JPH05154386A - 亜酸化窒素の直接分解触媒 - Google Patents
亜酸化窒素の直接分解触媒Info
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- JPH05154386A JPH05154386A JP3323126A JP32312691A JPH05154386A JP H05154386 A JPH05154386 A JP H05154386A JP 3323126 A JP3323126 A JP 3323126A JP 32312691 A JP32312691 A JP 32312691A JP H05154386 A JPH05154386 A JP H05154386A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- nitrous oxide
- alkaline earth
- silicate
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02C—CAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
- Y02C20/00—Capture or disposal of greenhouse gases
- Y02C20/10—Capture or disposal of greenhouse gases of nitrous oxide (N2O)
Landscapes
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 燃焼排ガス中に含有される窒素酸化物の内、
亜酸化窒素（Ｎ2 Ｏ）を除去する触媒に関する。 【構成】 本文に掲げた表Ａに示す特定の粉末Ｘ線回折
における格子面間隔（ｄ値）を有し、かつ脱水された状
態において、酸化物のモル比で表わして ａＲ2 Ｏ・ｂＭＯ・Ａｌ2 Ｏ3 ・ｃＳｉＯ2 （上記式中、Ｒはアルカリ金属イオン及び／又は水素イ
オン、ＭはＣａ，Ｍｇ，Ｓｒ，Ｂａのアルカリ土類金
属、ａ＝０〜２、ｂ＝０．０３〜４０、但しａ＋ｂ＞
１、ｃ＝１１〜１０００）の化学式を有する結晶性シリ
ケートに銅イオンを含有してなる亜酸化窒素の直接接触
分解触媒。
亜酸化窒素（Ｎ2 Ｏ）を除去する触媒に関する。 【構成】 本文に掲げた表Ａに示す特定の粉末Ｘ線回折
における格子面間隔（ｄ値）を有し、かつ脱水された状
態において、酸化物のモル比で表わして ａＲ2 Ｏ・ｂＭＯ・Ａｌ2 Ｏ3 ・ｃＳｉＯ2 （上記式中、Ｒはアルカリ金属イオン及び／又は水素イ
オン、ＭはＣａ，Ｍｇ，Ｓｒ，Ｂａのアルカリ土類金
属、ａ＝０〜２、ｂ＝０．０３〜４０、但しａ＋ｂ＞
１、ｃ＝１１〜１０００）の化学式を有する結晶性シリ
ケートに銅イオンを含有してなる亜酸化窒素の直接接触
分解触媒。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はボイラ排ガス等の燃焼排
ガス中に含有される窒素酸化物の内、亜酸化窒素（以下
Ｎ2 Ｏと略称する）を除去するための触媒に関する。
ガス中に含有される窒素酸化物の内、亜酸化窒素（以下
Ｎ2 Ｏと略称する）を除去するための触媒に関する。
【０００２】
【従来の技術】重油や石炭焚ボイラ、各種化学装置に付
設する燃焼炉、製鉄プラント、ディーゼルエンジンやタ
ービンの如き、内燃機関から排出される排ガス中の窒素
酸化物は一酸化窒素（以下、ＮＯと略称する）を主体と
するもので、その無害化処理としてはアンモニアを還元
剤とした接触分解法が有効な手段として工業化されてお
り、現在ではこの方式を採用した数多くのプラントが稼
動している。
設する燃焼炉、製鉄プラント、ディーゼルエンジンやタ
ービンの如き、内燃機関から排出される排ガス中の窒素
酸化物は一酸化窒素（以下、ＮＯと略称する）を主体と
するもので、その無害化処理としてはアンモニアを還元
剤とした接触分解法が有効な手段として工業化されてお
り、現在ではこの方式を採用した数多くのプラントが稼
動している。
【０００３】この方法に用いる触媒としては、酸化チタ
ンの担体に酸化バナジウムおよび酸化タングステンを担
持した触媒が一般的に知られている。しかし、近年石炭
焚ボイラの発電効率を上昇させる目的で、流動床ボイラ
が建設され稼動を始めているが、流動床ボイラの稼動に
伴い、その排ガス中の窒素酸化物の挙動を調査したとこ
ろ、通常のボイラ排ガスにはほとんど存在していないＮ
2 Ｏが数百ｐｐｍ存在していることが明らかとなった。
ンの担体に酸化バナジウムおよび酸化タングステンを担
持した触媒が一般的に知られている。しかし、近年石炭
焚ボイラの発電効率を上昇させる目的で、流動床ボイラ
が建設され稼動を始めているが、流動床ボイラの稼動に
伴い、その排ガス中の窒素酸化物の挙動を調査したとこ
ろ、通常のボイラ排ガスにはほとんど存在していないＮ
2 Ｏが数百ｐｐｍ存在していることが明らかとなった。
【０００４】Ｎ2 Ｏは前記のアンモニアを還元剤とした
チタニア系触媒では除去できないため、流動床ボイラ等
では地球温室効果ガスとしてあげられているＮ2 Ｏを除
去できずに大気中に放出していることから、環境保全の
立場からその除去触媒の開発が望まれている。
チタニア系触媒では除去できないため、流動床ボイラ等
では地球温室効果ガスとしてあげられているＮ2 Ｏを除
去できずに大気中に放出していることから、環境保全の
立場からその除去触媒の開発が望まれている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】酸化チタン−酸化バナ
ジウム−酸化タングステン触媒を用いた石炭焚流動床ボ
イラの実機脱硝装置において、排ガス発生源に含有され
るＮ2 ＯとＮＯｘ（ＮＯ＋ＮＯ2 ）の挙動を調査したと
ころ、ＮＯｘは脱硝装置入口で４００ｐｐｍであったも
のが触媒で還元分解され、脱硝装置出口では２０ｐｐｍ
まで低下した。一方、Ｎ2 Ｏについては脱硝装置入口、
出口で約１００ｐｐｍと一定で現状のチタニア系触媒で
は除去できないことが明らかとなった。
ジウム−酸化タングステン触媒を用いた石炭焚流動床ボ
イラの実機脱硝装置において、排ガス発生源に含有され
るＮ2 ＯとＮＯｘ（ＮＯ＋ＮＯ2 ）の挙動を調査したと
ころ、ＮＯｘは脱硝装置入口で４００ｐｐｍであったも
のが触媒で還元分解され、脱硝装置出口では２０ｐｐｍ
まで低下した。一方、Ｎ2 Ｏについては脱硝装置入口、
出口で約１００ｐｐｍと一定で現状のチタニア系触媒で
は除去できないことが明らかとなった。
【０００６】本発明者らは既に特定の結晶構造を有する
結晶性シリケートに銅を含有する組成物がＮ2 Ｏの接触
分解触媒として有効であることを見い出して既に提案し
ているが、（特願平０３−１３７９０１号）本発明はそ
の提案の触媒を更に改良しようとするものである。
結晶性シリケートに銅を含有する組成物がＮ2 Ｏの接触
分解触媒として有効であることを見い出して既に提案し
ているが、（特願平０３−１３７９０１号）本発明はそ
の提案の触媒を更に改良しようとするものである。
【０００７】すなわち、本発明者らは上記の提案触媒組
成物に関し、その後も鋭意研究を重ねた結果、上記触媒
組成物は確かに従来のチタニア系脱硝触媒にないＮ2 Ｏ
の分解活性を有する優れたものであるが、５００℃以上
の高温では排ガス中の水分により、担持金属のシンタリ
ング及び結晶性シリケートの脱アルミナ現象が生じるた
め触媒が劣化することが判明した。
成物に関し、その後も鋭意研究を重ねた結果、上記触媒
組成物は確かに従来のチタニア系脱硝触媒にないＮ2 Ｏ
の分解活性を有する優れたものであるが、５００℃以上
の高温では排ガス中の水分により、担持金属のシンタリ
ング及び結晶性シリケートの脱アルミナ現象が生じるた
め触媒が劣化することが判明した。
【０００８】本発明は上記技術水準に鑑み、従来触媒の
ような不都合がなく、Ｎ2 Ｏの接触分解に使用され、耐
熱、耐スチーム性に富む触媒を提供しようとするもので
ある。
ような不都合がなく、Ｎ2 Ｏの接触分解に使用され、耐
熱、耐スチーム性に富む触媒を提供しようとするもので
ある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】耐熱、耐スチーム性に富
む触媒を開発するためには、まず担体の脱アルミニウム
を防ぐ必要があり、結晶格子中のＡｌが安定に存在して
いるならば、高温時においてスチームの存在下の排ガス
条件においても活性金属のシンタリングの度合いが小さ
いことが判った。そこで、本発明者らは脱アルミニウム
が少ない結晶性シリケートを適用することにより耐熱、
耐スチーム性に優れた触媒を開発するに到ったのであ
る。
む触媒を開発するためには、まず担体の脱アルミニウム
を防ぐ必要があり、結晶格子中のＡｌが安定に存在して
いるならば、高温時においてスチームの存在下の排ガス
条件においても活性金属のシンタリングの度合いが小さ
いことが判った。そこで、本発明者らは脱アルミニウム
が少ない結晶性シリケートを適用することにより耐熱、
耐スチーム性に優れた触媒を開発するに到ったのであ
る。
【００１０】すなわち、本発明は排ガス中のＮ2 Ｏを長
時間効率よく除去するための触媒であって、下記表Ａに
示されるＸ線回折特性を有し、脱水された状態におい
て、酸化物のモル比で表して ａＲ2 Ｏ・ｂＭＯ・Ａｌ2 Ｏ3 ・ｃＳｉＯ2 （上記式中、Ｒはアルカリ金属イオン及び／又は水素イ
オン、ＭはＣａ，Ｍｇ，Ｓｒ，Ｂａのアルカリ土類金
属、ａ＝０〜２、ｂ＝０．０３〜４０、但しａ＋ｂ＞
１、ｃ＝１１〜１０００）の化学式を有する結晶性シリ
ケートに銅を含有してなることを特徴とする亜酸化窒素
の直接接触分解触媒である。
時間効率よく除去するための触媒であって、下記表Ａに
示されるＸ線回折特性を有し、脱水された状態におい
て、酸化物のモル比で表して ａＲ2 Ｏ・ｂＭＯ・Ａｌ2 Ｏ3 ・ｃＳｉＯ2 （上記式中、Ｒはアルカリ金属イオン及び／又は水素イ
オン、ＭはＣａ，Ｍｇ，Ｓｒ，Ｂａのアルカリ土類金
属、ａ＝０〜２、ｂ＝０．０３〜４０、但しａ＋ｂ＞
１、ｃ＝１１〜１０００）の化学式を有する結晶性シリ
ケートに銅を含有してなることを特徴とする亜酸化窒素
の直接接触分解触媒である。
【表１】 Ｗ：弱 Ｍ：中級 Ｓ：強 ＶＳ：非常に強 照射は銅のＫα線 Ｉ0 は最も強いピーク強度で Ｉ／Ｉ0 は相対強度
【００１１】
【作用】本発明で使用する触媒はＮ2 Ｏの接触分解反応
に極めて高い活性を示し、また５００℃以上の高温時に
おいてもＮ2 Ｏの分解活性劣化の度合が小さく、十分な
耐久性を有する触媒である。
に極めて高い活性を示し、また５００℃以上の高温時に
おいてもＮ2 Ｏの分解活性劣化の度合が小さく、十分な
耐久性を有する触媒である。
【００１２】本発明触媒が耐久性に優れている理由はア
ルカリ土類含有シリケートを担体に用いている点にあ
る。アルカリ土類をシリケート中に含有させると、脱ア
ルミニウムの促進因子であるシリケート中の強酸点を減
らすことができ、脱アルミニウムが防げて活性金属であ
るＣｕも安定してシリケート担体上に担持されているた
めである。
ルカリ土類含有シリケートを担体に用いている点にあ
る。アルカリ土類をシリケート中に含有させると、脱ア
ルミニウムの促進因子であるシリケート中の強酸点を減
らすことができ、脱アルミニウムが防げて活性金属であ
るＣｕも安定してシリケート担体上に担持されているた
めである。
【００１３】本発明で使用する結晶性シリケートをａＲ
2 Ｏ・ｂＭＯ・Ａｌ2 Ｏ3 ・ｃＳｉＯ2 の化学式におい
て、ａ＝０〜２、ａ＋ｂ＞１と特定したのは該化学式の
結晶性シリケートが合成可能な範囲であるからであり、
ｂ＝０．０３〜４０と特定したのはアルカリ土類が有効
に働く範囲であるからであり、ｃ＝１１〜１０００とし
たのはｃ＜１１では結晶性シリケートの合成が不可能で
あり、ｃ＞１０００では本発明触媒が十分なＮ2 Ｏ分解
活性を有しないからである。
2 Ｏ・ｂＭＯ・Ａｌ2 Ｏ3 ・ｃＳｉＯ2 の化学式におい
て、ａ＝０〜２、ａ＋ｂ＞１と特定したのは該化学式の
結晶性シリケートが合成可能な範囲であるからであり、
ｂ＝０．０３〜４０と特定したのはアルカリ土類が有効
に働く範囲であるからであり、ｃ＝１１〜１０００とし
たのはｃ＜１１では結晶性シリケートの合成が不可能で
あり、ｃ＞１０００では本発明触媒が十分なＮ2 Ｏ分解
活性を有しないからである。
【００１４】上記アルカリ土類金属含有結晶性シリケー
トを合成する場合、シリカ源としては水ガラス、シリカ
ゾル、シリカゲル等が用いられ、アルミナ源としては硝
酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、アルミン酸ナトリ
ウム等が用いられる。又、アルカリ金属イオンは水ガラ
ス中の酸化ナトリウム、アルミン酸ナトリウム、水酸化
ナトリウム等が用いられ、アルカリ土類金属イオンとし
ては酢酸塩、硝酸塩、塩化物等が用いられる。アルカリ
土類金属としてはカルシウム（Ｃａ）、マグネシウム
（Ｍｇ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）
が挙げられる。さらに結晶化鉱化剤としてはテトラプロ
ピルアンモニウムブロマイド等が用いられる。
トを合成する場合、シリカ源としては水ガラス、シリカ
ゾル、シリカゲル等が用いられ、アルミナ源としては硝
酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、アルミン酸ナトリ
ウム等が用いられる。又、アルカリ金属イオンは水ガラ
ス中の酸化ナトリウム、アルミン酸ナトリウム、水酸化
ナトリウム等が用いられ、アルカリ土類金属イオンとし
ては酢酸塩、硝酸塩、塩化物等が用いられる。アルカリ
土類金属としてはカルシウム（Ｃａ）、マグネシウム
（Ｍｇ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）
が挙げられる。さらに結晶化鉱化剤としてはテトラプロ
ピルアンモニウムブロマイド等が用いられる。
【００１５】ここで使用するアルカリ土類含有結晶性シ
リケートの水熱合成を行う反応混合物は次のような割合
で調合する。すなわち、ＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 ：１１〜
１０００（モル比）、ＯＨ- ／ＳｉＯ2 ：０．０１〜１
０、Ｈ2 Ｏ／ＳｉＯ2 ：１〜１０００、テトラプロピル
アンモニウム化合物／ＳｉＯ2 ：０〜４、アルカリ土類
金属／Ａｌ（原子比）：０．０３〜４０である。
リケートの水熱合成を行う反応混合物は次のような割合
で調合する。すなわち、ＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 ：１１〜
１０００（モル比）、ＯＨ- ／ＳｉＯ2 ：０．０１〜１
０、Ｈ2 Ｏ／ＳｉＯ2 ：１〜１０００、テトラプロピル
アンモニウム化合物／ＳｉＯ2 ：０〜４、アルカリ土類
金属／Ａｌ（原子比）：０．０３〜４０である。
【００１６】この結晶性シリケートは上記混合物を８０
〜２００℃で約１〜２００時間加熱攪拌し、水洗により
余剰のイオンを除去した後乾燥し、さらに、焼成するこ
とにより合成することができる。
〜２００℃で約１〜２００時間加熱攪拌し、水洗により
余剰のイオンを除去した後乾燥し、さらに、焼成するこ
とにより合成することができる。
【００１７】本発明触媒は上記アルカリ土類含有結晶性
シリケートに銅をイオン交換法によって担持するか又は
塩化物、硝酸塩等の水溶液にて含浸して担持する方法に
より調製され、担体に担持される銅の含有量は担体１ｇ
当り０．０５〜３ｍｍｏｌ、好ましくは０．２〜２ｍｍ
ｏｌである。
シリケートに銅をイオン交換法によって担持するか又は
塩化物、硝酸塩等の水溶液にて含浸して担持する方法に
より調製され、担体に担持される銅の含有量は担体１ｇ
当り０．０５〜３ｍｍｏｌ、好ましくは０．２〜２ｍｍ
ｏｌである。
【００１８】本発明で使用される触媒の工業的使用に際
しては、適当な形に成形して使用することが望ましい。
例えば、シリカ、アルミナ等の無機酸化物または粘土を
バインダーとし、場合により有機物の成型助剤を使用し
て球状、柱状、ハニカム状に成形する。銅イオンで交換
する前の結晶性シリケートをあらかじめ成形し、その成
形体に銅イオン交換又は含浸したものでも本発明で使用
する触媒とみなすことができる。成形体の大きさは特に
制限されない。
しては、適当な形に成形して使用することが望ましい。
例えば、シリカ、アルミナ等の無機酸化物または粘土を
バインダーとし、場合により有機物の成型助剤を使用し
て球状、柱状、ハニカム状に成形する。銅イオンで交換
する前の結晶性シリケートをあらかじめ成形し、その成
形体に銅イオン交換又は含浸したものでも本発明で使用
する触媒とみなすことができる。成形体の大きさは特に
制限されない。
【００１９】
（実施例１）触媒は下記のようにして調製した。 〇（アルカリ土類含有シリケートＡの合成）硝酸アルミ
ニウム３９５．５ｇと酢酸カルシウム９４．４ｇを水６
５５２ｇに溶かし、これをＡ液とし、キャタロイドＳＩ
−３０水ガラス｛触媒化成（株）、ＳｉＯ2 ：３０．５
％、Ｎａ2 Ｏ：０．４２％｝４２１２ｇを水２８０８ｇ
に溶かし、これをＢ液とした。激しく攪拌しながらＡ液
中にＢ液を加え、次に水１４０４ｇに水酸化ナトリウム
２３４ｇを溶かしたものを加える。更に水２１０６ｇに
テトラプロピルアンモニウムブロマイド（ＴＰＡＢｒ）
５６８．６ｇを溶かしたものを加え、約１０分間攪拌を
続けて水性ゲル混合物を得た。この仕込みモル比はＳｉ
Ｏ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 ＝４０、ＳｉＯ2 ／ＣａＯ＝４０であ
る。
ニウム３９５．５ｇと酢酸カルシウム９４．４ｇを水６
５５２ｇに溶かし、これをＡ液とし、キャタロイドＳＩ
−３０水ガラス｛触媒化成（株）、ＳｉＯ2 ：３０．５
％、Ｎａ2 Ｏ：０．４２％｝４２１２ｇを水２８０８ｇ
に溶かし、これをＢ液とした。激しく攪拌しながらＡ液
中にＢ液を加え、次に水１４０４ｇに水酸化ナトリウム
２３４ｇを溶かしたものを加える。更に水２１０６ｇに
テトラプロピルアンモニウムブロマイド（ＴＰＡＢｒ）
５６８．６ｇを溶かしたものを加え、約１０分間攪拌を
続けて水性ゲル混合物を得た。この仕込みモル比はＳｉ
Ｏ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 ＝４０、ＳｉＯ2 ／ＣａＯ＝４０であ
る。
【００２０】この水性ゲル混合物を内容積２０リットル
のオートクレーブに仕込み、自己圧下、１６０℃で７２
時間攪拌しながら（２００ｒｐｍ）水熱処理した。処理
後反応生成物を遠心分離器を用いて固液分離し、固体成
分は十分水洗し、さらに１２０℃で５時間乾燥した。次
に空気中５００℃で５時間焼成した。得られたＣａ含有
結晶性シリケートをシリケートＡとする。
のオートクレーブに仕込み、自己圧下、１６０℃で７２
時間攪拌しながら（２００ｒｐｍ）水熱処理した。処理
後反応生成物を遠心分離器を用いて固液分離し、固体成
分は十分水洗し、さらに１２０℃で５時間乾燥した。次
に空気中５００℃で５時間焼成した。得られたＣａ含有
結晶性シリケートをシリケートＡとする。
【００２１】〇（アルカリ土類含有シリケートＢ〜Ｎの
合成）アルカリ土類含有シリケートＡの合成で記したの
と同様の方法を用いて、ただし原料のアルカリ土類塩、
配合組成を変更して各種のアルカリ土類金属含有シリケ
ートＢ〜Ｎを製造した。原料仕込み割合を表Ｂに示す。
合成）アルカリ土類含有シリケートＡの合成で記したの
と同様の方法を用いて、ただし原料のアルカリ土類塩、
配合組成を変更して各種のアルカリ土類金属含有シリケ
ートＢ〜Ｎを製造した。原料仕込み割合を表Ｂに示す。
【表２】
【表３】
【００２２】〇（触媒の調製）上記アルカリ土類含有シ
リケートＡ〜Ｎを用いて、０．０４Ｍ酢酸銅溶液に浸
漬、攪拌して銅イオン交換を実施した。室温にて２４時
間攪拌して洗浄後、繰り返し３回、新しい上記溶液にて
銅イオン交換した。洗浄後、乾燥し各々粉末触媒ａ〜ｎ
を得た。
リケートＡ〜Ｎを用いて、０．０４Ｍ酢酸銅溶液に浸
漬、攪拌して銅イオン交換を実施した。室温にて２４時
間攪拌して洗浄後、繰り返し３回、新しい上記溶液にて
銅イオン交換した。洗浄後、乾燥し各々粉末触媒ａ〜ｎ
を得た。
【００２３】（実施例２）実施例１で得たシリケートＡ
を用いて、塩化第２銅の０．０４Ｍ水溶液に浸漬攪拌
し、実施例１と同様の方法にて各々粉末触媒ｏを得た。
を用いて、塩化第２銅の０．０４Ｍ水溶液に浸漬攪拌
し、実施例１と同様の方法にて各々粉末触媒ｏを得た。
【００２４】（比較例１）アルカリ土類金属塩を加えな
い点を除いて実施例１と同様の方法で２種類の結晶性シ
リケートを合成した。このシリケートをシリケートＰ，
Ｑとし原料仕込み割合を表Ｂに併記した。
い点を除いて実施例１と同様の方法で２種類の結晶性シ
リケートを合成した。このシリケートをシリケートＰ，
Ｑとし原料仕込み割合を表Ｂに併記した。
【００２５】これらのシリケートＰ，Ｑを実施例１の触
媒調製と同一方法にてＣｕイオン交換して粉末触媒ｐ，
ｑを得た。
媒調製と同一方法にてＣｕイオン交換して粉末触媒ｐ，
ｑを得た。
【００２６】（実験例１）実施例１、２、比較例１にて
調製した粉末触媒ａ〜ｑを１６〜３２メッシュに整粒
し、触媒０．５ｇを常圧固定床流通式反応器に充填し、
次の反応条件下で活性試験を行なった。その結果を表Ｃ
に示す。 〇 ガス組成 Ｎ2 Ｏ＝５００ｐｐｍ Ｏ2 ＝６％ Ｈｅ＝バランス 〇 ガス流量：３００Ｎｌ／ｈｒ 〇 反応温度：５００℃，６００℃
調製した粉末触媒ａ〜ｑを１６〜３２メッシュに整粒
し、触媒０．５ｇを常圧固定床流通式反応器に充填し、
次の反応条件下で活性試験を行なった。その結果を表Ｃ
に示す。 〇 ガス組成 Ｎ2 Ｏ＝５００ｐｐｍ Ｏ2 ＝６％ Ｈｅ＝バランス 〇 ガス流量：３００Ｎｌ／ｈｒ 〇 反応温度：５００℃，６００℃
【００２７】（実験例２）さらに触媒を灯油焚燃焼炉の
排ガス中に５００℃で２００時間放置して、高温排ガス
での耐久試験を実施した。ガス組成を下記に示す。 〇 ガス組成 ＮＯｘ＝１５０ｐｐｍ Ｏ2 ＝５％ ＣＯ2 ＝１０％ Ｈ2 Ｏ＝９％ Ｎ2 ＝バランス
排ガス中に５００℃で２００時間放置して、高温排ガス
での耐久試験を実施した。ガス組成を下記に示す。 〇 ガス組成 ＮＯｘ＝１５０ｐｐｍ Ｏ2 ＝５％ ＣＯ2 ＝１０％ Ｈ2 Ｏ＝９％ Ｎ2 ＝バランス
【００２８】耐久試験した後の触媒ａ〜ｑを実験例１と
同様の条件にて活性試験を実施した。その結果も併せて
表Ｃに示す。
同様の条件にて活性試験を実施した。その結果も併せて
表Ｃに示す。
【００２９】表Ｃに示すように本発明で使用される触媒
ａ〜ｏは初期及び耐久試験後も高いＮ2 Ｏ除去率を有す
ることが判り耐久性を有する触媒であることが確認され
た。一方通常のシリケート触媒ｐ，ｑは耐久試験後はＮ
2Ｏ除去率が大きく低下し、耐久性に劣ることが判っ
た。
ａ〜ｏは初期及び耐久試験後も高いＮ2 Ｏ除去率を有す
ることが判り耐久性を有する触媒であることが確認され
た。一方通常のシリケート触媒ｐ，ｑは耐久試験後はＮ
2Ｏ除去率が大きく低下し、耐久性に劣ることが判っ
た。
【表４】
【表５】
【００３０】
【発明の効果】以上、実施例に示したように、本発明の
触媒は特定の結晶構造と特定の組成を有する結晶性シリ
ケートに銅を含有させた触媒であって、排ガス中のＮ2
Ｏを長時間安定に低減させることができる。
触媒は特定の結晶構造と特定の組成を有する結晶性シリ
ケートに銅を含有させた触媒であって、排ガス中のＮ2
Ｏを長時間安定に低減させることができる。
【００３１】なお、本発明の実施例では触媒を粒状にて
活性試験を行なっているが、ムライト等のハニカム基材
に本発明触媒をコーティングしたハニカム形状において
も有効に作用することは言うまでもない。
活性試験を行なっているが、ムライト等のハニカム基材
に本発明触媒をコーティングしたハニカム形状において
も有効に作用することは言うまでもない。
Claims (1)
- 【請求項１】 本文に掲げた表Ａに示す粉末Ｘ線回折に
おける格子面間隔（ｄ値）を有し、かつ脱水された状態
において、酸化物のモル比で表して ａＲ2 Ｏ・ｂＭＯ・Ａｌ2 Ｏ3 ・ｃＳｉＯ2 （上記式中、Ｒはアルカリ金属イオン及び／又は水素イ
オン、ＭはＣａ，Ｍｇ，Ｓｒ，Ｂａのアルカリ土類金
属、ａ＝０〜２、ｂ＝０．０３〜４０、但しａ＋ｂ＞
１、ｃ＝１１〜１０００）の化学式を有する結晶性シリ
ケートに銅イオンを含有してなることを特徴とする亜酸
化窒素の直接接触分解触媒。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3323126A JPH05154386A (ja) | 1991-12-06 | 1991-12-06 | 亜酸化窒素の直接分解触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3323126A JPH05154386A (ja) | 1991-12-06 | 1991-12-06 | 亜酸化窒素の直接分解触媒 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05154386A true JPH05154386A (ja) | 1993-06-22 |
Family
ID=18151379
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3323126A Withdrawn JPH05154386A (ja) | 1991-12-06 | 1991-12-06 | 亜酸化窒素の直接分解触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05154386A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07163870A (ja) * | 1993-08-27 | 1995-06-27 | Engelhard Corp | Ｎ２ｏのｎ２ｏ含有気体混合物からの除去法 |
-
1991
- 1991-12-06 JP JP3323126A patent/JPH05154386A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07163870A (ja) * | 1993-08-27 | 1995-06-27 | Engelhard Corp | Ｎ２ｏのｎ２ｏ含有気体混合物からの除去法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990311 |