JPH05160101A - 自動洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 薬液処理、流水洗浄、乾燥処理および搬送時
における被処理物のデバイス形成面と収納治具との接触
を防止し、デバイス形成面の付着異物数を低減すること
ができる自動洗浄装置を提供する。 【構成】 半導体集積回路装置の製造工程における半導
体ウエハの自動洗浄装置であって、ウエハ１を収納する
ウエハカセット２と、化学的薬液処理を行う薬液処理槽
３と、ウエハカセット２に収納されたウエハ１を薬液処
理槽３内で傾斜させる傾斜機構６と、流水処理槽、乾燥
処理槽および搬送アームとから構成されている。そし
て、洗浄処理時には、傾斜機構６によってウエハ１のデ
バイス形成面８が所定の角度θだけ上向きに傾斜され、
また搬送時においても、デバイス形成面が上向きに傾斜
される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、洗浄装置に関し、特に
薬液処理槽、流水処理槽および乾燥処理槽を持つ自動洗
浄装置において、槽内での洗浄効率の向上と、搬送時の
デバイス形成面への付着異物数の低減が可能とされる自
動洗浄装置に適用して有効な技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハの洗浄工程において、たと
えばウエハプロセスの汚れによる歩留りの低下を防止す
るために、洗浄作業が頻繁に行われている。その洗浄に
自動洗浄装置が用いられているが、搬送の容易さなどか
ら洗浄時およびウエハカセット搬送時に、ウエハを直立
させて処理を行う方法となっている。

【０００３】たとえば、なお、これに類似する技術とし
ては、社団法人電子通信学会、昭和５９年１１月３０日
発行、「ＬＳＩハンドブック」Ｐ２３８〜Ｐ２３９など
の文献に記載されるものが挙げられる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところが、前記のよう
な従来技術においては、薬液処理、流水洗浄および乾燥
処理中の被処理物と被処理物を収納する収納治具とが接
触し、接触部において上昇層流によどみが生じ、接触部
がデバイス形成面である場合、デバイス形成面の付着異
物数が増加するという問題がある。

【０００５】また、被処理物を収納治具に収納した状態
で搬送する場合においても、収納治具とデバイス形成面
との接触により、収納治具自体の汚れがデバイス形成面
へ転写し、さらにデバイス形成面の付着異物数が増加す
るという問題がある。

【０００６】従って、従来の洗浄装置においては、収納
治具とデバイス形成面との接触によるデバイス形成面の
付着異物数の増加によって、デバイス歩留りが低下する
という問題がある。

【０００７】そこで、本発明の目的は、薬液処理、流水
洗浄、乾燥処理および搬送時の被処理物と収納治具との
接触をデバイス形成面の反対側に限定し、デバイス形成
面の付着異物数を低減することができる自動洗浄装置を
提供することにある。

【０００８】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。

【００１０】すなわち、本発明の自動洗浄装置は、被処
理物の洗浄から乾燥までを行う自動洗浄装置であって、
被処理物を処理槽内で処理する際に、被処理物のデバイ
ス形成面を所定の角度だけ上向きに傾斜させ、デバイス
形成面を収納治具に接触させることなく洗浄および乾燥
を行い、かつ被処理物のデバイス形成面を所定の角度だ
け上向きに傾斜させた状態で処理槽間を搬送するもので
ある。

【００１１】この場合に、前記デバイス形成面の傾斜角
度を１°〜１５°とするようにしたものである。

【００１２】また、前記被処理物を半導体ウエハとする
ようにしたものである。

【００１３】

【作用】前記した自動洗浄装置によれば、被処理物の洗
浄、乾燥および搬送において、被処理物のデバイス形成
面を所定の角度、たとえば傾斜機構によって１°〜１５
°だけ上向きに傾斜させることにより、デバイス形成面
と収納治具との接触を防止し、デバイス形成面の洗浄お
よび乾燥を効率良く行うことができる。

【００１４】すなわち、処理槽内において、デバイス形
成面と収納治具との接触による上昇層流のよどみをなく
すことができるので、デバイス形成面の効率の良い洗浄
が可能となる。これにより、デバイス形成面に付着した
異物および薬液を効率良く除去できるので、洗浄後のデ
バイス形成面への付着異物の低減を図ることができる。

【００１５】また、各処理槽間の被処理物の搬送におい
ても、同様に収納治具を傾斜させることにより、デバイ
ス形成面と収納治具との接触による収納治具自体の汚れ
の転写がなく、デバイス形成面の付着異物の低減が可能
となる。

【００１６】特に、被処理物を半導体ウエハとすること
により、デバイス形成面への付着異物数を低減すること
ができるので、チップ歩留りの向上が可能となる。

【００１７】

【実施例】図１は本発明の一実施例である自動洗浄装置
の要部を示す概略正面図、図２は本実施例の自動洗浄装
置における被処理物の搬送を示す概略正面図である。

【００１８】まず、図１および図２により本実施例の自
動洗浄装置の構成を説明する。

【００１９】本実施例の自動洗浄装置は、たとえば半導
体集積回路装置の製造工程における半導体ウエハの自動
洗浄装置とされ、ウエハ（被処理物）１を収納するウエ
ハカセット（収納治具）２と、化学的薬液処理を行う薬
液処理槽３と、さらに図２に示す薬液処理後の流水洗浄
を行う流水処理槽４と、流水洗浄後の温水引上げまたは
ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）ベーパー乾燥を行う
乾燥処理槽５と、ウエハカセット２に収納されたウエハ
１を、薬液処理槽３、流水処理槽４および乾燥処理槽５
内で傾斜させる傾斜機構６と、ウエハ１の収納されたウ
エハカセット２を傾斜させた状態で搬送を行う搬送アー
ム７とから構成されている。

【００２０】ウエハカセット２は、所定の枚数のウエハ
１が所定の間隔をおいて垂設され、収納状態において処
理および洗浄可能に底面および上面が開口されている。

【００２１】薬液処理槽３は、たとえば化学的洗浄処理
を行う有機溶剤などの高温薬液が貯溜され、薬液への浸
積によってウエハ１の有機物または金属汚染などを取り
除くものである。

【００２２】流水処理槽４は、薬液洗浄後の水洗いのた
めの純水が貯溜され、薬液洗浄による異物および薬液を
洗い落とすためのものである。

【００２３】乾燥処理槽５は、流水洗浄後の乾燥のため
に、たとえば７０〜９０℃の温純水またはＩＰＡ蒸気で
満たされ、ウエハ１の表面の水を取り除くものである。

【００２４】傾斜機構６は、ウエハ１の収納されたウエ
ハカセット２を傾斜させ、ウエハ１のデバイス形成面８
とウエハカセット２との接触を防止するためのものであ
る。

【００２５】そして、処理時には、デバイス形成面８が
所定の角度θ、たとえば１°〜１５°の角度だけ上向き
に傾斜されている。

【００２６】搬送アーム７は、ウエハ１の収納されたウ
エハカセット２を、薬液処理槽３から流水処理槽４、さ
らに乾燥処理槽５に搬送するものである。そして、搬送
中において、ウエハ１の収納されたウエハカセット２を
傾斜させ、デバイス形成面８とウエハカセット２との接
触が防止されている。

【００２７】次に、本実施例の作用について説明する。

【００２８】まず、ウエハカセット２に収納されたウエ
ハ１を薬液処理槽３に浸積する。その際に、傾斜機構６
によってウエハカセット２に傾斜を与え、ウエハカセッ
ト２とウエハ１のデバイス形成面８との接触を防止す
る。そして、薬液処理槽３の内部において、薬液を下方
より上昇層流として吐出させ、デバイス形成面８上で薬
液がよどむことなく全面に当たるようにしてウエハ１の
有機物または金属汚染などを取り除く。

【００２９】さらに、薬液処理槽３で処理されたウエハ
１およびウエハカセット２を、次の処理を行うために流
水処理槽４へ搬送アーム７によって搬送する。この際
に、ウエハ１が収納されたウエハカセット２に、薬液処
理槽３と同様の傾斜を与え、デバイス形成面８とウエハ
カセット２との接触を防止する。

【００３０】続いて、流水処理槽４において、ウエハカ
セット２に収納されたウエハ１を、薬液処理槽３と同様
の傾斜機構６によってウエハカセット２に傾斜を与え、
ウエハカセット２とデバイス形成面８との接触を防止す
る。そして、流水処理槽４の内部で、純水を下方より上
昇層流として吐出させ、デバイス形成面８上で純水がよ
どむことなく全面に当たるようにしてウエハ１の薬液洗
浄による異物および薬液を洗い落とす。

【００３１】さらに、流水処理槽４で処理されたウエハ
１およびウエハカセット２を、次の処理を行うために乾
燥処理槽５へ搬送アーム７によって搬送する。この際
に、ウエハ１が収納されたウエハカセット２に、薬液処
理槽３と同様の傾斜を与え、デバイス形成面８とウエハ
カセット２との接触を防止する。

【００３２】続いて、乾燥処理槽５において、ウエハカ
セット２に収納されたウエハ１を、薬液処理槽３と同様
の傾斜機構６によってウエハカセット２に傾斜を与え、
ウエハカセット２とデバイス形成面８との接触を防止す
る。そして、乾燥処理槽５の内部で、温純水からウエハ
１をゆっくり引き上げる温水引上げ乾燥、またはＩＰＡ
蒸気の中からウエハ１をゆっくり引き上げるＩＰＡベー
パー乾燥方式によりウエハ１を乾燥させる。

【００３３】従って、本実施例の自動洗浄装置によれ
ば、薬液処理槽３、流水処理槽４および乾燥処理槽５の
内部に傾斜機構６を設け、ウエハ１のデバイス形成面８
を所定の角度だけ上向きに傾斜させることにより、デバ
イス形成面８とウエハカセット２との接触を防止するこ
とができるので、デバイス形成面８への異物の付着を低
減することができる。

【００３４】また、槽間搬送中においても、処理槽内部
と同様にウエハ１のデバイス形成面８を上向きの傾斜さ
せることにより、デバイス形成面８とウエハカセット２
との接触防止によってデバイス形成面８への付着異物数
の低減が可能となり、チップ歩留りの向上を図ることが
できる。

【００３５】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることはいうまでもない。

【００３６】たとえば、本実施例の自動洗浄装置につい
ては、デバイス形成面８とウエハカセット２との接触防
止にウエハカセット２を傾斜させる傾斜機構６を用いた
場合について説明したが、本発明は前記実施例に限定さ
れるものではなく、たとえばウエハ１のみを傾斜させる
機構を用いて接触防止を図る場合などについても広く適
用可能である。

【００３７】以上の説明では、主として本発明者によっ
てなされた発明をその利用分野である薬液処理槽３、流
水処理槽４および乾燥処理槽５を持つ自動洗浄装置にお
いて、ウエハ１の洗浄に適用した場合について説明した
が、これに限定されるものではなく、たとえば処理槽間
における相互処理などの他の洗浄装置、および液晶基板
用のガラス材などの他の被処理物の洗浄についても広く
適用可能である。

【００３８】

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。

【００３９】(1).被処理物を処理槽内で処理する際に、
被処理物のデバイス形成面を所定の角度だけ上向きに傾
斜させ、デバイス形成面を収納治具に接触させることな
く洗浄および乾燥を行うことにより、デバイス形成面と
収納治具との接触防止によって上昇層流がよどみなく形
成面に当たり、デバイス形成面の洗浄および乾燥を効率
良く行うことができるので、被処理物のデバイス形成面
上の付着異物数の低減が可能となる。

【００４０】(2).被処理物のデバイス形成面を所定の角
度だけ上向きに傾斜させた状態で処理槽間を搬送するこ
とにより、前記(1) と同様にデバイス形成面と収納治具
との接触防止によって収納治具からの汚れの転写がな
く、これによって搬送時におけるデバイス形成面の付着
異物数の低減が可能となる。

【００４１】(3).前記(1) および(2) により、付着異物
数を低減できるので、被処理物のデバイス歩留りの向上
が可能とされる自動洗浄装置を得ることができる。

【００４２】(4).前記(1) および(2) により、既存の洗
浄装置に容易に傾斜機構を組み込むことができるので、
安価かつ簡単に洗浄効率の向上が可能とされる自動洗浄
装置を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例である自動洗浄装置の要部を
示す概略正面図である。

【図２】本実施例の自動洗浄装置における被処理物の搬
送を示す概略正面図である。

【符号の説明】

１ ウエハ（被処理物） ２ ウエハカセット（収納治具） ３ 薬液処理槽 ４ 流水処理槽 ５ 乾燥処理槽 ６ 傾斜機構 ７ 搬送アーム ８ デバイス形成面

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理物の洗浄から乾燥までを行う自動
   洗浄装置であって、前記被処理物を処理槽内で処理する
   際に、該被処理物のデバイス形成面を所定の角度だけ上
   向きに傾斜させ、該デバイス形成面を収納治具に接触さ
   せることなく洗浄および乾燥を行い、かつ前記被処理物
   のデバイス形成面を所定の角度だけ上向きに傾斜させた
   状態で処理槽間を搬送することを特徴とする自動洗浄装
   置。
2. 【請求項２】 前記デバイス形成面の傾斜角度を１°〜
   １５°とすることを特徴とする請求項１記載の自動洗浄
   装置。
3. 【請求項３】 前記被処理物を半導体ウエハとすること
   を特徴とする請求項１または２記載の自動洗浄装置。