JPH05181289A - 有機感光体の有機被膜除去方法および有機感光体用再生基体 - Google Patents
有機感光体の有機被膜除去方法および有機感光体用再生基体Info
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- JPH05181289A JPH05181289A JP1812792A JP1812792A JPH05181289A JP H05181289 A JPH05181289 A JP H05181289A JP 1812792 A JP1812792 A JP 1812792A JP 1812792 A JP1812792 A JP 1812792A JP H05181289 A JPH05181289 A JP H05181289A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 有機感光体の有機被膜を基体から効率よく除
去する方法を提供し、資源の有効利用を目的とする。 【構成】 有機感光体の有機被膜除去方法は、少なくと
もカルボン酸、フェノール系化合物およびケトン系化合
物を含む処理液を用いて、基体上に形成された有機被膜
を処理することを特徴とする。この方法により、再使用
可能な有機感光体再生用基体が得られる。
去する方法を提供し、資源の有効利用を目的とする。 【構成】 有機感光体の有機被膜除去方法は、少なくと
もカルボン酸、フェノール系化合物およびケトン系化合
物を含む処理液を用いて、基体上に形成された有機被膜
を処理することを特徴とする。この方法により、再使用
可能な有機感光体再生用基体が得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子写真用の有機感光
体を再生するための有機感光体の有機被膜除去方法およ
びそれによって得られた有機感光体用再生基体に関す
る。
体を再生するための有機感光体の有機被膜除去方法およ
びそれによって得られた有機感光体用再生基体に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、電子写真用の有機感光体は、アモ
ルファスセレン含有感光体とは異なり、非毒性であるた
めに、使用済みの感光体および製造工程において生じる
不良品は、通常スクラップとして処理されている。しか
しながら、これらの感光体或いは不良品を基体ごと廃棄
することは、資源の有効活用という観点から非常に問題
があり、これらのものの再利用が望まれている。従来、
有機感光体の感光層等を構成する有機被膜を基体から除
去する方法としては、（１）旋盤で有機被膜を切削除去
する方法、（２）サンドペーパー等で有機被膜を研削す
る方法、（３）アルカリ水溶液に浸漬して有機被膜を除
去する方法（特公平２−３６３０９号公報、同３−５２
２７号公報および同３−９７９１号公報）等が知られて
いる。
ルファスセレン含有感光体とは異なり、非毒性であるた
めに、使用済みの感光体および製造工程において生じる
不良品は、通常スクラップとして処理されている。しか
しながら、これらの感光体或いは不良品を基体ごと廃棄
することは、資源の有効活用という観点から非常に問題
があり、これらのものの再利用が望まれている。従来、
有機感光体の感光層等を構成する有機被膜を基体から除
去する方法としては、（１）旋盤で有機被膜を切削除去
する方法、（２）サンドペーパー等で有機被膜を研削す
る方法、（３）アルカリ水溶液に浸漬して有機被膜を除
去する方法（特公平２−３６３０９号公報、同３−５２
２７号公報および同３−９７９１号公報）等が知られて
いる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところがこれら従来の
方法は、いずれも次のような問題があった。すなわち、
（１）の方法では、有機被膜を完全に除去するために、
基体まで切削することが必要であり、その為、基体を感
光体用のものとして再利用することができない。（２）
の方法では、有機被膜の除去に手間と時間がかかる上
に、基体に損傷を与え、やはり基体を再利用することが
できない。また、（３）の方法では、積層構造を有する
複数の有機被膜の場合には、除去が不完全になるという
問題がある。
方法は、いずれも次のような問題があった。すなわち、
（１）の方法では、有機被膜を完全に除去するために、
基体まで切削することが必要であり、その為、基体を感
光体用のものとして再利用することができない。（２）
の方法では、有機被膜の除去に手間と時間がかかる上
に、基体に損傷を与え、やはり基体を再利用することが
できない。また、（３）の方法では、積層構造を有する
複数の有機被膜の場合には、除去が不完全になるという
問題がある。
【０００４】以上のように、従来、有機感光体の有機被
膜を基体から効率よく除去する方法は知られていなかっ
た。したがって、本発明は、上記従来の技術における問
題点を解決して、資源の有効利用をはかることを目的と
してなされたものである。すなわち、本発明の目的は、
有機感光体の有機被膜を基体から効率よく除去する方法
を提供することにある。本発明の他の目的は、上記方法
によって回収された有機感光体再生用基体を提供するこ
とにある。
膜を基体から効率よく除去する方法は知られていなかっ
た。したがって、本発明は、上記従来の技術における問
題点を解決して、資源の有効利用をはかることを目的と
してなされたものである。すなわち、本発明の目的は、
有機感光体の有機被膜を基体から効率よく除去する方法
を提供することにある。本発明の他の目的は、上記方法
によって回収された有機感光体再生用基体を提供するこ
とにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、カ
ルボン酸、フェノール系化合物およびケトン系化合物を
含む処理液を用いることによって達成された。すなわ
ち、本発明の有機感光体の有機被膜除去方法は、少なく
ともカルボン酸、フェノール系化合物およびケトン系化
合物を含む処理液を用いて、基体上に形成された有機感
光体の有機被膜を除去することを特徴とするものであ
り、それによって、感光層が除去された本発明の有機感
光体再生用基体が得られる。
ルボン酸、フェノール系化合物およびケトン系化合物を
含む処理液を用いることによって達成された。すなわ
ち、本発明の有機感光体の有機被膜除去方法は、少なく
ともカルボン酸、フェノール系化合物およびケトン系化
合物を含む処理液を用いて、基体上に形成された有機感
光体の有機被膜を除去することを特徴とするものであ
り、それによって、感光層が除去された本発明の有機感
光体再生用基体が得られる。
【０００６】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
おいて、有機被膜が形成された基体としては、アルミニ
ウム、真鍮、クロム、ステンレススチール等、如何なる
ものでもよいが、アルミニウムまたはアルミニウム合金
からなるものが、最も多く使用されているので、本発明
は、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基体
に形成された有機被膜を除去する場合に特に適してい
る。また、基体表面は鏡面加工されたもの、あるいは、
光の乱反射を目的として粗面化されたもののいずれでも
よい。本発明が適用される有機感光体において、感光層
等を形成する有機被膜は、通常２層構造（電荷発生層及
び電荷輸送層）または３層構造（電荷発生層、電荷輸送
層及び下引層）を有するが、本発明によれば、そのいず
れのものについても、有機被膜を有効に除去することが
可能である。
おいて、有機被膜が形成された基体としては、アルミニ
ウム、真鍮、クロム、ステンレススチール等、如何なる
ものでもよいが、アルミニウムまたはアルミニウム合金
からなるものが、最も多く使用されているので、本発明
は、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基体
に形成された有機被膜を除去する場合に特に適してい
る。また、基体表面は鏡面加工されたもの、あるいは、
光の乱反射を目的として粗面化されたもののいずれでも
よい。本発明が適用される有機感光体において、感光層
等を形成する有機被膜は、通常２層構造（電荷発生層及
び電荷輸送層）または３層構造（電荷発生層、電荷輸送
層及び下引層）を有するが、本発明によれば、そのいず
れのものについても、有機被膜を有効に除去することが
可能である。
【０００７】本発明においては、上記のように有機感光
体の有機被膜は、少なくともカルボン酸、フェノール系
化合物およびケトン系化合物の三者を含む処理液によっ
て処理される。処理液にこれら三者を含ませることによ
って、有機被膜のみならず、下引層等の無機被膜が存在
した場合においても、それらの除去を行うことが可能に
なる。また、これら三者のうち、いずれかが欠けると、
有機被膜の十分な除去作用が発揮されなくなるので、本
発明においては、処理液中にこれら三者を含ませること
が必要である。本発明において、具体的には、カルボン
酸としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸等があげ
られ、浸透性の点で分子量の小さいもの、特に蟻酸が好
ましい。フェノール系化合物としては、フェノール、ク
レゾール、キシレノール等があげられ、それらは有機被
膜を膨潤させる作用を示す。また、ケトン化合物として
は、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、
シクロヘキサノン等があげられる。ケトン化合物は、有
機被膜を膨潤させる作用を示すが、膨潤作用が高過ぎる
場合にはヘドロ状の溶解物が生じるため、適度の膨潤作
用を示すものを選択する必要がある。処理液におけるこ
れらのものの濃度は特に限定されないが、処理時間の短
縮、被膜除去品質の点から、処理液全量に対して、カル
ボン酸は５〜６０重量％、フェノール系化合物は０．５
〜３０重量％、ケトン系化合物は０．５〜３０重量％の
範囲であることが好ましい。
体の有機被膜は、少なくともカルボン酸、フェノール系
化合物およびケトン系化合物の三者を含む処理液によっ
て処理される。処理液にこれら三者を含ませることによ
って、有機被膜のみならず、下引層等の無機被膜が存在
した場合においても、それらの除去を行うことが可能に
なる。また、これら三者のうち、いずれかが欠けると、
有機被膜の十分な除去作用が発揮されなくなるので、本
発明においては、処理液中にこれら三者を含ませること
が必要である。本発明において、具体的には、カルボン
酸としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸等があげ
られ、浸透性の点で分子量の小さいもの、特に蟻酸が好
ましい。フェノール系化合物としては、フェノール、ク
レゾール、キシレノール等があげられ、それらは有機被
膜を膨潤させる作用を示す。また、ケトン化合物として
は、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、
シクロヘキサノン等があげられる。ケトン化合物は、有
機被膜を膨潤させる作用を示すが、膨潤作用が高過ぎる
場合にはヘドロ状の溶解物が生じるため、適度の膨潤作
用を示すものを選択する必要がある。処理液におけるこ
れらのものの濃度は特に限定されないが、処理時間の短
縮、被膜除去品質の点から、処理液全量に対して、カル
ボン酸は５〜６０重量％、フェノール系化合物は０．５
〜３０重量％、ケトン系化合物は０．５〜３０重量％の
範囲であることが好ましい。
【０００８】本発明において、処理液は、上記カルボン
酸、フェノール系化合物およびケトン系化合物の三者の
みより構成されていてもよいが、それらを水またはアル
コールに混合して処理液を作成してもよい。水およびア
ルコールは、また、混合して使用してもよい。しかしな
がら、コスト、取扱いの容易さ、安全性の点などから、
水を使用するのが好ましく、その場合には水溶液の形態
で使用される。本発明においては、処理液中にさらにエ
チレングリコール、ブチルカルビトールアセテート等の
多価アルコール及びその誘導体を１〜１０重量％含有さ
せるのが好ましい。その場合には、基体から除去された
有機被膜がヘドロ状になるのを防止することができ、基
体の表面汚染防止の点で有利である。
酸、フェノール系化合物およびケトン系化合物の三者の
みより構成されていてもよいが、それらを水またはアル
コールに混合して処理液を作成してもよい。水およびア
ルコールは、また、混合して使用してもよい。しかしな
がら、コスト、取扱いの容易さ、安全性の点などから、
水を使用するのが好ましく、その場合には水溶液の形態
で使用される。本発明においては、処理液中にさらにエ
チレングリコール、ブチルカルビトールアセテート等の
多価アルコール及びその誘導体を１〜１０重量％含有さ
せるのが好ましい。その場合には、基体から除去された
有機被膜がヘドロ状になるのを防止することができ、基
体の表面汚染防止の点で有利である。
【０００９】本発明の方法において、少なくともカルボ
ン酸、フェノール系化合物およびケトン系化合物を含む
処理液を有機被膜に適用するためには、スプレー塗布
法、浸漬法等が使用できるが、浸漬法によって処理する
のが好ましい。浸漬法による場合、通常、浸漬温度とし
て１０〜８０℃の範囲が使用されるが、処理時間の短縮
の点から、４０〜６０℃の範囲が特に望ましい。また、
浸漬時間については、処理温度や有機感光体の膜厚によ
って異なるが、通常、５分〜１時間の範囲で行われる。
有機感光体から有機被膜を除去した後、基体は再使用の
ために水洗を行い、必要に応じてブラシ洗浄を行う。そ
の後、フレオン等の溶剤洗浄を行うのが好ましく、それ
により有機感光体再生用基体が作製される。
ン酸、フェノール系化合物およびケトン系化合物を含む
処理液を有機被膜に適用するためには、スプレー塗布
法、浸漬法等が使用できるが、浸漬法によって処理する
のが好ましい。浸漬法による場合、通常、浸漬温度とし
て１０〜８０℃の範囲が使用されるが、処理時間の短縮
の点から、４０〜６０℃の範囲が特に望ましい。また、
浸漬時間については、処理温度や有機感光体の膜厚によ
って異なるが、通常、５分〜１時間の範囲で行われる。
有機感光体から有機被膜を除去した後、基体は再使用の
ために水洗を行い、必要に応じてブラシ洗浄を行う。そ
の後、フレオン等の溶剤洗浄を行うのが好ましく、それ
により有機感光体再生用基体が作製される。
【００１０】
実施例１及び２、比較例１〜４ 厚さ１ｍｍ、外径８４ｍｍ、長さ３４０ｍｍの表面が粗
面化されたアルミニウムパイプに、８−ナイロンからな
る厚さ１μｍの下引層を形成し、その上にＸ型無金属フ
タロシアニンを含むポリビニルブチラール樹脂からなる
厚さ０．２５μｍの電荷発生層を形成し、さらにその上
にポリカーボネートＺ樹脂とジアミン化合物を含む厚さ
２５μｍの電荷輸送層を形成した有機感光体について、
下記表１に示す組成の処理液で処理した。処理は、上記
有機感光体を６０℃の処理液中に浸漬することによって
行った。その結果を表１に示す。なお、以下の表中、処
理品質の評価基準は次ぎのとうりである。 〇：有機被膜は、完全に除去されており、アルミニウム
パイプの再使用が可能である。 ×：有機塗膜が除去されず、アルミニウムパイプの再使
用が不可能である。
面化されたアルミニウムパイプに、８−ナイロンからな
る厚さ１μｍの下引層を形成し、その上にＸ型無金属フ
タロシアニンを含むポリビニルブチラール樹脂からなる
厚さ０．２５μｍの電荷発生層を形成し、さらにその上
にポリカーボネートＺ樹脂とジアミン化合物を含む厚さ
２５μｍの電荷輸送層を形成した有機感光体について、
下記表１に示す組成の処理液で処理した。処理は、上記
有機感光体を６０℃の処理液中に浸漬することによって
行った。その結果を表１に示す。なお、以下の表中、処
理品質の評価基準は次ぎのとうりである。 〇：有機被膜は、完全に除去されており、アルミニウム
パイプの再使用が可能である。 ×：有機塗膜が除去されず、アルミニウムパイプの再使
用が不可能である。
【００１１】
【表１】
【００１２】上記のようにして有機有機被膜が除去され
たアルミニウムパイプを水洗した後、ブラシ洗浄を１分
間行い、フレオンで洗浄して、有機感光体用基体を得
た。このものは、有機電子写真感光体基体として再使用
が可能であった。
たアルミニウムパイプを水洗した後、ブラシ洗浄を１分
間行い、フレオンで洗浄して、有機感光体用基体を得
た。このものは、有機電子写真感光体基体として再使用
が可能であった。
【００１３】実施例３及び４、比較例５〜８ 厚さ１ｍｍ、外径８４ｍｍ、長さ３４０ｍｍの表面が鏡
面加工されたアルミニウムパイプに、ジルコニウム化合
物及びシラン化合物からなる厚さ１ｍｍの下引層を形成
し、その上に三方晶セレンを含む塩化ビニル−酢酸ビニ
ル樹脂からなる厚さ０．１μｍの電荷発生層を形成し、
さらにその上にポリカーボネートＺ樹脂とジアミン化合
物を含む厚さ２５μｍの電荷輸送層を形成した有機感光
体について、下記表２に示す組成の処理液で処理した。
処理は、上記有機感光体を４０℃の処理液中に浸漬する
ことによって行った。その結果を表２に示す。
面加工されたアルミニウムパイプに、ジルコニウム化合
物及びシラン化合物からなる厚さ１ｍｍの下引層を形成
し、その上に三方晶セレンを含む塩化ビニル−酢酸ビニ
ル樹脂からなる厚さ０．１μｍの電荷発生層を形成し、
さらにその上にポリカーボネートＺ樹脂とジアミン化合
物を含む厚さ２５μｍの電荷輸送層を形成した有機感光
体について、下記表２に示す組成の処理液で処理した。
処理は、上記有機感光体を４０℃の処理液中に浸漬する
ことによって行った。その結果を表２に示す。
【００１４】
【表２】
【００１５】
【発明の効果】本発明は、上記の構成を有するから、有
機感光体用再生基体や、その製造治具に損傷を与えない
ので、有機被膜を除去できる。また、有機被膜が複数の
積層構造を有する場合であっても、比較的簡単な操作
で、それらを除去することが可能である。また、基体に
損傷を与えることがないので、基体を繰返し再生し使用
することが可能であり、資源の活用の点で極めて有用で
ある。
機感光体用再生基体や、その製造治具に損傷を与えない
ので、有機被膜を除去できる。また、有機被膜が複数の
積層構造を有する場合であっても、比較的簡単な操作
で、それらを除去することが可能である。また、基体に
損傷を与えることがないので、基体を繰返し再生し使用
することが可能であり、資源の活用の点で極めて有用で
ある。
Claims (2)
- 【請求項１】 少なくともカルボン酸、フェノール系化
合物およびケトン系化合物を含む処理液によって、基体
上に形成された有機感光体の有機被膜を除去することに
よって再生された有機感光体再生用基体。 - 【請求項２】 少なくともカルボン酸、フェノール系化
合物およびケトン系化合物を含む処理液を用いて、基体
上に形成された有機被膜を処理することを特徴とする有
機感光体の有機被膜除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1812792A JPH05181289A (ja) | 1992-01-06 | 1992-01-06 | 有機感光体の有機被膜除去方法および有機感光体用再生基体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1812792A JPH05181289A (ja) | 1992-01-06 | 1992-01-06 | 有機感光体の有機被膜除去方法および有機感光体用再生基体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05181289A true JPH05181289A (ja) | 1993-07-23 |
Family
ID=11962941
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1812792A Pending JPH05181289A (ja) | 1992-01-06 | 1992-01-06 | 有機感光体の有機被膜除去方法および有機感光体用再生基体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05181289A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5746836A (en) * | 1993-10-07 | 1998-05-05 | Oyentos Corporation | Method for removing a photosensitive layer from a photosensitive drum |
| JP2000066426A (ja) * | 1998-08-20 | 2000-03-03 | Yamao Kosakusho:Kk | Ｏｐｃドラムの再生装置 |
| JP2010044169A (ja) * | 2008-08-11 | 2010-02-25 | Ricoh Co Ltd | 導電性支持体の再生方法、再生導電性支持体を用いた感光体の製造方法、感光体、感光体を用いた画像成形装置およびプロセスカートリッジ |
| KR101016724B1 (ko) * | 2003-08-01 | 2011-02-25 | 주식회사 동진쎄미켐 | 감광성 수지 조성물을 제거하기 위한 씬너 조성물 |
| EP2264537A3 (en) * | 2009-06-17 | 2011-05-25 | Xerox Corporation | Process for the removal of photoreceptor coatings using a stripping solution |
-
1992
- 1992-01-06 JP JP1812792A patent/JPH05181289A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5746836A (en) * | 1993-10-07 | 1998-05-05 | Oyentos Corporation | Method for removing a photosensitive layer from a photosensitive drum |
| JP2000066426A (ja) * | 1998-08-20 | 2000-03-03 | Yamao Kosakusho:Kk | Ｏｐｃドラムの再生装置 |
| KR101016724B1 (ko) * | 2003-08-01 | 2011-02-25 | 주식회사 동진쎄미켐 | 감광성 수지 조성물을 제거하기 위한 씬너 조성물 |
| JP2010044169A (ja) * | 2008-08-11 | 2010-02-25 | Ricoh Co Ltd | 導電性支持体の再生方法、再生導電性支持体を用いた感光体の製造方法、感光体、感光体を用いた画像成形装置およびプロセスカートリッジ |
| EP2264537A3 (en) * | 2009-06-17 | 2011-05-25 | Xerox Corporation | Process for the removal of photoreceptor coatings using a stripping solution |
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