度が900〜180
0cPであり、塗布液が導電性円筒形支持体に囲繞接触す
る円形塗布装置に前記塗布液を適用して電荷輸送層を塗
布することを特徴とする感光体の製造方法のいずれによ
っても本発明の課題を解決することができた。

【００１４】次に本発明を詳細に説明する。

【００１５】感光体の層構成は種々の形態が知られてい
るが、本発明の感光体は積層型の機能分離型感光体とす
る。該層構成は、導電性支持体上、好ましくはバリア層
（ＢＡＬ）を設けた上にＣＧＭを含有するＣＧＬを形成
し、これに電荷輸送物質（ＣＴＭ）を含有するＣＴＬを
積層して形成したものである。また構成層と導電性支持
体の間に接着層などの補助層を設けてもよいし、最表層
にはさらに保護層を設けてもよい。

【００１６】本発明に係るＢＡＬに用いる樹脂として
は、ポリビニルアルコール、ポリ-N-ビニルイミダゾー
ル、ポリエチレンオキシド、エチレンセルロース、メチ
ルセルロース、エチレン-アクリル酸コポリマー、カゼ
イン、ポリアミド、共重合ナイロン、膠、ゼラチン等が
知られている。これらはそれぞれに適した溶剤に溶解さ
れて基体上に塗布される。その膜厚は0.2〜２μm程度で
ある。

【００１７】ＣＧＬは、例えば下記に示す方法によって
作製された塗布液を導電性支持体上に直接、あるいは必
要に応じて接着層を設けた上にＢＡＬを設けてその上に
塗布することにより形成することができる。

【００１８】前記ＣＧＭを適当な溶媒に溶解した溶
液、あるいは更に必要に応じてバインダ樹脂加え混合溶
解した溶液前記ＣＧＭをボールミル、サンドグラインダ等を用い
て分散を行い、微細粒子（好ましくは粒径５μm以下、
更に好ましくは１μm以下）とし、必要に応じてバイン
ダ樹脂および／又はＣＴＭを加え混合分散した分散液ＣＧＬの形成に使用される溶媒あるいは分散媒として
は、ブチルアミン、ジエチルアミン、エチレンジアミ
ン、イソプロパノールアミン、トリエタノールアミン、
トリエチレンジアミン、N,N-ジメチルホルムアミド、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロホルム、1,2-ジクロルエタン、1,2-ジクロル
プロパン、1,1,2-トリクロルエタン、1,1,1-トリクロル
エタン、トリクロルエチレン、テトラクロルエタン、ジ
クロルメタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタ
ノール、エタノール、イソプロパノール、酢酸エチル、
酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブ
等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。

【００１９】ＣＧＬの形成に用いられるバインダ樹脂は
任意のものを用いることができるが、疎水性で、かつ誘
電率が高く、電気絶縁性のフィルム形成性高分子重合体
を用いることが好ましい。このような高分子重合体とし
ては、例えば次のものを挙げることができるが、これら
に限定されるものではない。

【００２０】Ｐ−１）ポリカーボネートＰ−２）ポリエステルＰ−３）メタクリル酸Ｐ−４）ポリアクリル樹脂Ｐ−５）ポリ塩化ビニルＰ−６）ポリ塩化ビニリデンＰ−７）ポリスチレンＰ−８）ポリビニルアセテートＰ−９）スチレン-ブタジエン共重合体Ｐ−10）塩化ビニリデン-アクリロニトリル共重合体Ｐ−11）塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体Ｐ−12）塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸共重
合体Ｐ−13）シリコーン樹脂Ｐ−14）シリコーン-アルキッド樹脂Ｐ−15）フェノールホルムアルデヒド樹脂Ｐ−16）スチレン-アルキッド樹脂Ｐ−17）ポリ-N-ビニルカルバゾールＰ−18）ポリビニルブチラールＰ−19）ポリビニルフォルマールこれらのバインダ樹脂は、単独であるいは２種以上の混
合物として用いることができる。

【００２１】以上のようにして形成されるＣＧＬにおい
て、ＣＧＭとバインダとの重量比は好ましくは100：10
〜1000である。ＣＧＭの含有割合がこれより少いと光感
度が低く、残留電位の増加を招き、またこれにより多い
と暗減衰及び受容電位が低下する。

【００２２】また、ＣＧＬ中にＣＴＭを含有する場合に
は、ＣＧＭとＣＴＭとの割合は重量比で10：０〜10：10
00であることが好ましく、特に好ましくは10：０〜10：
100である。

【００２３】形成されるＣＧＬの膜厚は、好ましくは0.
01〜10μmである。

【００２４】本発明に係るＣＴＬにはＭw10万以上、好
ましくはＭw10万〜25万のポリカーボネートが必須に含
有される。Ｍw10万以下では耐刷性等に対する強度が不
足する。

【００２５】前記ポリカーボネートは、一般によく知ら
れているビスフェノールＡ、ビスフェノールＺをはじ
め、種々のジオール化合物の一種もしくは２種以上を用
いて、ホスゲン法等の一般的なポリカーボネート合成法
により得られる。

【００２６】本発明に用いられるジオール化合物の具体
例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。

【００２７】

【化１】

【００２８】

【化２】

【００２９】本発明に係るポリカーボネートには一般に
ポリカーボネートを溶解する溶媒を用いることができる
が、特に好ましくはジクロルエタン、メチレンクロライ
ド、テトラヒドロフラン、クロロホルムを用いた時良好
な感度及び電位安定性を達成する事ができ、かつ塗布性
が良好となる。

【００３０】本発明に併用できるＣＴＭとしては、例え
ばオキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チア
ゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘
導体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミ
ダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリ
ル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン誘導体、アミ
ン誘導体、オキサゾロン誘導体、ベンゾチアゾール誘導
体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベ
ンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導
体、アミノスチルベン誘導体、ポリ-N-ビニルカルバゾ
ール、ポリ-1-ビニルピレン、ポリ-9-ビニルアントラセ
ン等が本発明の目的を損なわぬ程度において用いること
ができる。

【００３１】また、形成されるＣＴＬにおいて、ＣＴＭ
はＣＴＬ中のバインダ樹脂100重量部当り20〜200重量部
が好ましく、特に好ましくは30〜150重量部である。

【００３２】また、形成されるＣＴＬの厚さは、好まし
くは５〜60μm、特に好ましくは10〜40μmである。

【００３３】本発明の電子写真感光体に用いられる導電
性支持体としては、合金を含めた金属板、金属ドラムま
たは導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物
や合金を含めたアルミニウム、パラジウム、金等の金属
薄層を塗布、蒸着あるいはラミネートして、導電性化さ
れた紙、プラスチックフィルム等が挙げられる。

【００３４】本発明の構成層にはＣＧＭの電荷発生機能
を改善する目的で有機アミン類を添加することができ、
特に２級アミンを添加するのが好ましい。

【００３５】かかる２級アミンとしては、例えばジメチ
ルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジ-イ
ソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジ-イソブチルア
ミン、ジアミルアミン、ジ-イソアミルアミン、ジヘキ
シルアミン、ジ-イソヘキシルアミン、ジペンチルアミ
ン、ジ-イソペンチルアミン、ジ-オクチルアミン、ジ-
イソオクチルアミン、ジノニルアミン、ジ-イソノニル
アミン、ジデシルアミン、ジ-イソデシルアミン、ジモ
ノデシルアミン、ジ-イソモノデシルアミン、ジドデシ
ルアミン、ジ-イソドデシルアミン等を挙げることがで
きる。

【００３６】かかる有機アミン類の添加量としては、Ｃ
ＧＭの等量以下、好ましくは0.2倍〜0.005倍の範囲のモ
ル数とするのがよい。

【００３７】本発明においてＣＧＬには感度の向上、残
留電位乃至反復使用時の疲労低減等を目的として、一種
又は二種以上の電子受容性物質を含有せしめることがで
きる。

【００３８】ここに用いることのできる電子受容性物質
としては、例えば無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロ
ム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フ
タル酸、テトラブロム無水フタル酸、3-ニトロ無水フタ
ル酸、4-ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無
水メリット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキ
ノジメタン、o-ジニトロベンゼン、m-ジニトロベンゼ
ン、1,3,5-トリニトロベンゼン、パラニトロベンゾニト
リル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、クロ
ラニル、ブルマニル、ジクロルジシアノパラベンゾキノ
ン、アントラキノン、ジニトロアントラキノン、2,7-ジ
ニトロフルオレノン、2,4,7-トリニトロフルオレノン、
2,4,5,7-テトラニトロフルオレノン、9-フルオレニリデ
ン[ジシアノメチレンマロノジニトリル]、ポリニトロ-9
-フルオレニリデン-[ジシアノメチレンマロノジニトリ
ル]、ピクリル酸、o-ニトロ安息香酸、p-ニトロ安息香
酸、3,5-ジニトロ安息香酸、ペンタフルオル安息香酸、
5-ニトロサリチル酸、3,5-ジニトロサリチル酸、フタル
酸、メリット酸、その他の電子親和力の大きい化合物を
挙げることができる。

【００３９】電子受容性物質の添加量は、重量比で電荷
発生物質：電子受容性物質＝100：0.01＝200、好ましく
は100：0.1〜100である。

【００４０】電子受容性物質はＣＴＬに添加してもよ
い。かかる層への電子受容性物質の添加量は重量比でＣ
ＴＭ：電子受容性物質＝100：0.01〜100、好ましくは10
0：0.1〜50である。

【００４１】また本発明の感光体には、その他、必要に
より感光性を保護する目的で酸化防止剤や紫外線吸収剤
等を含有してもよく、また感色性補正の染料を含有して
もよい。

【００４２】次に本発明の塗布方法について説明する。

【００４３】本発明の浸漬塗布に用いられるＣＴＬ塗布
液は、30℃以上に加温して粘度100〜900cPに調整し、引
上げ速度１〜10mm/secで塗布にかけられる。

【００４４】浸漬塗布に用いる浸漬塗布装置の例の概要
を図１に示した。

【００４５】図において、１は塗布液を容れた塗布槽で
あり、保温外套４を備える。10は円筒状支持体（ドラ
ム）であって、塗布槽に浸漬、Ａ方向に引上げ塗布され
る。２は塗布槽からオーバフローする塗布液の液受け、
３は塗布液の貯溜タンクでり、加温外套31によって温度
調整される。

【００４６】貯溜タンクで温度調整された塗布液は、送
液ポンプＰでフィルタＦを経て塗布槽に送り込まれ、液
受けはオーバフローし再び貯溜タンクに回収され循環使
用される。

【００４７】ドラムは昇降装置（図示せず）で浸漬、引
上げられる。

【００４８】乾燥膜厚ｄは；ｄ∝（溶液固形分濃度）×
｛(粘度)×(引上げ速度)｝^1/2で近似的に表される。

【００４９】上記塗布方法によって、生産効率が上が
り、また露呈先頭薄層部分が甚だ短くなり、製品収率が
向上した。

【００５０】次に塗布液で円筒形支持体を囲繞接触させ
る円形塗布装置に適用するＣＴＬ塗布液は、塗布液が支
持体面積当り定量的に調整供給されるので粘度は900〜1
800cPの幅広い範囲であることができ、かつドラムが円
柱状に接合され連続的に塗布部に進入して来るので前記
の如き先頭薄膜部分発生の機会は少なく、製品収率が損
なわれることがない。

【００５１】円形塗布装置には代表的に円形スライドホ
ッパ塗布機及び円形押出し塗布機が挙げられる。

【００５２】図２（ａ）及び（ｂ）に夫々円形スライド
ホッパ及び円形押出し方式の塗布部の概要を夫々の例に
よって示した。

【００５３】図２において10はＡ方向に搬送される円筒
状支持体、11は円形スライドホッパ塗布機で、12は該塗
布機11の塗布液分配室、13は塗布液分配スリット、14は
塗布液供給パイプ、15は液受け、16はホッパエッジ、17
は塗布液スライド面、18は塗布層である。

【００５４】塗布時塗布液Ｓがポンプ等により、塗布液
供給パイプ14へと必要量供給され、塗布液分配室12によ
って円周方向へと均一に分配され、分配スリット13を通
過し、スライド面17を円周方向に均一に流下する。しか
る後、塗布液Ｓはホッパエッジ16と円筒状支持体10外周
面との間にビードが形成され、このビードと支持体10外
周面とが接触した状態で支持体10が矢印Ａ方向へと搬送
され、表面に塗布層18が形成される。かかる塗布機によ
れば、塗布層18から速やかに溶剤が蒸発するので簡単な
乾燥装置を設けることにより容易に乾燥塗膜が得られ
る。又塗布液Ｓは必要量だけ送られるので塗布液の無駄
がなく、材料のコスト低減が計られる。又円形塗布であ
るため継目のない均一塗布が可能であり、塗布膜が液供
給量、粘度、被塗布体の移動速度で決まり、塗布厚の制
御が容易であり、又塗布中ビードの作用で塗布厚の変動
が少ないため高品質、高生産性の塗布が可能である。前
記円形スライドホッパ塗布機では、スライド面終端部の
径と円筒状支持体の外径との間隙は0.05〜１mmが好まし
く、0.1〜0.6mmがより好ましい。スライド面の傾斜角は
水平に対して10°〜70°が好ましく、20°〜45°が更に
好ましい。

【００５５】次に図２（ｂ）は円形押出し塗布機11’の
断面図であり、図２（ａ）と同一内容には同一符号が付
される。前記円形押出し塗布装置11′においては、ポン
プ等により塗布に必要な量の塗布液Ｓが塗布液供給パイ
プ14へと供給され、塗布液分配室12によって円周方向へ
と均一に分配され、分配スリット13内を押し出され、ホ
ッパエッジ16より均一かつ連続的に流出して支持体外周
面との間に塗布液ビードを形成し、これにより塗布層18
が塗布される。

【００５６】ホッパエッジ16の長さは0.1〜10mm、好ま
しくは0.5〜４mmがよい。ホッパエッジの傾斜角は鉛直
下方から30°迄の範囲内がよく、鉛直下方から20°迄の
範囲内とするのが更によい。ホッパエッジの傾斜角が30
°を超えると塗布液の架橋が短くなり、良好な塗膜を得
にくくなる。

【００５７】又前記押し出し塗布機11′においては、ホ
ッパエッジは被塗布体外径より0.05〜１mm大きく、より
好ましくは塗布膜厚をho mmとすると２ho mmから４ho m
mまでの範囲であり、塗布方向長さ0.1〜10mm、より好ま
しくは0.5〜４mmを有するものであるのが望ましい。

【００５８】以上本発明の感光体の製造方法に用いられ
る円形スライドホッパ塗布機11及び円形押出し塗布機1
1′の代表例を説明したが、これらの塗布機のいづれも
が円筒状支持体に塗布液を塗布するに適合していて、特
に感光体の表面層を形成する場合、下層の溶解、浸蝕を
伴うことが少なく、高速で均一塗布が可能であり、感光
体の高品質、高生産性を達成することができる。

【００５９】

【実施例】次に実施例によって本発明を具体的に説明す
る。

【００６０】：実施例Ａ群：浸漬塗布直径80mm、長さ355.5mmのアルミニウム基体を用意し、
下記の塗布液を用いてＢＡＬ，ＣＧＬを順次浸漬塗布に
より形成した。更に下記ＣＴＬ塗布液を用いて浸漬塗布
により感光体を作成した。

【００６１】〈ＢＡＬ塗布液〉共重合ポリアミド樹脂
（東レ(株)製ＣＭ8000）50ｇをメタノール900ml、1-ブ
タノール100mlの混合溶媒中に溶解した液にアルミニウ
ム基体を浸漬、引き上げることにより厚さ0.3μmのＢＡ
Ｌを塗布した。

【００６２】〈ＣＧＬ塗布液〉ポリビニルブチラール樹
脂（積水化学(株)製エスレックＢＸ-１）３ｇをＭＥＫ
300ml、シクロヘキサノン50mlの混合溶媒中に溶解した
液に下記ＣＧＭ−１；６ｇを加え、サンドグラインダを
用いて５時間分散し、ＣＧＬ塗布液を得た。この液を用
いて浸漬塗布によりＢＡＬ上に厚さ0.3μmのＣＧＬを形
成した。

【００６３】尚ＢＡＬ，ＣＧＬは実施例Ａ群において共
通としＣＴＬ塗布液のみ変化させ、その塗布状態をみ
た。

【００６４】実施例Ａ１〈ＣＴＬ塗布液〉ジクロルエタン1000mlにポリカーボネ
ート樹脂（帝人化成(株)製ＴＳ-2050，Ｍw14.5万）150
ｇと下記ＣＴＭ−１；110ｇを溶解した。

【００６５】

【化３】

【００６６】前記の塗布液を35℃に加温して浸漬塗布に
より厚さ25μmのＣＴＬを形成した。溶液粘度は850cPで
あった。塗布状態は良好であった。

【００６７】実施例Ａ２ポリカーボネート樹脂を三菱瓦斯化学(株)製；ＰＣＺ-4
00（Ｍw11.5万）に変更した他は実施例Ａ１のＣＴＬ塗
布液と同様である。

【００６８】前記の塗布液を35℃に加温して浸漬塗布に
よりＣＴＬを形成した。溶液粘度は550cPであり、塗布
状況は良好であった。

【００６９】比較例Ａ（１）ＣＴＬ塗布液組成は実施例Ａ１と同様とし、加温せず液
温25℃で塗布した。溶液粘度は1700cPであった。

【００７０】高粘度のため所定の膜厚を得るための塗布
速度が遅い。ドラム軸方向の膜厚が不均一（上部が薄
く、下部が厚い）となった。

【００７１】比較例Ａ（２）実施例Ａ１のポリカーボネート樹脂を三菱瓦斯化学(株)
製；ＰＣＺ-200（Ｍw5.2万）に変更し、加温することな
く液温25℃で塗布した。液粘度は120cPであり、塗布状
況は良好であった。

【００７２】比較例Ａ（３）実施例Ａ２と同様のＣＴＬ塗布液を用い、加温すること
なく液温25℃で塗布した。溶液粘度は950cPであり、高
粘度のため所定の膜厚を得るための塗布速度が遅い上
に、ドラム軸方向の膜厚が不均一（上部が薄く、下部が
厚い）となった。

【００７３】前記のように作成した感光体の評価を行な
った。

【００７４】評価はコニカ(株)製複写機Ｕ-4045を用い
て表面電位及び画像について行なった。その結果を表１
に示す。

【００７５】

【表１】

【００７６】本発明の感光体は、画像品質に優れ、10万
コピーの耐久試験後も表面電位の変化が小さい。

【００７７】：実施例Ｂ群：円形スライドホッパ塗布直径80mm、長さ355.5mmのアルミニウム基体を用意し、
下記の塗布液を用いてＢＡＬ，ＣＧＬを順次浸漬塗布に
より形成した。更に下記ＣＴＬ塗布液を用いて円形スラ
イドホッパ塗布及び比較として浸漬塗布により感光体を
作成した。

【００７８】〈ＢＡＬ塗布液〉共重合ポリアミド樹脂
（東レ(株)製ＣＭ8000）50ｇをメタノール900ml、1-ブ
タノール100mlの混合溶媒中に溶解した液にアルミニウ
ム基体を浸漬、引き上げることにより厚さ0.3μmの中間
層を塗布した。

【００７９】〈ＣＧＬ塗布液〉ポリビニルブチラール樹
脂（積水化学(株)製エスレックＢＸ-１）３ｇをＭＥＫ
300ml、シクロヘキサノン50mlの混合溶媒中に溶解した
液に下記ＣＧＭ−１；６ｇを加え、サンドグラインダを
用いて５時間分散し、ＣＧＬ塗布液を得た。この液を用
いて浸漬塗布によりＢＡＬ上に厚さ0.7μmのＣＧＬを形
成した。

【００８０】尚ＢＡＬ，ＣＧＬは実施例Ｂ群において共
通としＣＴＬ塗布液のみ変化させ、その塗布状態をみ
た。

【００８１】実施例Ｂ１シクロルエタン1000mlにポリカーボネート樹脂（帝人化
成(株)製；ＴＳ-2050，Ｍw14.5万）150ｇと「化２」記
載のＣＴＭ−２；110ｇを溶解した。

【００８２】円形スライドホッパにより厚さ25μmのＣ
ＴＬを形成した。溶液粘度は1700cPであった。また塗布
状態は良好であった。

【００８３】実施例Ｂ２ポリカーボネート樹脂を三菱瓦斯化学(株)製；ＰＣＺ-4
00（Ｍw11.5万）に変更した他は実施例Ｂ１のＣＴＬ塗
布液と同様である。

【００８４】円形スライドホッパによりＣＴＬを形成し
た。溶液粘度は950cPであった。

【００８５】比較例Ｂ（１）ＣＴＬ塗布液は実施例Ｂ（１）と同様であり、室温1700
cPにおいて浸漬塗布を行なった。

【００８６】高粘度のため所定の膜厚を得るための塗布
速度が遅い。ドラム軸方向の膜厚が不均一（上部が薄
く、下部が厚い）となった。

【００８７】比較例Ｂ（２）実施例Ｂ１のポリカーボネート樹脂を三菱瓦斯化学(株)
製；ＰＣＺ-200（Ｍw5.2万）に変更し、室温120cPで浸
漬塗布を行なった。塗布状態は良好である。

【００８８】比較例Ｂ（３）ＣＴＬ塗布液は実施例Ｂ（２）と同様であり、室温950c
Pで浸漬塗布を行なった。

【００８９】高粘度のため所定の膜厚を得るための塗布
速度が遅い。ドラム軸方向の膜厚が不均一（上部が薄
く、下部が厚い）となった。

【００９０】前記のように作成した感光体の評価を行な
った。

【００９１】評価はコニカ(株)製複写機Ｕ-4045を用い
て表面電位及び画像について行なった。その結果を表２
に示す。

【００９２】

【表２】

【００９３】本発明の感光体は、画像品質に優れ、10万
コピーの耐久試験後も表面電位の変化が小さい。

【００９４】電子写真性能にすぐれており、繰返し像形
成の過程での感光層の減耗が少なく高耐久性であり、そ
の外、塗布加工能率もすぐれているなどの利点も有して
いる。

【００９５】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように本発明の
感光体の製造方法によれば、塗布加工性及び生産性にす
ぐれていて、得られる感光体は、像形成に供したとき、
画像むら、筋、ぽち等を生せず、かつ電子写真性能及び
繰返し使用時の耐久性にすぐれている等の効果が奏され
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】浸漬塗布装置の概要図

【図２】（ａ）は円形スライドホッパ塗布機の断面図、
（ｂ）は円形押出し塗布機の断面図

【符号の説明】

１塗布槽２液受け３貯溜タンク４保温外套 10 円筒状支持体 11，11′ 塗布機 12 塗布液分配室 13 分配スリット 16 ホッパエッジ 31 加温外套

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】導電性円筒形支持体上に少なくとも電荷
発生層と電荷輸送層を有し、かつこの順に積層した感光
体の電荷輸送層塗布液がＭw10万以上のポリカーボネー
トを含有溶解しており、前記塗布液を温度30℃以上、粘
度100〜900cPに保って浸漬塗布法を用いて電荷輸送層を
塗布することを特徴とする感光体の製造方法。
【請求項２】導電性円筒形支持体上に少なくとも電荷
発生層と電荷輸送層を有し、かつこの順に積層した感光
体の電荷輸送層塗料がＭw10万以上のポリカーボネート
を含有溶解しており、前記塗布液の粘度が900〜1800cP
であり、塗布液が導電性円筒形支持体に囲繞接触する円
形塗布装置に前記塗布液を適用して電荷輸送層を塗布す
ることを特徴とする感光体の製造方法。