JP3282197B2 - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

磁気ヘッドの製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、酸化物磁性材料である
フェライトを用いた磁気ヘッドの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】以下に従来の磁気ヘッドの製造方法につ
いて説明する。
【0003】図8に示すように、巻線窓を有するC字型
形状のフェライトコア1と、I字型形状のフェライトコ
ア2の各フェライトコアの突合わせ面は、変質層を除去
してある。
【0004】図9に示すように、フェライトコア1の突
合わせ面にセンダストの磁性薄膜3を成膜した後、図1
0に示すように、磁性薄膜3の上に磁気ギャップとなる
ガラス薄膜5を所定の厚さで成膜する。図11に示すよ
うに2つのフェライトコア1,2を重ね合わせ治具によ
り加圧した後、フロントボンディングガラス6を挿入
し、電気炉にて加熱する工程を経て、ガラス薄膜5と溶
融したフロントボンディングガラス6でフェライトコア
1,2を強固に接合させる。この後、所定寸法に加工し
てメタルインギャップタイプの磁気ヘッドとする。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来の方法では、磁性薄膜5の特性劣化を少なくする温度
領域においては、磁性薄膜5上でのフロントボンディン
グガラス6の流動性が悪く、付着強度が弱く、またガラ
スクラックとかコアはずれが発生するという問題点を有
していた。
【0006】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、フロントボンディングガラスの流動性を良くして付
着強度を高め、ガラスクラックやコアはずれが発生しな
い信頼性の高い磁気ヘッドの製造方法を提供することを
目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の磁気ヘッドの製造方法は、一対の磁気コアの
少なくとも一方のギャップ突き合わせ面に形成された変
質層を除去した後に、ギャップ突き合わせ面に高磁束密
度を有する一層の磁性薄膜を3μm未満の厚さに成膜
し、磁性薄膜の上に一層のフェライト薄膜をスパッタリ
ングにより0.04μm以上0.08μm未満の厚さで成
膜した後、フェライト薄膜の上に磁気ギャップとなるガ
ラス薄膜を形成し、その後に一対の磁気コアをボンディ
ングガラスを用いて接合する構成を有している。
【0008】
【作用】この方法により、フロントボンディングガラス
の流動性が良くなり、付着強度を強くすることとなる。
【0009】
【実施例】以下、本発明の一実施例について図面を参照
しながら説明する。
【0010】本発明の一実施例を示す図1ないし図5で
は、従来例と同一部品に同一番号を付して説明は省略す
る。
【0011】図1に示した突合わせ面の変質層を除去し
たフェライトコア1,2を用い、図2に示すように、フ
ェライトコア1の突合わせ面にセンダストの磁性薄膜3
を1.8μmの膜厚にスパッタリングにより成膜する。
【0012】磁性薄膜の厚さが3μm以上になるとセン
ダストとフェライト間の熱膨張係数の差により応力が大
きくなりフェライトにクラックが発生しやすくなる。
【0013】次に図3に示すように、磁性薄膜3の上に
フェライト膜4を0.04μmの厚さになるように成膜
する。このときフェライト膜4が0.08μm以上の厚
さになるとギャップ長を制御し難くなり、また0.03
μm未満の厚さではガラスの流動性が悪くなる。
【0014】次に図4に示すように、磁気ギャップを構
成する面に、磁気ギャップとなる石英ガラス,鉛ガラス
などのガラス薄膜5をスパッタリングにより所定の厚さ
に成膜する。
【0015】ついで、2つのフェライトコア1,2を重
ね合わせ治具により加圧した後、ガラス薄膜5のガラス
の融点より50℃以上低い融点のボンディングガラス
(SiO2−PbO−Li2O−Na2O−K2O−Al2
3系,転移点372℃)6を挿入して、電気炉にて5
50℃で加熱溶着する。
【0016】本実施例の磁気ヘッドの製造方法による磁
気ヘッドのフロントボンディングガラス6と磁性薄膜3
の間の接合状態を顕微鏡により観察した結果を図6に模
式的に図示した。図6よりわかるようにフロントボンデ
ィングガラス6と磁性薄膜3の間には隙間はできずガラ
スクラックは発生していない。それに対し、従来の磁気
ヘッド製造方法による磁気ヘッドのフロントボンディン
グガラス6と磁性薄膜3の間の接合状態を顕微鏡により
観察し、模式的に図示した図7よりわかるように、フロ
ントボンディングガラス6と磁性薄膜3との間に隙間7
ができ、この隙間7よりガラスクラックやコアはずれが
発生する。
【0017】
【発明の効果】以上の実施例の説明からも明らかなよう
に本発明は、一対の磁気コアの少なくとも一方のギャッ
プ突き合わせ面に形成された変質層を除去した後に、ギ
ャップ突き合わせ面に高磁束密度を有する一層の磁性薄
膜を3μm未満の厚さに成膜し、磁性薄膜の上に一層の
フェライト薄膜をスパッタリングにより0.04μm以
上0.08μm未満の厚さで成膜した後、フェライト薄
膜の上に磁気ギャップとなるガラス薄膜を形成し、その
後に一対の磁気コアをボンディングガラスを用いて接合
する構成を有していることにより、フロントボンディン
グガラスの流動性が良くなり付着強度を高め、ガラスク
ラックやコアはずれが発生しない信頼性の高い優れた磁
気ヘッドの製造方法を実現できるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の磁気ヘッドの製造方法のフ
ェライトコアの斜視図
【図2】同磁気ヘッドの製造方法で図1のフェライトコ
アに磁性薄膜を成膜した状態を示す斜視図
【図3】同磁気ヘッドの製造方法で図2のフェライトコ
アにフェライト膜を成膜した状態を示す斜視図
【図4】同磁気ヘッドの製造方法で図3のフェライトコ
アにガラス薄膜を成膜した状態を示す斜視図
【図5】同磁気ヘッドの製造方法で図4のフェライトコ
アを密着させ、ギャップ部にフロントボンディングガラ
スを挿入した状態を示す斜視図
【図6】同磁気ヘッドの製造方法による磁気ヘッドの要
部断面図
【図7】従来の磁気ヘッドの製造方法による磁気ヘッド
の要部断面図
【図8】同磁気ヘッドの製造方法のフェライトコアの斜
視図
【図9】同磁気ヘッドの製造方法で図8のフェライトコ
アに磁性薄膜を成膜した状態を示す斜視図
【図10】同磁気ヘッドの製造方法で図9のフェライト
コアにガラス薄膜を成膜した状態を示す斜視図
【図11】同磁気ヘッドの製造方法で図10のフェライ
トコアを密着させ、ギャップ部にフロントボンディング
ガラスを挿入した状態を示す斜視図
【符号の説明】
1 フェライトコア 2 フェライトコア 3 磁性薄膜 4 フェライト膜 5 ガラス薄膜 6 フロントボンディングガラス

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一対の磁気コアで形成する磁気ギャップ
    を有する磁気ヘッドの製造方法であって、一対の磁気コ
    アの少なくとも一方のギャップ突き合わせ面に形成され
    た変質層を除去した後に、前記ギャップ突き合わせ面に
    高磁束密度を有する一層の磁性薄膜を3μm未満の厚さ
    に成膜し、前記磁性薄膜の上に一層のフェライト薄膜を
    スパッタリングにより0.04μm以上0.08μm未満
    の厚さで成膜した後、前記フェライト薄膜の上に磁気ギ
    ャップとなるガラス薄膜を形成し、その後に前記一対の
    磁気コアをボンディングガラスを用いて接合する磁気ヘ
    ッドの製造方法。
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