JPH0513682U - レーザー用ビーム整形装置 - Google Patents

レーザー用ビーム整形装置

Info

Publication number
JPH0513682U
JPH0513682U JP068451U JP6845191U JPH0513682U JP H0513682 U JPH0513682 U JP H0513682U JP 068451 U JP068451 U JP 068451U JP 6845191 U JP6845191 U JP 6845191U JP H0513682 U JPH0513682 U JP H0513682U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical system
laser light
rectangular
intensity distribution
reflected
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP068451U
Other languages
English (en)
Other versions
JP2543620Y2 (ja
Inventor
春雄 白田
雅彦 妻鹿
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP1991068451U priority Critical patent/JP2543620Y2/ja
Publication of JPH0513682U publication Critical patent/JPH0513682U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2543620Y2 publication Critical patent/JP2543620Y2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【目的】 高出力で長時間のレーザー加工においても、
結像光学系を輻射熱,レーザー光の反射光及びヒューム
や粉塵による損傷から保護する。 【構成】 光ファイバー2で伝送してきたレーザー光を
直接矩形導波管3に入射し、多重反射させることにより
ビーム強度分布を矩形の均一強度分布にしたうえ結像光
学系4で結像して加工物に照射するビーム整形装置にお
いて、光学系外筒8の先端に、加工時の輻射熱,レーザ
ー光の反射光及びヒュームや粉塵から結像光学系4を保
護するための矩形開口部10付きアパーチャ9を具えて
いる。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、レーザー光のビーム強度分布を矩形の均一強度分布にするレーザー 用ビーム整形装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、矩形導波管の多重反射を利用しレーザー光のビーム強度を矩形の均一強 度分布にするレーザー用ビーム整形装置としては、図2模式図に示すように、光 ファイバー2で伝送してきたレーザー光1を直接矩形導波管3に入射し、矩形導 波管3内を多重反射させることによりビーム強度分布を矩形の均一強度分布にし 、それを結像光学系4で結像して加工物13に照射する装置が知られている。
【0003】 しかしながらこのような装置では、高出力下での長時間の連続加工を行う際、 加工物13にレーザー光1の吸収を良くするために被覆してある吸収剤14の燃 焼15によるヒュームや、吸収剤14の離脱による粉塵が結像光学系4に附着し て附着物16となるおそれがある。また加工物13からのレーザー光2の反射や 輻射熱により結像光学系4が発熱し、結像光学系4のコーティングを破壊してレ ーザー光2の吸収率を上昇させ、レンズの溶融等の破壊を招くおそれがある。
【0004】
【考案が解決しようとする課題】
本考案は、このような事情に鑑みて提案されたもので、高出力でかつ長時間の 加工においても、結像光学系を輻射熱,レーザー光の反射光及びヒュームや粉塵 による損傷から保護し、安定した加工ができるレーザー用ビーム整形装置を提供 することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
そのために本考案は、光ファイバーで伝送してきたレーザー光を直接矩形導波 管に入射し多重反射させることによりビーム強度分布を矩形の均一強度分布にし たうえ結像光学系で結像して加工物に照射するビーム整形装置において、加工時 の輻射熱,レーザー光の反射光及びヒュームや粉塵から上記結像光学系を保護す るための矩形アパーチャを具えたことを特徴とする。
【0006】
【作用】
上述の構成により、高出力でかつ長時間の加工においても、結像光学系を輻射 熱,レーザー光の反射光及びヒュームや粉塵による損傷から保護し、安定した加 工ができるレーザー用ビーム整形装置を得ることができる。
【0007】
【実施例】
本考案レーザー用ビーム整形装置の一実施例を図1(A)部分截断正面図,( B)矢視図について説明すると、レーザー光を伝送する光ファイバー2と矩形導 波管3とはハウジング5に収納され、ハウジング5には矩形導波管3を冷却する ための冷却水給水口6及び冷却水排水口7が設けられている。矩形導波管3の前 部に配設される結像光学系4は、ハウジング5の先に取付けられた光学系外筒8 の中に収納されており、この光学系外筒8の先端域は円錐状を呈し、その先端部 の結像光学系4の軸線上に矩形開口部10を有するアパーチャ9が取付けられて おり、円錐状先端域の外表面には反射率の高いコーティングが施されている。な おアパーチャ9の材質は熱伝導性にすぐれレーザー光の反射率の高いものを用い 、外表面に反射率の高いコーティングを施し、また矩形開口部10の寸法は結像 ビームの通る必要最小限とする。更に光学系外筒8には、アパーチャ9に不活性 ガス等の保護ガス12を送給する保護ガス送給口11が付設されている。
【0008】 このような装置において、光ファイバー2によって伝送されてきたレーザー光 を直接矩形導波管3に入射すると、入射されたレーザー光は矩形導波管3で多重 反射により整形され均一強度分布で矩形化された後、結像光学系4を介して結像 して、アパーチャ9の開口部10から図示せざる加工物へ照射される。この際加 工物からの輻射熱やレーザー光の反射光はアパーチャ9によって遮断されて結像 光学系4に届くことはなく、またアパーチャ9の開口部10から保護ガス12を 放出することにより、ヒュームや粉塵等の光学系外筒8内への進入が阻止され、 従ってこれらが結像光学系4に付着することが防止される。なお光学系外筒8の 先端域を円錐状としてあることにより、保護ガス12の流れが安定化されるとと もに、加工物からの輻射熱や反射光がアパーチャ9に吸収されるのが防止される 。
【0009】
【考案の効果】
要するに本考案によれば、光ファイバーで伝送してきたレーザー光を直接矩形 導波管に入射し多重反射させることによりビーム強度分布を矩形の均一強度分布 にしたうえ結像光学系で結像して加工物に照射するビーム整形装置において、加 工時の輻射熱,レーザー光の反射光及びヒュームや粉塵から上記結像光学系を保 護するための矩形アパーチャを具えたことにより、高出力でかつ長時間の加工に おいても、結像光学系を輻射熱,レーザー光の反射光及びヒュームや粉塵による 損傷から保護し、安定した加工ができるレーザー用ビーム整形装置を得るから、 本考案は産業上極めて有益なものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案レーザー用ビーム整形装置の一実施例を
示し、同図(A)は部分截断正面図、同図(B)は同図
(A)のB−B矢視図である。
【図2】従来のレーザー用ビーム整形装置の模式図であ
る。
【符号の説明】
1 レーザー光 2 光ファイバー 3 矩形導波管 4 結像光学系 5 ハウジング 6 冷却水給水口 7 冷却水排水口 8 光学系外筒 9 アパーチャ 10 開口部 11 保護ガス送給口 12 保護ガス

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光ファイバーで伝送してきたレーザー光
    を直接矩形導波管に入射し多重反射させることによりビ
    ーム強度分布を矩形の均一強度分布にしたうえ結像光学
    系で結像して加工物に照射するビーム整形装置におい
    て、加工時の輻射熱,レーザー光の反射光及びヒューム
    や粉塵から上記結像光学系を保護するための矩形アパー
    チャを具えたことを特徴とするレーザー用ビーム整形装
    置。
JP1991068451U 1991-08-02 1991-08-02 レーザービーム照射装置 Expired - Fee Related JP2543620Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1991068451U JP2543620Y2 (ja) 1991-08-02 1991-08-02 レーザービーム照射装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1991068451U JP2543620Y2 (ja) 1991-08-02 1991-08-02 レーザービーム照射装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0513682U true JPH0513682U (ja) 1993-02-23
JP2543620Y2 JP2543620Y2 (ja) 1997-08-13

Family

ID=13374081

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1991068451U Expired - Fee Related JP2543620Y2 (ja) 1991-08-02 1991-08-02 レーザービーム照射装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2543620Y2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS503641U (ja) * 1973-05-14 1975-01-16
JPS5120433U (ja) * 1974-07-31 1976-02-14
JPS53164216U (ja) * 1977-05-26 1978-12-22
JP2004170484A (ja) * 2002-11-18 2004-06-17 Yuji Matsuura ビームホモジナイザ

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS503641U (ja) * 1973-05-14 1975-01-16
JPS5120433U (ja) * 1974-07-31 1976-02-14
JPS53164216U (ja) * 1977-05-26 1978-12-22
JP2004170484A (ja) * 2002-11-18 2004-06-17 Yuji Matsuura ビームホモジナイザ

Also Published As

Publication number Publication date
JP2543620Y2 (ja) 1997-08-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1332829B1 (en) Optical machining device
JP3292294B2 (ja) レーザを用いたマーキング方法及びマーキング装置
JPH07112634B2 (ja) レーザビームによって材料を切断する方法
JP2002219593A (ja) レーザ加工ヘッド
JP2637501B2 (ja) 自動溶接制御用視覚ヘツド
EP0558278A1 (en) Assembly for combustion chamber monitoring camera
US4480168A (en) Laser-surface coupler
JPH0513682U (ja) レーザー用ビーム整形装置
KR930019334A (ko) 촛점 조정헤드를 갖는 레이저(laser) 장치
JPH09178977A (ja) 光フアイバへのレーザビーム投入接続装置
JPH07318733A (ja) ファイバー
CN216441844U (zh) 一种新型激光清洗头
JP3591080B2 (ja) 筒内面観察装置
JPH0669913U (ja) レーザ用光ファイバ
JPH10328877A (ja) レーザ光加工ヘッド
JPH07116880A (ja) レーザ加工装置
JPH01210187A (ja) レーザ加工装置の投光器
JPS63118104A (ja) 光フアイバケ−ブル
JPH02284785A (ja) レーザ加工機の反射光吸収装置
JP2004130338A (ja) 半導体レーザ装置
JP2002131588A (ja) 高出力パルスレーザ照射装置
JP2002340804A (ja) マークの観察方法及び観察装置
JPH11179570A (ja) 水中レーザ溶接部可視化装置
JPH0651235A (ja) レーザ加工光学系
WO2021220874A1 (ja) レーザ加工ヘッド及びレーザ加工装置

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19970304

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees