JPH01210187A - レーザ加工装置の投光器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はレーザ加工装置における投光器の改良に関する
ものである。

［従来の技術］ 第３図はレーザ加工装置における従来の投光器を示す正
面図で、図中１は加工ヘッド、２はノズル、３は被加工
物、４は投光器、５は溶接部、６はスパッタ、７はレー
ザビームである。

図において投光器４は加工ヘッド１の下部周辺にリング
状に配設され、内部にリング状の電球または蛍光燈を収
納して光源としている。なお投光器４の外部の光源から
光ファイバ等で光を導き、投光面に反射鏡を配置して投
光してもよい。

レーザ伝送路を切換えてＴＶ左カメラ図示せず）で溶接
線を観測する場合、投光器４は投光面を下にして被加工
物３の溶接線を照射し、観測の光源となるのである。

［発明が解決しようとする課題］ レーザ加工装置の従来の投光器４は上記のように構成さ
れている。そのため溶接中スパッタ６などの飛散物が投
光面に付着し、これを傷める恐れがある。これを避ける
には投光器４の位置を高くするか、あるいは溶接中は投
光器４を取り外しておくかせねばならず、なかなか面倒
である。また投光器周辺が、レーザの反射光や投光器の
光源などによって異常に過熱されるため、投光器の使用
時間が制限されることがある。レーザ加工装置の従来の
投光器は以上のような問題点を抱えている。

本発明は上記従来の投光器の問題点を解消するためにな
されたもので、溶接中スパッタ６などの飛散物による破
損を防止し、長時間使用してもし−ザの反射光や光源等
により過熱されない投光器を提供しようとするものであ
る。

［課題を解決するための手段］ 上記目的を達成するため、本発明に係る投光器は投光面
を覆う保護カバーを設けるとともに、投光器の冷却装置
を備えた。

［作用］ 投光器を上記のように構成したので、溶接中にスパッタ
などが飛散しても保護カバーによりスパッタの投光面へ
の衝突は防止される。また投光器に冷却装置を設けたの
で、投光器を長時間使用しても過熱することはなくなっ
た。

［発明の実施例］ 第１図は本発明の一実施例を示す投光器の一部断面図、
第２図は溶接量の投光器の正面図で、図中で１〜７は従
来装置と同一部品、１０は本発明に係る投光器、１１は
リング状蛍光燈、１２は保護カバー、１３はウォータジ
ャケット、４は給排水管である。

図にみるように、投光器において光源の蛍光燈の外面に
耐熱ガラス製の保護カバー１２を設けるとともに、光源
の外周にウォータジャケット１３を配設し、ウォータジ
ャケット１３には給排水管１４を介し冷却水を給排水す
る。

投光器１０を上記のように構成したので、第２図にみる
ように溶接時スパッタ６が飛散しても保護カバー１２に
遮られてスパッタ６は投光面＋、：　達しない。また冷
却水１５を充満したウォータジャケット１３により冷却
されるので、投光器は過熱されることはない。

なお保護カバーの材質は本実施例に示す耐熱ガラスに限
るものではない。

また冷却装置の冷媒も水に限定するものではない。

［発明の効果］ 本発明はレーザ加工装置の投光器に保護カバーと冷却装
置とを備えたので、溶接中段光器の投光面にスパッタが
衝突してこれを傷めたり、光源の熱で過熱され投光器が
破損したりするようなトラブルはなくなった。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す投光器の一部断面図、
第２図は溶接中の投光器の正面図、第３図は従来の投光
器の正面図である。 図中１０は投光器、１１はリング状蛍光燈、１２は保護
カバー、１３はウォータジャケット、１５は冷却水であ
る。 なお図中同一符号は同一または相当部品を示すものであ
る。 代理人　　弁理士　　佐々木宗治 第１図 第２図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 レーザ加工装置の投光器において、 その投光面を覆う保護カバーを設けるとともに、投光器
   の外周に冷却装置を備えた ことを特徴とするレーザ加工装置の投光器。