JPH05166127A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH05166127A JPH05166127A JP35968891A JP35968891A JPH05166127A JP H05166127 A JPH05166127 A JP H05166127A JP 35968891 A JP35968891 A JP 35968891A JP 35968891 A JP35968891 A JP 35968891A JP H05166127 A JPH05166127 A JP H05166127A
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- glass
- gap
- magnetic
- bonding
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ギャップ長精度や抗折強度を確保することが
でき、ガラス中に気泡が発生することのない磁気ヘッド
の製造方法を提供する。 【構成】 磁気コアの磁気ギャップ形成面にスパッタに
より接合用ガラス膜を成膜し、当該接合用ガラス膜の軟
化点未満、屈伏点以上の温度に加熱し接合一体化する。
スパッタにより成膜された接合用ガラス膜の表層にはＮ
ａ、Ｋ等の金属が偏析して低融点化されており、前記軟
化点未満の温度でも十分に接合強度が得られ、したがっ
て接合用ガラス膜が押し潰されることはない。
でき、ガラス中に気泡が発生することのない磁気ヘッド
の製造方法を提供する。 【構成】 磁気コアの磁気ギャップ形成面にスパッタに
より接合用ガラス膜を成膜し、当該接合用ガラス膜の軟
化点未満、屈伏点以上の温度に加熱し接合一体化する。
スパッタにより成膜された接合用ガラス膜の表層にはＮ
ａ、Ｋ等の金属が偏析して低融点化されており、前記軟
化点未満の温度でも十分に接合強度が得られ、したがっ
て接合用ガラス膜が押し潰されることはない。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ヘッドの製造方法
に関するものであり、いわゆるスパッタガラスによって
磁気コアを接合一体化しギャップ形成する磁気ヘッドの
製造方法に関するものである。
に関するものであり、いわゆるスパッタガラスによって
磁気コアを接合一体化しギャップ形成する磁気ヘッドの
製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】磁気ヘッドを製造する上で、ガラス融着
による磁気コアの接合一体化及びギャップ形成は不可欠
であり、従来、ギャップ長に相当するスペーサ（金属
箔、蒸着膜、スパッタ膜等）を配し、ギャップ形成部分
に融着ガラスを低粘度になるまで加熱して流し込むとい
う方法が広く行われている。
による磁気コアの接合一体化及びギャップ形成は不可欠
であり、従来、ギャップ長に相当するスペーサ（金属
箔、蒸着膜、スパッタ膜等）を配し、ギャップ形成部分
に融着ガラスを低粘度になるまで加熱して流し込むとい
う方法が広く行われている。
【０００３】しかしながら、前述の方法では、非常に狭
い隙間にガラスを流し込むため、ガラスの粘度を低くす
る必要があり、融着時の加熱温度を非常に高く設定する
必要が生ずる。このような高温下で磁気コアの接合を行
うと、磁気コアを構成する磁性体の磁気特性の劣化の原
因となる。また、ガラスによる前記磁性体の浸食によっ
て、ギャップのバラツキが大きくなり、特に光学ギャッ
プ長と実効ギャップ長の差が大きくなる傾向にある。
い隙間にガラスを流し込むため、ガラスの粘度を低くす
る必要があり、融着時の加熱温度を非常に高く設定する
必要が生ずる。このような高温下で磁気コアの接合を行
うと、磁気コアを構成する磁性体の磁気特性の劣化の原
因となる。また、ガラスによる前記磁性体の浸食によっ
て、ギャップのバラツキが大きくなり、特に光学ギャッ
プ長と実効ギャップ長の差が大きくなる傾向にある。
【０００４】ギャップ形成の手法としては、前記融着ガ
ラスによる方法の他、ギャップ長に相当するスペーサ自
体をギャップ充填材とする方法も知られている。しかし
ながら、この方法を採用した場合、ギャップ形成部がガ
ラスによって融着されないことになり、強度不足が問題
となる。
ラスによる方法の他、ギャップ長に相当するスペーサ自
体をギャップ充填材とする方法も知られている。しかし
ながら、この方法を採用した場合、ギャップ形成部がガ
ラスによって融着されないことになり、強度不足が問題
となる。
【０００５】このような状況から、スパッタガラスによ
るギャップ形成法が提案され、注目を集めている。この
スパッタガラスによるギャップ形成法は、磁気コアの突
き合わせ面に形成されたギャップスペーサ上に接合用ガ
ラス膜をスパッタにより形成しておき、この接合用ガラ
ス膜によって接合強度を確保するとともに、ギャップ長
精度を確保するというものである。
るギャップ形成法が提案され、注目を集めている。この
スパッタガラスによるギャップ形成法は、磁気コアの突
き合わせ面に形成されたギャップスペーサ上に接合用ガ
ラス膜をスパッタにより形成しておき、この接合用ガラ
ス膜によって接合強度を確保するとともに、ギャップ長
精度を確保するというものである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
スパッタガラスによるギャップ形成法においては、接合
に際して当然のことのようにスパッタガラスの軟化点以
上の温度に加熱しており、接合時の加圧によってスパッ
タガラスが押し潰され、ギャップ長精度が不安定なもの
となっている。また、スパッタガラス内に気泡が発生す
るという現象も見られる。
スパッタガラスによるギャップ形成法においては、接合
に際して当然のことのようにスパッタガラスの軟化点以
上の温度に加熱しており、接合時の加圧によってスパッ
タガラスが押し潰され、ギャップ長精度が不安定なもの
となっている。また、スパッタガラス内に気泡が発生す
るという現象も見られる。
【０００７】ギャップ長には、これまで以上に厳しい精
度が要求されてきており、前記不安定さや気泡の発生は
好ましいものではない。
度が要求されてきており、前記不安定さや気泡の発生は
好ましいものではない。
【０００８】そこで本発明は、かかる従来の実情に鑑み
て提案されたものであって、ギャップ長精度を確保する
ことができ、気泡の発生を抑制することができる磁気ヘ
ッドの製造方法を提供することを目的とする。
て提案されたものであって、ギャップ長精度を確保する
ことができ、気泡の発生を抑制することができる磁気ヘ
ッドの製造方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者は、前述の目的
を達成せんものと長期に亘り検討を重ねてきた。その結
果、スパッタガラスの軟化点温度より低い温度でもスパ
ッタガラスによる接合強度を確保することができ、スパ
ッタガラスが押し潰されることによるギャップ長の変動
や気泡の発生を抑えることができるとの結論を得た。
を達成せんものと長期に亘り検討を重ねてきた。その結
果、スパッタガラスの軟化点温度より低い温度でもスパ
ッタガラスによる接合強度を確保することができ、スパ
ッタガラスが押し潰されることによるギャップ長の変動
や気泡の発生を抑えることができるとの結論を得た。
【００１０】本発明は、このような知見に基づいて完成
されたものであって、一対の磁気コアの少なくともいず
れか一方の磁気ギャップ形成面に接合用ガラスをスパッ
タにより形成し、これら磁気コアを加熱接合して磁気ヘ
ッドを製造するに際し、接合時の加熱温度を該接合用ガ
ラスの軟化点未満、屈伏点以上とすることを特徴とする
ものである。
されたものであって、一対の磁気コアの少なくともいず
れか一方の磁気ギャップ形成面に接合用ガラスをスパッ
タにより形成し、これら磁気コアを加熱接合して磁気ヘ
ッドを製造するに際し、接合時の加熱温度を該接合用ガ
ラスの軟化点未満、屈伏点以上とすることを特徴とする
ものである。
【００１１】
【作用】一般に、ガラスの表層はＮａ、Ｋ等の金属原子
が偏析しており、内部に比べて低融点化している。した
がって、ガラス全体としての軟化点以下の加熱でもガラ
ス表層は十分に活性化される。本発明は、この現象を利
用して軟化点未満の加熱でスパッタガラスによる接合を
行うもので、この活性化したガラス表層の結合によって
十分な接合強度が確保される。
が偏析しており、内部に比べて低融点化している。した
がって、ガラス全体としての軟化点以下の加熱でもガラ
ス表層は十分に活性化される。本発明は、この現象を利
用して軟化点未満の加熱でスパッタガラスによる接合を
行うもので、この活性化したガラス表層の結合によって
十分な接合強度が確保される。
【００１２】また、スパッタガラス内部には変化はな
く、接合時の加熱によって押し潰されたり気泡が発生す
ることはない。
く、接合時の加熱によって押し潰されたり気泡が発生す
ることはない。
【００１３】
【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて、図面を参照しながら説明する。スパッタガラスに
よる磁気コアの接合を行うには、先ず、図１に示すよう
に、一対の磁気コアＩ，IIを用意する。
いて、図面を参照しながら説明する。スパッタガラスに
よる磁気コアの接合を行うには、先ず、図１に示すよう
に、一対の磁気コアＩ，IIを用意する。
【００１４】この磁気コアＩ，IIは、フェライトからな
る酸化物コア部１，２を主体とするもので、本例では、
一方の磁気コアＩのフロントギャップ形成面とバックギ
ャップ形成面にＦｅ−Ｇａ−ＳｉあるいはＦｅ−Ｇａ−
Ｓｉ−Ｒｕ等の軟磁性金属膜３が成膜され、いわゆる片
側ＭＩＧ構造とされている。
る酸化物コア部１，２を主体とするもので、本例では、
一方の磁気コアＩのフロントギャップ形成面とバックギ
ャップ形成面にＦｅ−Ｇａ−ＳｉあるいはＦｅ−Ｇａ−
Ｓｉ−Ｒｕ等の軟磁性金属膜３が成膜され、いわゆる片
側ＭＩＧ構造とされている。
【００１５】また、これら磁気コアＩ，IIの突き合わせ
面には、それぞれギャップスペーサであるＳｉＯ2 膜
４，５が成膜され、さらにこのＳｉＯ2 膜４，５上には
スパッタガラス膜６，７がスパッタ法により成膜されて
いる。したがって、これら磁気コアＩ，IIを突き合わせ
たときには、前記ＳｉＯ2 膜４，５及びスパッタガラス
膜６，７によって磁気ギャップが形成されることにな
る。なお、前記スパッタガラス膜６，７をギャップスペ
ーサとして利用すれば、ＳｉＯ2 膜４，５は省略するこ
とも可能であるが、スパッタガラスの成膜レートが小さ
いため、生産性の点等からメリットは少ない。
面には、それぞれギャップスペーサであるＳｉＯ2 膜
４，５が成膜され、さらにこのＳｉＯ2 膜４，５上には
スパッタガラス膜６，７がスパッタ法により成膜されて
いる。したがって、これら磁気コアＩ，IIを突き合わせ
たときには、前記ＳｉＯ2 膜４，５及びスパッタガラス
膜６，７によって磁気ギャップが形成されることにな
る。なお、前記スパッタガラス膜６，７をギャップスペ
ーサとして利用すれば、ＳｉＯ2 膜４，５は省略するこ
とも可能であるが、スパッタガラスの成膜レートが小さ
いため、生産性の点等からメリットは少ない。
【００１６】ギャップ形成の際には、上述の磁気コア
Ｉ，IIを図２に示す如く突き合わせ、加熱することによ
ってスパッタガラス膜６，７の表面を活性化し接着す
る。このとき、加熱温度を軟化点未満、屈伏点以上とす
ることで、良好なギャップ形成が行われる。加熱温度が
軟化点以上であると、スパッタガラス膜６，７が押し潰
されて変形し、ギャップ長が変動する虞れがある。ま
た、屈伏点以下であると、接合強度を確保することが難
しい。
Ｉ，IIを図２に示す如く突き合わせ、加熱することによ
ってスパッタガラス膜６，７の表面を活性化し接着す
る。このとき、加熱温度を軟化点未満、屈伏点以上とす
ることで、良好なギャップ形成が行われる。加熱温度が
軟化点以上であると、スパッタガラス膜６，７が押し潰
されて変形し、ギャップ長が変動する虞れがある。ま
た、屈伏点以下であると、接合強度を確保することが難
しい。
【００１７】ここで、軟化点Ｔｓとは、リトルトン温度
とも呼ばれるもので、ガラスの粘度が１０7.65ポイズに
なる温度であり、直径０．５５〜０．７５ｍｍ、長さ２
３．５ｃｍのガラス棒を炉の中に吊るして加熱したと
き、それが軟化して伸びる速度が１ｍｍ／分となるよう
な温度である。
とも呼ばれるもので、ガラスの粘度が１０7.65ポイズに
なる温度であり、直径０．５５〜０．７５ｍｍ、長さ２
３．５ｃｍのガラス棒を炉の中に吊るして加熱したと
き、それが軟化して伸びる速度が１ｍｍ／分となるよう
な温度である。
【００１８】一方、屈伏点とは、図３に示す熱膨張曲線
において、Ｔｃで示される温度である。すなわち、ガラ
スを加熱していくと、図３に示すように、ガラス転移点
Ｔｇで伸びの傾きが変化する。ガラスは、ガラス転移点
以下の温度ではガラス状態（固体）で、ガラス転移点を
越えると過冷却液体と呼ばれる状態になり、粘度が下が
ってくる。ガラス転移点におけるガラスの粘度は１０13
〜１０14ポイズである。そして、さらに加熱していく
と、Ｔｃを越えた時点からガラスが軟化し始めて縮まっ
ていく。前記Ｔｃ以下の温度の加熱であれば、その後冷
却すると元の形状に復帰するが、Ｔｃを越えてしまうと
ガラスが軟化して変形するため、冷却しても元の形状に
戻らない。この温度Ｔｃは、屈伏点や初発軟化点、徐冷
温度等、呼び名が多いが、前述の軟化点と区別するた
め、ここでは屈伏点と呼ぶ。屈伏点Ｔｃにおけるガラス
粘度は１０11〜１０12ポイズである。
において、Ｔｃで示される温度である。すなわち、ガラ
スを加熱していくと、図３に示すように、ガラス転移点
Ｔｇで伸びの傾きが変化する。ガラスは、ガラス転移点
以下の温度ではガラス状態（固体）で、ガラス転移点を
越えると過冷却液体と呼ばれる状態になり、粘度が下が
ってくる。ガラス転移点におけるガラスの粘度は１０13
〜１０14ポイズである。そして、さらに加熱していく
と、Ｔｃを越えた時点からガラスが軟化し始めて縮まっ
ていく。前記Ｔｃ以下の温度の加熱であれば、その後冷
却すると元の形状に復帰するが、Ｔｃを越えてしまうと
ガラスが軟化して変形するため、冷却しても元の形状に
戻らない。この温度Ｔｃは、屈伏点や初発軟化点、徐冷
温度等、呼び名が多いが、前述の軟化点と区別するた
め、ここでは屈伏点と呼ぶ。屈伏点Ｔｃにおけるガラス
粘度は１０11〜１０12ポイズである。
【００１９】ところで、先にも述べたように、軟化点未
満の温度で前記スパッタガラス膜６，７が接着されるの
は、これらスパッタガラス膜６，７の表面にＮａやＫ等
の金属が偏析していることが大いに寄与しているものと
考えられるが、前記ＮａやＫの偏析は、スパッタガラス
膜６，７を成膜する際のスパッタ条件に依存する。そこ
で、前記スパッタガラス膜６，７の成膜に際しては、ス
パッタガス圧を適切な範囲に設定することが好ましい。
満の温度で前記スパッタガラス膜６，７が接着されるの
は、これらスパッタガラス膜６，７の表面にＮａやＫ等
の金属が偏析していることが大いに寄与しているものと
考えられるが、前記ＮａやＫの偏析は、スパッタガラス
膜６，７を成膜する際のスパッタ条件に依存する。そこ
で、前記スパッタガラス膜６，７の成膜に際しては、ス
パッタガス圧を適切な範囲に設定することが好ましい。
【００２０】図４は、スパッタガス圧２．５×１０-3To
rrとしたときのＥＳＣＡでの分析結果を示すもので、図
５は、スパッタガス圧９．３×１０-3Torrとしたときの
ＥＳＣＡでの分析結果を示すものである。スパッタガス
圧２．５×１０-3Torrとしたときには、表面にＮａの偏
析が見られるが、スパッタガス圧９．３×１０-3Torrと
したときには、このような偏析はほとんど見られない。
rrとしたときのＥＳＣＡでの分析結果を示すもので、図
５は、スパッタガス圧９．３×１０-3Torrとしたときの
ＥＳＣＡでの分析結果を示すものである。スパッタガス
圧２．５×１０-3Torrとしたときには、表面にＮａの偏
析が見られるが、スパッタガス圧９．３×１０-3Torrと
したときには、このような偏析はほとんど見られない。
【００２１】したがって、スパッタガラス膜６，７の表
層を十分に低融点化するためには、スパッタ時のガス圧
を１．０×１０-3〜５．０×１０-3Torrとするのが良
い。なお、スパッタ時の雰囲気は、Ａｒのみでもよい
が、この場合にはスパッタガラス膜６，７が金属化して
ギャップ内の気泡の原因となる虞れがあるので、酸素を
適当な割合（例えばＡｒ：Ｏ2 ＝１０：１）で混合させ
ることが好ましい。
層を十分に低融点化するためには、スパッタ時のガス圧
を１．０×１０-3〜５．０×１０-3Torrとするのが良
い。なお、スパッタ時の雰囲気は、Ａｒのみでもよい
が、この場合にはスパッタガラス膜６，７が金属化して
ギャップ内の気泡の原因となる虞れがあるので、酸素を
適当な割合（例えばＡｒ：Ｏ2 ＝１０：１）で混合させ
ることが好ましい。
【００２２】以下、具体的な実験結果について説明す
る。本実験でスパッタガラス膜をスパッタリングするた
めに用いたターゲットは、Ｎａ2 Ｏ、ＣａＯ、Ａｌ2 Ｏ
3 、ＳｉＯ2 からなるものであり、ターゲット寸法は縦
５インチ×横１５インチ×厚さ５ｍｍである。成膜され
るスパッタガラス膜のガラス転移点Ｔｇは５８３℃、屈
伏点Ｔｃは６３８℃、軟化点Ｔｓは７３０℃である。ま
た、スパッタ条件は下記の通りである。
る。本実験でスパッタガラス膜をスパッタリングするた
めに用いたターゲットは、Ｎａ2 Ｏ、ＣａＯ、Ａｌ2 Ｏ
3 、ＳｉＯ2 からなるものであり、ターゲット寸法は縦
５インチ×横１５インチ×厚さ５ｍｍである。成膜され
るスパッタガラス膜のガラス転移点Ｔｇは５８３℃、屈
伏点Ｔｃは６３８℃、軟化点Ｔｓは７３０℃である。ま
た、スパッタ条件は下記の通りである。
【００２３】基板加熱温度 ： ２００℃ 到達真空度 ： ３．０×１０-6Torr スパッタガス ： Ａｒ＋Ｏ2 （１０：１） スパッタガス圧： ２．５×１０-3Torr 投入パワー ： １ｋＷ
【００２４】ギャップスペーサとなる各膜の膜厚構成
は、ＳｉＯ2 膜４，５の膜厚の合計が０．５８μｍ、ス
パッタガラス膜６，７がそれぞれ０．０５μｍである。
前記スパッタガラス膜６，７の膜厚は、スパッタレート
が非常に低いことからなるべく薄く設定することが望ま
しいが、膜としての信頼性や測定精度等を考慮して、こ
こでは０．０５μｍとした。なお、スパッタガラス膜
６，７の膜厚を０．１μｍ以上にすると、ギャップ内に
気泡が多発する。
は、ＳｉＯ2 膜４，５の膜厚の合計が０．５８μｍ、ス
パッタガラス膜６，７がそれぞれ０．０５μｍである。
前記スパッタガラス膜６，７の膜厚は、スパッタレート
が非常に低いことからなるべく薄く設定することが望ま
しいが、膜としての信頼性や測定精度等を考慮して、こ
こでは０．０５μｍとした。なお、スパッタガラス膜
６，７の膜厚を０．１μｍ以上にすると、ギャップ内に
気泡が多発する。
【００２５】融着に際しては、磁気コアＩ，IIをアルミ
ナ当て板間に挟んでアルミナ治具ベースに取付け、加圧
力を加えた。このときの荷重は４ｋｇ・ｆであり、突き
合わせ面の単位荷重は約２５ｋｇ・ｆ／ｃｍ2 である。
なお、荷重が±２０％程度の範囲でばらついてもギャッ
プ長精度に影響は無い。温度条件としては、先ず昇温速
度１０℃／分で５５０℃まで昇温し、１時間保持した
後、５℃／分の割合で再び昇温し、軟化点未満である７
００℃まで昇温した。この状態を１時間保った後、−５
℃／分で徐冷した。
ナ当て板間に挟んでアルミナ治具ベースに取付け、加圧
力を加えた。このときの荷重は４ｋｇ・ｆであり、突き
合わせ面の単位荷重は約２５ｋｇ・ｆ／ｃｍ2 である。
なお、荷重が±２０％程度の範囲でばらついてもギャッ
プ長精度に影響は無い。温度条件としては、先ず昇温速
度１０℃／分で５５０℃まで昇温し、１時間保持した
後、５℃／分の割合で再び昇温し、軟化点未満である７
００℃まで昇温した。この状態を１時間保った後、−５
℃／分で徐冷した。
【００２６】以上の条件で一次融着を行ったところ、ギ
ャップ長の平均値が０．６０μｍ、ばらつきが約０．０
２μｍであった。これは、ギャップ長精度に対して非常
に良い結果であり、軟化点未満の温度（７００℃）では
膜厚にほとんど変化が無い状態でボンディングされるこ
とがわかった。また、抗折強度についても、高温に加熱
してガラスをギャップに流し込むガラス融着法に比べ
て、強度が３０％程度向上していた。また、試験後のチ
ップを観察すると、軟磁性金属膜３の剥離によって割れ
ており、スパッタガラス膜６，７による接合強度は軟磁
性金属膜３の付着強度以上であり、十分な接合強度が確
保されたことが確認された。
ャップ長の平均値が０．６０μｍ、ばらつきが約０．０
２μｍであった。これは、ギャップ長精度に対して非常
に良い結果であり、軟化点未満の温度（７００℃）では
膜厚にほとんど変化が無い状態でボンディングされるこ
とがわかった。また、抗折強度についても、高温に加熱
してガラスをギャップに流し込むガラス融着法に比べ
て、強度が３０％程度向上していた。また、試験後のチ
ップを観察すると、軟磁性金属膜３の剥離によって割れ
ており、スパッタガラス膜６，７による接合強度は軟磁
性金属膜３の付着強度以上であり、十分な接合強度が確
保されたことが確認された。
【００２７】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明においては、磁気コアの磁気ギャップ形成面に接合用
ガラスをスパッタにより形成し、軟化点未満の温度で接
合一体化するようにしているので、ギャップ長精度を確
保することが可能であり、気泡の発生も抑制することが
できる。また、接合強度も十分確保することができるの
で、磁気ヘッドを製造する上で非常に有用である。
明においては、磁気コアの磁気ギャップ形成面に接合用
ガラスをスパッタにより形成し、軟化点未満の温度で接
合一体化するようにしているので、ギャップ長精度を確
保することが可能であり、気泡の発生も抑制することが
できる。また、接合強度も十分確保することができるの
で、磁気ヘッドを製造する上で非常に有用である。
【図１】各磁気コアの概略構成を示す斜視図である。
【図２】磁気コアの突き合わせ状態を示す概略側面図で
ある。
ある。
【図３】ガラスの熱膨張曲線を示す特性図である。
【図４】スパッタガス圧２．５×１０-3Torrとして成膜
されたスパッタガラスのＥＳＣＡでの分析結果を示す特
性図である。
されたスパッタガラスのＥＳＣＡでの分析結果を示す特
性図である。
【図５】スパッタガス圧９．３×１０-3Torrとして成膜
されたスパッタガラスのＥＳＣＡでの分析結果を示す特
性図である。
されたスパッタガラスのＥＳＣＡでの分析結果を示す特
性図である。
Ｉ，II・・・磁気コア ４，５・・・ＳｉＯ2 膜 ６，７・・・スパッタガラス膜
Claims (1)
- 【請求項１】 一対の磁気コアの少なくともいずれか一
方の磁気ギャップ形成面に接合用ガラスをスパッタによ
り形成し、これら磁気コアを加熱接合して磁気ヘッドを
製造するに際し、 接合時の加熱温度を該接合用ガラスの軟化点未満、屈伏
点以上とすることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35968891A JPH05166127A (ja) | 1991-12-11 | 1991-12-11 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35968891A JPH05166127A (ja) | 1991-12-11 | 1991-12-11 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05166127A true JPH05166127A (ja) | 1993-07-02 |
Family
ID=18465789
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35968891A Pending JPH05166127A (ja) | 1991-12-11 | 1991-12-11 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05166127A (ja) |
-
1991
- 1991-12-11 JP JP35968891A patent/JPH05166127A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20020129 |