JPH05175629A - 混成集積回路装置 - Google Patents
混成集積回路装置Info
- Publication number
- JPH05175629A JPH05175629A JP35711091A JP35711091A JPH05175629A JP H05175629 A JPH05175629 A JP H05175629A JP 35711091 A JP35711091 A JP 35711091A JP 35711091 A JP35711091 A JP 35711091A JP H05175629 A JPH05175629 A JP H05175629A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- integrated circuit
- thick film
- circuit device
- hybrid integrated
- film resistor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 上部からの外力による厚膜抵抗体の損傷を防
止する。 【構成】 厚膜抵抗体3の上部に施工されたガラスコー
ト4の上部をさらに有機物5で覆うようにコーティング
したものである。また、厚膜抵抗体のサイドに凸部のオ
ーバーガラスコート6を印刷したものである。 【効果】 混成集積回路装置の歩留り向上と特性変化を
防止する。
止する。 【構成】 厚膜抵抗体3の上部に施工されたガラスコー
ト4の上部をさらに有機物5で覆うようにコーティング
したものである。また、厚膜抵抗体のサイドに凸部のオ
ーバーガラスコート6を印刷したものである。 【効果】 混成集積回路装置の歩留り向上と特性変化を
防止する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、混成集積回路装置の
抵抗体保護構造に関するものである。
抵抗体保護構造に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図3は従来の混成集積回路装置を示すも
ので、図において、1はセラミック基板、2は導体、3
は基板上に形成され回路の電気的特性を調整する厚膜抵
抗体、4はこの厚膜抵抗体により電気的特性の調整後外
力からの損傷を防ぐためのガラスコートである。
ので、図において、1はセラミック基板、2は導体、3
は基板上に形成され回路の電気的特性を調整する厚膜抵
抗体、4はこの厚膜抵抗体により電気的特性の調整後外
力からの損傷を防ぐためのガラスコートである。
【0003】即ちこの集積回路装置は、セラミック基板
1上に導体ペースト2を印刷後焼成するとともに、抵抗
ペースト3を同様にして印刷後焼成し、さらにその上
に、損傷防止と静電気による劣化を防止するためのガラ
スペースト(オーバーガラス)(バンプガラス)4を印
刷後焼成したものである。
1上に導体ペースト2を印刷後焼成するとともに、抵抗
ペースト3を同様にして印刷後焼成し、さらにその上
に、損傷防止と静電気による劣化を防止するためのガラ
スペースト(オーバーガラス)(バンプガラス)4を印
刷後焼成したものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来の混成集積回路装
置は以上のように構成されており、ガラスコート4が損
傷保護の役割をしているが、このガラスコートの厚みは
数μmのため大きな衝撃が加わった時はほとんど保護の
役割を果たさず、その下の抵抗体3に傷がつき、特性変
動などの要因となっていた。
置は以上のように構成されており、ガラスコート4が損
傷保護の役割をしているが、このガラスコートの厚みは
数μmのため大きな衝撃が加わった時はほとんど保護の
役割を果たさず、その下の抵抗体3に傷がつき、特性変
動などの要因となっていた。
【0005】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、混成集積回路の厚膜抵抗体の外
力からの損傷を保護することを目的とする。
ためになされたもので、混成集積回路の厚膜抵抗体の外
力からの損傷を保護することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明に係る混成集積
回路装置は、厚膜抵抗体の上に施工されたガラスコート
の上部をさらに有機物でコーティングを行ない保護膜を
形成したものである。
回路装置は、厚膜抵抗体の上に施工されたガラスコート
の上部をさらに有機物でコーティングを行ない保護膜を
形成したものである。
【0007】またこの発明に係る混成集積回路装置は、
厚膜抵抗体のサイドにオーバーガラスコートのペースト
印刷を施し、その焼成を数回行なうことによって厚膜抵
抗体の周囲に凸部を形成させたものである。
厚膜抵抗体のサイドにオーバーガラスコートのペースト
印刷を施し、その焼成を数回行なうことによって厚膜抵
抗体の周囲に凸部を形成させたものである。
【0008】
【作用】この発明における混成集積回路装置は、ガラス
コートの上部からさらにコーティングすることにより、
厚い保護膜が形成され外部からの損傷を防止する。
コートの上部からさらにコーティングすることにより、
厚い保護膜が形成され外部からの損傷を防止する。
【0009】またこの発明における混成集積回路装置
は、厚膜抵抗体のサイドにオーバーガラスコートのペー
スト印刷を数回行ない厚膜抵抗体の周囲に凸部を形成す
ることで、外部からの損傷を防止する。
は、厚膜抵抗体のサイドにオーバーガラスコートのペー
スト印刷を数回行ない厚膜抵抗体の周囲に凸部を形成す
ることで、外部からの損傷を防止する。
【0010】
【実施例】実施例1.以下この発明の一実施例を図につ
いて説明する。図1において、1はセラミック基板、2
は導体、3はセラミック基板上に形成された厚膜抵抗
体、4は厚膜抵抗体3の静電気防止のために施されたガ
ラスコートであり、5はさらにこのガラスコート4上に
有機物でコーティングされたラミコート(保護膜)であ
る。この保護膜により外力からの損傷による特性変化を
防止する。
いて説明する。図1において、1はセラミック基板、2
は導体、3はセラミック基板上に形成された厚膜抵抗
体、4は厚膜抵抗体3の静電気防止のために施されたガ
ラスコートであり、5はさらにこのガラスコート4上に
有機物でコーティングされたラミコート(保護膜)であ
る。この保護膜により外力からの損傷による特性変化を
防止する。
【0011】実施例2.図2はこの発明の他の実施例を
示すもので、厚膜抵抗体3の周囲を取り囲んでオーバー
ガラスコート6を、該抵抗体よりも高くなるように数回
印刷して凸部を形成したもので、この凸部の保護によ
り、外力からの損傷又は特性変化を防止することが可能
である。
示すもので、厚膜抵抗体3の周囲を取り囲んでオーバー
ガラスコート6を、該抵抗体よりも高くなるように数回
印刷して凸部を形成したもので、この凸部の保護によ
り、外力からの損傷又は特性変化を防止することが可能
である。
【0012】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、厚膜抵
抗体上のガラスコートの上部にさらに有機物をコーティ
ングすることにより、外力からの損傷と特性変化を防止
することができる。
抗体上のガラスコートの上部にさらに有機物をコーティ
ングすることにより、外力からの損傷と特性変化を防止
することができる。
【0013】またこの発明によれば、厚膜抵抗体の周り
にオーバーガラスコートを、該抵抗体より高くなるよう
に形成することで、これが外力からの防壁となって内側
の抵抗体を保護する。
にオーバーガラスコートを、該抵抗体より高くなるよう
に形成することで、これが外力からの防壁となって内側
の抵抗体を保護する。
【図1】この発明の一実施例による混成集積回路装置を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図2】この発明の他の実施例による混成集積回路装置
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図3】従来の混成集積回路装置を示す断面図である。
1 セラミック基板 2 導体 3 厚膜抵抗体 4 ガラスコート 5 有機物 6 オーバーガラスコート
Claims (2)
- 【請求項1】 セラミック基板上に搭載され、回路の電
気的特性を調整する厚膜抵抗体、この抵抗体の表面上に
形成されたガラスコートを有する混成集積回路装置にお
いて、上記ガラスコート上にさらにラミコート(保護
膜)を形成し、外力から保護したことを特徴とする混成
集積回路装置。 - 【請求項2】 セラミック基板上に搭載され、回路の電
気的特性を調整する厚膜抵抗体、この抵抗体の表面上に
形成されたガラスコートを有する混成集積回路装置にお
いて、上記厚膜抵抗体の表面位置よりも高く、かつ厚膜
抵抗体の周囲を取り囲むようにオーバガラスコートを施
し、外力から保護することを特徴とする混成集積回路装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35711091A JPH05175629A (ja) | 1991-12-24 | 1991-12-24 | 混成集積回路装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35711091A JPH05175629A (ja) | 1991-12-24 | 1991-12-24 | 混成集積回路装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05175629A true JPH05175629A (ja) | 1993-07-13 |
Family
ID=18452436
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP35711091A Pending JPH05175629A (ja) | 1991-12-24 | 1991-12-24 | 混成集積回路装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05175629A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006040419A1 (fr) * | 2004-10-13 | 2006-04-20 | Commissariat A L'energie Atomique | Procede d'obtention de couches localisees sur un circuit hybride |
-
1991
- 1991-12-24 JP JP35711091A patent/JPH05175629A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006040419A1 (fr) * | 2004-10-13 | 2006-04-20 | Commissariat A L'energie Atomique | Procede d'obtention de couches localisees sur un circuit hybride |
JP2008516458A (ja) * | 2004-10-13 | 2008-05-15 | コミツサリア タ レネルジー アトミーク | ハイブリッド回路上に画定される層の製造方法 |
US7759261B2 (en) | 2004-10-13 | 2010-07-20 | Commissariat A L'energie Atomique | Method for producing layers located on a hybrid circuit |
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