JPH04363145A - 亜酸化窒素の直接接触分解触媒 - Google Patents
亜酸化窒素の直接接触分解触媒Info
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- JPH04363145A JPH04363145A JP3137901A JP13790191A JPH04363145A JP H04363145 A JPH04363145 A JP H04363145A JP 3137901 A JP3137901 A JP 3137901A JP 13790191 A JP13790191 A JP 13790191A JP H04363145 A JPH04363145 A JP H04363145A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02C—CAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
- Y02C20/00—Capture or disposal of greenhouse gases
- Y02C20/10—Capture or disposal of greenhouse gases of nitrous oxide (N2O)
Landscapes
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はボイラ排ガス等の燃焼排
ガス中に含有される窒素酸化物の内、亜酸化窒素（以下
Ｎ２ Ｏと略称する）を除去するための触媒に関する。
ガス中に含有される窒素酸化物の内、亜酸化窒素（以下
Ｎ２ Ｏと略称する）を除去するための触媒に関する。
【０００２】
【従来の技術】重油や石炭焚ボイラ、各種化学装置に付
設する燃焼炉、製鉄プラント、ディーゼルエンジンやタ
ービンの如き、内燃機関から排出される排ガス中の窒素
酸化物は一酸化窒素（以下ＮＯと略称する）を主体とす
るもので、その無害化処理としてはアンモニアを還元剤
とした接触分解法が有効な手段として工業化されており
、現在ではこの方式を採用した数多くのプラントが稼動
している。
設する燃焼炉、製鉄プラント、ディーゼルエンジンやタ
ービンの如き、内燃機関から排出される排ガス中の窒素
酸化物は一酸化窒素（以下ＮＯと略称する）を主体とす
るもので、その無害化処理としてはアンモニアを還元剤
とした接触分解法が有効な手段として工業化されており
、現在ではこの方式を採用した数多くのプラントが稼動
している。
【０００３】この方法に用いる触媒としては、酸化チタ
ンの担体に酸化バナジウムおよび酸化タングステンを担
持した触媒が一般的に知られている。しかし、近年石炭
焚ボイラの発電効率を上昇させる目的で、流動床ボイラ
が建設され、稼動を始めているが、流動床ボイラの稼動
に伴い、その排ガス中の窒素酸化物の挙動を調査したと
ころ、通常のボイラ排ガスにはほとんど存在していない
Ｎ２ Ｏが数百ｐｐｍ 存在していることが明らかとな
った。
ンの担体に酸化バナジウムおよび酸化タングステンを担
持した触媒が一般的に知られている。しかし、近年石炭
焚ボイラの発電効率を上昇させる目的で、流動床ボイラ
が建設され、稼動を始めているが、流動床ボイラの稼動
に伴い、その排ガス中の窒素酸化物の挙動を調査したと
ころ、通常のボイラ排ガスにはほとんど存在していない
Ｎ２ Ｏが数百ｐｐｍ 存在していることが明らかとな
った。
【０００４】Ｎ２ Ｏは前記のアンモニアを還元剤とし
たチタニア系触媒では除去できないため、流動床ボイラ
等では地球温室効果ガスとして上げられているＮ２ Ｏ
を除去できずに大気中に放出していることから、環境保
全の立場からその除去触媒の開発が望まれている。
たチタニア系触媒では除去できないため、流動床ボイラ
等では地球温室効果ガスとして上げられているＮ２ Ｏ
を除去できずに大気中に放出していることから、環境保
全の立場からその除去触媒の開発が望まれている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】酸化チタン−酸化バナ
ジウム−酸化タングステン触媒を用いた石炭焚流動床ボ
イラの実機脱硝装置において、排ガス発生源に含有され
るＮ２ ＯとＮＯｘ（ＮＯ＋ＮＯ２ ）の挙動を調査し
たところ、ＮＯｘは脱硝装置入口で４００ｐｐｍ であ
ったものが触媒で還元分解され、脱硝装置出口では２０
ｐｐｍ まで低下した。一方、Ｎ２ Ｏについては脱硝
装置入口、出口で約１００ｐｐｍ と一定で現状のチタ
ニア系触媒では除去できないことが明らかとなった。
ジウム−酸化タングステン触媒を用いた石炭焚流動床ボ
イラの実機脱硝装置において、排ガス発生源に含有され
るＮ２ ＯとＮＯｘ（ＮＯ＋ＮＯ２ ）の挙動を調査し
たところ、ＮＯｘは脱硝装置入口で４００ｐｐｍ であ
ったものが触媒で還元分解され、脱硝装置出口では２０
ｐｐｍ まで低下した。一方、Ｎ２ Ｏについては脱硝
装置入口、出口で約１００ｐｐｍ と一定で現状のチタ
ニア系触媒では除去できないことが明らかとなった。
【０００６】また現在実用化されているチタニア系のＮ
Ｏｘ除去触媒は還元剤としてアンモニアを必要とするこ
とから、ランニングコストが高く、未反応還元剤の大気
中への放出による２次公害が問題となるという欠点があ
る。
Ｏｘ除去触媒は還元剤としてアンモニアを必要とするこ
とから、ランニングコストが高く、未反応還元剤の大気
中への放出による２次公害が問題となるという欠点があ
る。
【０００７】本発明は従来のＮＯｘ除去触媒では除去で
きなかったＮ２ Ｏの除去を可能とすると共に、還元剤
などの特別な添加剤を必要とせず、触媒層にガスを通す
だけで窒素と酸素に分解するＮ２ Ｏの接触分解触媒を
提供しようとするものである。
きなかったＮ２ Ｏの除去を可能とすると共に、還元剤
などの特別な添加剤を必要とせず、触媒層にガスを通す
だけで窒素と酸素に分解するＮ２ Ｏの接触分解触媒を
提供しようとするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】排ガス中の窒素酸化物の
内ＮＯの接触分解触媒としてはアルミノシリケート系ゼ
オライト担体に銅イオン交換を行ったゼオライトが一般
的に知られている。
内ＮＯの接触分解触媒としてはアルミノシリケート系ゼ
オライト担体に銅イオン交換を行ったゼオライトが一般
的に知られている。
【０００９】本発明者らはこれらの知見を基にして、Ｎ
２ Ｏの接触分解触媒の探索を行い、担持する金属イオ
ンと担体の組み合わせにおいて、金属イオン交換結晶性
シリケートの基礎物性についての研究と理論的考察を積
み重ね、銅イオンを含有し、かつ特定の結晶構造を有す
る結晶性シリケートがＮ２ Ｏの接触分解触媒として高
い定常活性を示すことを見い出した。
２ Ｏの接触分解触媒の探索を行い、担持する金属イオ
ンと担体の組み合わせにおいて、金属イオン交換結晶性
シリケートの基礎物性についての研究と理論的考察を積
み重ね、銅イオンを含有し、かつ特定の結晶構造を有す
る結晶性シリケートがＮ２ Ｏの接触分解触媒として高
い定常活性を示すことを見い出した。
【００１０】すなわち、本発明は排ガス中のＮ２ Ｏを
効率よく除去するための触媒であって、４００℃〜７０
０℃の条件下で下記表１に示されるＸ線回折特性を有し
、脱水された状態において、酸化物のモル比で（１．０
±０．８）Ｒ２ Ｏ・〔ａＭ２ Ｏ３ ・ｂＡｌ２ Ｏ
３ 〕・ｙＳｉＯ２ （上記式中、Ｒ：アルカリ金属イ
オン及び／又は水素イオン、Ｍ：ＶＩＩＩ族元素、希土
類元素、チタン、バナジウム、クロム、ニオブ、アンチ
モン、ガリウムからなる群から選ばれた１種以上の元素
のイオン、ａ＋ｂ＝１，ａ≧０，ｂ＞０，ｙ＝２０〜１
０００）の化学組成を有する結晶性シリケートに銅を含
有してなることを特徴とする亜酸化窒素の直接接触分解
触媒である。
効率よく除去するための触媒であって、４００℃〜７０
０℃の条件下で下記表１に示されるＸ線回折特性を有し
、脱水された状態において、酸化物のモル比で（１．０
±０．８）Ｒ２ Ｏ・〔ａＭ２ Ｏ３ ・ｂＡｌ２ Ｏ
３ 〕・ｙＳｉＯ２ （上記式中、Ｒ：アルカリ金属イ
オン及び／又は水素イオン、Ｍ：ＶＩＩＩ族元素、希土
類元素、チタン、バナジウム、クロム、ニオブ、アンチ
モン、ガリウムからなる群から選ばれた１種以上の元素
のイオン、ａ＋ｂ＝１，ａ≧０，ｂ＞０，ｙ＝２０〜１
０００）の化学組成を有する結晶性シリケートに銅を含
有してなることを特徴とする亜酸化窒素の直接接触分解
触媒である。
【表１】
Ｗ：弱 照射は銅のＫ
α線Ｍ：中級 Ｉ０ は最
も強いピーク強度でＳ：強
Ｉ／Ｉ０ は相対強度ＶＳ：非常に強
α線Ｍ：中級 Ｉ０ は最
も強いピーク強度でＳ：強
Ｉ／Ｉ０ は相対強度ＶＳ：非常に強
【００１１】
【作用】本発明で使用する触媒はＮ２ Ｏの接触分解反
応に極めて高い活性を示し、またその活性が長時間にわ
たって持続するのはＣｕ２＋＝Ｃｕ＋ （平衡反応）の
酸化還元サイクルが容易で酸素を比較的低温で放出する
機構と、この触媒の担体として用いている結晶性シリケ
ートの特異的な結晶構造とその構造安定性及び耐熱性等
が複合的に作用しているためと考える。
応に極めて高い活性を示し、またその活性が長時間にわ
たって持続するのはＣｕ２＋＝Ｃｕ＋ （平衡反応）の
酸化還元サイクルが容易で酸素を比較的低温で放出する
機構と、この触媒の担体として用いている結晶性シリケ
ートの特異的な結晶構造とその構造安定性及び耐熱性等
が複合的に作用しているためと考える。
【００１２】なお、本発明で使用する上記結晶性シリケ
ートは、シリカの給源、ＶＩＩＩ族元素、希土類元素、
チタン、バナジウム、クロム、ニオブ、アンチモン、ガ
リウムの酸化物の給源、アルミナの給源、アルカリの給
源、水及び有機窒素含有化合物を含有する反応混合物を
つくり、この混合物が結晶性シリケートが生成するのに
至る時間及び温度で加熱することにより合成することが
できる。
ートは、シリカの給源、ＶＩＩＩ族元素、希土類元素、
チタン、バナジウム、クロム、ニオブ、アンチモン、ガ
リウムの酸化物の給源、アルミナの給源、アルカリの給
源、水及び有機窒素含有化合物を含有する反応混合物を
つくり、この混合物が結晶性シリケートが生成するのに
至る時間及び温度で加熱することにより合成することが
できる。
【００１３】さらに、本発明で使用する結晶性シリケー
トは、ＳｉＯ２ ／Ａｌ２ Ｏ３ 比が２０〜１０００
の高シリカ結晶性シリケートまたは、従来の結晶性シリ
ケートの構造中のＡｌの一部が、ＶＩＩＩ族元素、希土
類元素、チタン、バナジウム、クロム、ニオブ、アンチ
モン、ガリウムに置きかわったものであり、さらにＳｉ
Ｏ２ ／（Ｍ２ Ｏ３ ＋Ａｌ２ Ｏ３ ）比が２０〜
１０００であることを特徴としており、（この比が２０
未満ではＮ２ Ｏの分解の効果が少なく、１０００を越
えるとシリカライトと呼ばれる物質に近づき触媒として
の効果がなくなる）下記のモル組成の反応混合物から製
造される。 ＳｉＯ２ ／（Ｍ２ Ｏ３ ＋Ａｌ２ Ｏ３ ）：
２０〜１０００（好ましくは、２０〜
２００） ＯＨ− ／ＳｉＯ２ ：０〜１
．０（好ましくは、０．２〜０．８） Ｈ２ Ｏ／Ｓ
ｉＯ２ ：２〜１０００（好ましくは、１０〜２００）
有機窒素含有化合物／（Ｍ２ Ｏ３ ＋Ａｌ２ Ｏ
３ ）：５〜１００（好ましくは、
５〜５０）
トは、ＳｉＯ２ ／Ａｌ２ Ｏ３ 比が２０〜１０００
の高シリカ結晶性シリケートまたは、従来の結晶性シリ
ケートの構造中のＡｌの一部が、ＶＩＩＩ族元素、希土
類元素、チタン、バナジウム、クロム、ニオブ、アンチ
モン、ガリウムに置きかわったものであり、さらにＳｉ
Ｏ２ ／（Ｍ２ Ｏ３ ＋Ａｌ２ Ｏ３ ）比が２０〜
１０００であることを特徴としており、（この比が２０
未満ではＮ２ Ｏの分解の効果が少なく、１０００を越
えるとシリカライトと呼ばれる物質に近づき触媒として
の効果がなくなる）下記のモル組成の反応混合物から製
造される。 ＳｉＯ２ ／（Ｍ２ Ｏ３ ＋Ａｌ２ Ｏ３ ）：
２０〜１０００（好ましくは、２０〜
２００） ＯＨ− ／ＳｉＯ２ ：０〜１
．０（好ましくは、０．２〜０．８） Ｈ２ Ｏ／Ｓ
ｉＯ２ ：２〜１０００（好ましくは、１０〜２００）
有機窒素含有化合物／（Ｍ２ Ｏ３ ＋Ａｌ２ Ｏ
３ ）：５〜１００（好ましくは、
５〜５０）
【００１４】
また、本発明で使用する結晶性シリケートよりなる担体
に担持される銅の含有量は、担体１ｇ当り０．０５〜３
ｍｍｏｌ、好ましくは０．２〜２ｍｍｏｌである。
また、本発明で使用する結晶性シリケートよりなる担体
に担持される銅の含有量は、担体１ｇ当り０．０５〜３
ｍｍｏｌ、好ましくは０．２〜２ｍｍｏｌである。
【００１５】本発明で使用される触媒の工業的使用に際
しては、適当な形に成形して使用することが望ましい。 例えば、シリカ、アルミナ等の無機酸化物または粘土を
バインダーとし、場合により有機物の成型助剤を使用し
て球状、柱状、ハニカム状に成形する。銅イオンで交換
する前の結晶性シリケートをあらかじめ成形し、その成
形体を銅イオン交換したものでも本発明で使用する触媒
とみなすことができる。成形体の大きさは特に制限され
ない。
しては、適当な形に成形して使用することが望ましい。 例えば、シリカ、アルミナ等の無機酸化物または粘土を
バインダーとし、場合により有機物の成型助剤を使用し
て球状、柱状、ハニカム状に成形する。銅イオンで交換
する前の結晶性シリケートをあらかじめ成形し、その成
形体を銅イオン交換したものでも本発明で使用する触媒
とみなすことができる。成形体の大きさは特に制限され
ない。
【００１６】
【実施例】結晶性シリケートを次のようにして合成した
。水ガラス、硫酸第二鉄、硫酸アルミニウム、水をＮａ
２ Ｏ・（０．１Ｆｅ２ Ｏ３ ・０．９Ａｌ２ Ｏ３
）・３０ＳｉＯ２ ・１６００Ｈ２ Ｏのモル比にな
るように調合し、これに硫酸を適当量添加し、上記混合
物のｐＨが９前後になるようにした後、有機窒素含有化
合物としてプロピルアミン、臭化プロピルをＦｅ２ Ｏ
３ ，Ａｌ２ Ｏ３ の合計のモル数の２０倍加えてよ
く混合し、５００ｃｃのステンレス製オートクレーブに
はり込んだ。
。水ガラス、硫酸第二鉄、硫酸アルミニウム、水をＮａ
２ Ｏ・（０．１Ｆｅ２ Ｏ３ ・０．９Ａｌ２ Ｏ３
）・３０ＳｉＯ２ ・１６００Ｈ２ Ｏのモル比にな
るように調合し、これに硫酸を適当量添加し、上記混合
物のｐＨが９前後になるようにした後、有機窒素含有化
合物としてプロピルアミン、臭化プロピルをＦｅ２ Ｏ
３ ，Ａｌ２ Ｏ３ の合計のモル数の２０倍加えてよ
く混合し、５００ｃｃのステンレス製オートクレーブに
はり込んだ。
【００１７】上記混合物を約５００ｒｐｍ にて攪拌し
ながら１６０℃で３日間反応させた。冷却後、固形分を
ろ過し、洗浄水のｐＨが約８になるまで充分水洗し、１
１０℃で１２時間乾燥して５５０℃で３時間焼成した。
ながら１６０℃で３日間反応させた。冷却後、固形分を
ろ過し、洗浄水のｐＨが約８になるまで充分水洗し、１
１０℃で１２時間乾燥して５５０℃で３時間焼成した。
【００１８】この生成物の結晶粒径は１μ前後であり、
酸化物のモル比で表わした組成は脱水の形態で表して、
（Ｈ，Ｎａ）２ Ｏ・（０．１Ｆｅ２ Ｏ３ ・０．９
Ａｌ２ Ｏ３ ）・３０ＳｉＯ２ であった。これを結
晶性シリケート１と称する。
酸化物のモル比で表わした組成は脱水の形態で表して、
（Ｈ，Ｎａ）２ Ｏ・（０．１Ｆｅ２ Ｏ３ ・０．９
Ａｌ２ Ｏ３ ）・３０ＳｉＯ２ であった。これを結
晶性シリケート１と称する。
【００１９】この結晶性シリケート１を合成する場合、
原料の中で硫酸の代わりに塩酸などを用いても、又、硫
酸第二鉄の代わりに塩化第二鉄を用いても、又水ガラス
の代わりにシリカゾルを用いても同様のシリケートが得
られた。
原料の中で硫酸の代わりに塩酸などを用いても、又、硫
酸第二鉄の代わりに塩化第二鉄を用いても、又水ガラス
の代わりにシリカゾルを用いても同様のシリケートが得
られた。
【００２０】又、水熱合成条件として１６０℃で３日間
反応させる代わりに１７０℃または１８０℃で２日間反
応させても同様のシリケートが得られた。
反応させる代わりに１７０℃または１８０℃で２日間反
応させても同様のシリケートが得られた。
【００２１】結晶性シリケート１の原料調合時の硫酸第
二鉄と硫酸アルミニウムの添加量をＦｅ２ Ｏ３ とＡ
ｌ２ Ｏ３ のモル比に換算して下記のように変えた以
外は、結晶性シリケート１の場合と同じ操作を繰り返し
て結晶性シリケート２〜４を調製した。
二鉄と硫酸アルミニウムの添加量をＦｅ２ Ｏ３ とＡ
ｌ２ Ｏ３ のモル比に換算して下記のように変えた以
外は、結晶性シリケート１の場合と同じ操作を繰り返し
て結晶性シリケート２〜４を調製した。
【００２２】結晶性シリケート１の調合時において、硫
酸の代わりに塩酸を用い、また硫酸第二鉄の代わりに、
塩化コバルト、塩化ルテニウム、塩化ロジウム、塩化ラ
ンタン、塩化セリウム、塩化チタン、塩化バナジウム、
塩化クロム、塩化アンチモン、塩化ガリウムを各々酸化
物換算でＦｅ２ Ｏ３ と同じモル数だけ添加した以外
は結晶性シリケート１と同じ操作を繰返して結晶性シリ
ケート５〜１４を調製した。
酸の代わりに塩酸を用い、また硫酸第二鉄の代わりに、
塩化コバルト、塩化ルテニウム、塩化ロジウム、塩化ラ
ンタン、塩化セリウム、塩化チタン、塩化バナジウム、
塩化クロム、塩化アンチモン、塩化ガリウムを各々酸化
物換算でＦｅ２ Ｏ３ と同じモル数だけ添加した以外
は結晶性シリケート１と同じ操作を繰返して結晶性シリ
ケート５〜１４を調製した。
【００２３】これらの結晶性シリケートの有機窒素含有
化合物を除外した組成は、酸化物のモル比（脱水の形態
）で表わして、（Ｈ，Ｎａ）２ Ｏ・（０．１Ｍ２ Ｏ
３ ・０．９Ａｌ２ Ｏ３ ）・３０ＳｉＯ２ であっ
た。ここでＭはＣｏ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｔｉ，
Ｖ，Ｃｒ，Ｓｂ，Ｇａ（結晶性シリケート５〜１４の番
号順）である。
化合物を除外した組成は、酸化物のモル比（脱水の形態
）で表わして、（Ｈ，Ｎａ）２ Ｏ・（０．１Ｍ２ Ｏ
３ ・０．９Ａｌ２ Ｏ３ ）・３０ＳｉＯ２ であっ
た。ここでＭはＣｏ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｔｉ，
Ｖ，Ｃｒ，Ｓｂ，Ｇａ（結晶性シリケート５〜１４の番
号順）である。
【００２４】また結晶性シリケート１において調合時の
ＳｉＯ２ ／（０．１Ｆｅ２ Ｏ３ ＋０．９Ａｌ２
Ｏ３ ）比を２０，８０とした以外は結晶性シリケート
１と同じ操作を繰り返して各々結晶性シリケート１５，
１６を調製した。
ＳｉＯ２ ／（０．１Ｆｅ２ Ｏ３ ＋０．９Ａｌ２
Ｏ３ ）比を２０，８０とした以外は結晶性シリケート
１と同じ操作を繰り返して各々結晶性シリケート１５，
１６を調製した。
【００２５】以上の結晶性シリケート１〜１６の粉末Ｘ
線回折パターンは前記表１に示すパターンを示すことが
確認された。
線回折パターンは前記表１に示すパターンを示すことが
確認された。
【００２６】以上の結晶性シリケート１〜１６のそれぞ
れ１０ｇを酢酸銅１ｇを５００ｃｃの水に溶解した水溶
液の中に入れ、室温にて１２時間攪拌するイオン交換操
作を３回繰り返し行った後、水洗し、１００℃で１２時
間乾燥し、触媒１〜１６（結晶性シリケートの番号に対
応）を調製した。
れ１０ｇを酢酸銅１ｇを５００ｃｃの水に溶解した水溶
液の中に入れ、室温にて１２時間攪拌するイオン交換操
作を３回繰り返し行った後、水洗し、１００℃で１２時
間乾燥し、触媒１〜１６（結晶性シリケートの番号に対
応）を調製した。
【００２７】触媒１〜１６を１６〜３２メッシュに整粒
し、触媒０．５ｇを常圧固定床流通式反応器に充填し、
次の反応条件下で活性評価試験を行った。その結果を下
記表２に示す。
し、触媒０．５ｇを常圧固定床流通式反応器に充填し、
次の反応条件下で活性評価試験を行った。その結果を下
記表２に示す。
【００２８】○ ガス組成
Ｎ２ Ｏ＝５００ｐｐｍ
Ｏ２ ＝６％
Ｈｅ＝バランス
○ ガス流量：３００Ｎｌ／ｈｒ
○ 反応温度：４００℃，５００℃，６００℃
【００
２９】（比較例）アンモニアを還元剤としたＮＯｘの接
触分解触媒として用いられている酸化チタン−酸化タン
グステン及び酸化チタン−酸化タングステン−酸化バナ
ジウム系触媒を実施例と同一条件で活性試験を実施した
。その結果を表２に併せて示す。
２９】（比較例）アンモニアを還元剤としたＮＯｘの接
触分解触媒として用いられている酸化チタン−酸化タン
グステン及び酸化チタン−酸化タングステン−酸化バナ
ジウム系触媒を実施例と同一条件で活性試験を実施した
。その結果を表２に併せて示す。
【表２】
【００３０】以上のように本発明で使用される触媒は、
特に５００℃〜６００℃の温度において、Ｎ２ Ｏに対
し高い除去性能を示すことが判った。
特に５００℃〜６００℃の温度において、Ｎ２ Ｏに対
し高い除去性能を示すことが判った。
【００３１】
【発明の効果】以上、実施例に示したように、本発明の
触媒は特定の結晶構造と特定の組成を有する結晶性シリ
ケートに銅を含有させた触媒であって、排ガス中のＮ２
Ｏを低減させることができる。なお、本発明の実施例
では触媒を粒状にて活性試験を行っているが、ムライト
等のハニカム基材に本発明触媒をコーティングしたハニ
カム形状においても有効に作用することは言うまでもな
い。
触媒は特定の結晶構造と特定の組成を有する結晶性シリ
ケートに銅を含有させた触媒であって、排ガス中のＮ２
Ｏを低減させることができる。なお、本発明の実施例
では触媒を粒状にて活性試験を行っているが、ムライト
等のハニカム基材に本発明触媒をコーティングしたハニ
カム形状においても有効に作用することは言うまでもな
い。
Claims (1)
- 【請求項１】 本文に掲げた表１に示す粉末Ｘ線回折
における格子面間隔（ｄ値）を有し、かつ脱水された状
態において、酸化物のモル比で（１．０±０．８）Ｒ２
Ｏ・〔ａＭ２ Ｏ３ ・ｂＡｌ２ Ｏ３ 〕・ｙＳｉ
Ｏ２ （上記式中、Ｒはアルカリ金属イオン及び／又は
水素イオン、ＭはＶＩＩＩ族金属、希土類金属、チタン
、バナジウム、クロム、ニオブ、アンチモン、ガリウム
からなる群から選ばれた１種以上の元素のイオン、ａ＋
ｂ＝１，ａ≧０，ｂ≧０，ｙ＝２０〜１０００の化学式
を有する結晶性シリケートに銅イオンを含有してなるこ
とを特徴とする亜酸化窒素の直接接触分解触媒。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3137901A JPH04363145A (ja) | 1991-06-10 | 1991-06-10 | 亜酸化窒素の直接接触分解触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3137901A JPH04363145A (ja) | 1991-06-10 | 1991-06-10 | 亜酸化窒素の直接接触分解触媒 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04363145A true JPH04363145A (ja) | 1992-12-16 |
Family
ID=15209328
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3137901A Withdrawn JPH04363145A (ja) | 1991-06-10 | 1991-06-10 | 亜酸化窒素の直接接触分解触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04363145A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07163870A (ja) * | 1993-08-27 | 1995-06-27 | Engelhard Corp | Ｎ２ｏのｎ２ｏ含有気体混合物からの除去法 |
-
1991
- 1991-06-10 JP JP3137901A patent/JPH04363145A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07163870A (ja) * | 1993-08-27 | 1995-06-27 | Engelhard Corp | Ｎ２ｏのｎ２ｏ含有気体混合物からの除去法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980903 |