JP2543620Y2 - レーザービーム照射装置 - Google Patents
レーザービーム照射装置Info
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- JP2543620Y2 JP2543620Y2 JP1991068451U JP6845191U JP2543620Y2 JP 2543620 Y2 JP2543620 Y2 JP 2543620Y2 JP 1991068451 U JP1991068451 U JP 1991068451U JP 6845191 U JP6845191 U JP 6845191U JP 2543620 Y2 JP2543620 Y2 JP 2543620Y2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本考案は、レーザー光のビーム強
度分布を矩形の均一強度分布にするレーザービーム照射
装置に関する。
度分布を矩形の均一強度分布にするレーザービーム照射
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、矩形導波管の多重反射を利用しレ
ーザー光のビーム強度を矩形の均一強度分布にするレー
ザービーム整形装置としては、図２模式図に示すよう
に、光ファイバー２で伝送してきたレーザー光１を直接
矩形導波管３に入射し、矩形導波管３内を多重反射させ
ることによりビーム強度分布を矩形の均一強度分布に
し、それを結像光学系４で結像して加工物１３に照射す
る装置が知られている。
ーザー光のビーム強度を矩形の均一強度分布にするレー
ザービーム整形装置としては、図２模式図に示すよう
に、光ファイバー２で伝送してきたレーザー光１を直接
矩形導波管３に入射し、矩形導波管３内を多重反射させ
ることによりビーム強度分布を矩形の均一強度分布に
し、それを結像光学系４で結像して加工物１３に照射す
る装置が知られている。
【０００３】しかしながらこのような装置では、高出力
下での長時間の連続加工を行う際、加工物１３にレーザ
ー光１の吸収を良くするために被覆してある吸収剤１４
の燃焼１５によるヒュームや、吸収剤１４の離脱による
粉塵が結像光学系４に附着して附着物１６となるおそれ
がある。また加工物１３からのレーザー光２の反射や輻
射熱により結像光学系４が発熱し、結像光学系４のコー
ティングを破壊してレーザー光２の吸収率を上昇させ、
レンズの溶融等の破壊を招くおそれがある。
下での長時間の連続加工を行う際、加工物１３にレーザ
ー光１の吸収を良くするために被覆してある吸収剤１４
の燃焼１５によるヒュームや、吸収剤１４の離脱による
粉塵が結像光学系４に附着して附着物１６となるおそれ
がある。また加工物１３からのレーザー光２の反射や輻
射熱により結像光学系４が発熱し、結像光学系４のコー
ティングを破壊してレーザー光２の吸収率を上昇させ、
レンズの溶融等の破壊を招くおそれがある。
【０００４】
【考案が解決しようとする課題】本考案は、このような
事情に鑑みて提案されたもので、高出力でかつ長時間の
加工においても、結像光学系を輻射熱，レーザー光の反
射光及びヒュームや粉塵による損傷から保護し、安定し
た加工ができるレーザービーム照射装置を提供すること
を目的とする。
事情に鑑みて提案されたもので、高出力でかつ長時間の
加工においても、結像光学系を輻射熱，レーザー光の反
射光及びヒュームや粉塵による損傷から保護し、安定し
た加工ができるレーザービーム照射装置を提供すること
を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】そのために本考案は、光
ファイバーで伝送してきたレーザー光を直接矩形導波管
に入射し多重反射させることによりビーム強度分布を矩
形の均一強度分布にしたうえ結像光学系で結像して加工
物に照射するビーム照射装置において、その先端部とし
て形成され、上記結像光学系を内蔵し、側壁に配設され
た保護ガス供給口から導入された保護ガスを先細まり円
錐状部の内面に沿ってその先端に形成された先端部材の
矩形アパーチャを経て加工物に向かって発射する光学系
外筒を具えたことを特徴とする。
ファイバーで伝送してきたレーザー光を直接矩形導波管
に入射し多重反射させることによりビーム強度分布を矩
形の均一強度分布にしたうえ結像光学系で結像して加工
物に照射するビーム照射装置において、その先端部とし
て形成され、上記結像光学系を内蔵し、側壁に配設され
た保護ガス供給口から導入された保護ガスを先細まり円
錐状部の内面に沿ってその先端に形成された先端部材の
矩形アパーチャを経て加工物に向かって発射する光学系
外筒を具えたことを特徴とする。
【０００６】
【作用】上述の構成により、高出力でかつ長時間の加工
においても、結像光学系を輻射熱，レーザー光の反射光
及びヒュームや粉塵による損傷から保護し、安定した加
工ができるレーザービーム照射装置を得ることができ
る。
においても、結像光学系を輻射熱，レーザー光の反射光
及びヒュームや粉塵による損傷から保護し、安定した加
工ができるレーザービーム照射装置を得ることができ
る。
【０００７】
【実施例】本考案レーザービーム照射装置の一実施例を
図１（Ａ）部分截断正面図，（Ｂ）矢視図について説明
すると、レーザー光を伝送する光ファイバー２と矩形導
波管３とはハウジング５に収納され、ハウジング５には
矩形導波管３を冷却するための冷却水給水口６及び冷却
水排水口７が設けられている。矩形導波管３の前部に配
設される結像光学系４は、ハウジング５の先に取付けら
れた光学系外筒８の中に収納されており、この光学系外
筒８の先端域は円錐状を呈し、その先端部の結像光学系
４の軸線上に矩形アパーチャ１０を有する先端部材９が
取付けられており、円錐状先端域の外表面には反射率の
高いコーティングが施されている。なお先端部材９の材
質は熱伝導性にすぐれレーザー光の反射率の高いものを
用い、外表面に反射率の高いコーティングを施し、また
矩形アパーチャ１０の寸法は結像ビームの通る必要最小
限とする。更に光学系外筒８には、先端部材９に不活性
ガス等の保護ガス１２を送給する保護ガス送給口１１が
付設されている。
図１（Ａ）部分截断正面図，（Ｂ）矢視図について説明
すると、レーザー光を伝送する光ファイバー２と矩形導
波管３とはハウジング５に収納され、ハウジング５には
矩形導波管３を冷却するための冷却水給水口６及び冷却
水排水口７が設けられている。矩形導波管３の前部に配
設される結像光学系４は、ハウジング５の先に取付けら
れた光学系外筒８の中に収納されており、この光学系外
筒８の先端域は円錐状を呈し、その先端部の結像光学系
４の軸線上に矩形アパーチャ１０を有する先端部材９が
取付けられており、円錐状先端域の外表面には反射率の
高いコーティングが施されている。なお先端部材９の材
質は熱伝導性にすぐれレーザー光の反射率の高いものを
用い、外表面に反射率の高いコーティングを施し、また
矩形アパーチャ１０の寸法は結像ビームの通る必要最小
限とする。更に光学系外筒８には、先端部材９に不活性
ガス等の保護ガス１２を送給する保護ガス送給口１１が
付設されている。
【０００８】このような装置において、光ファイバー２
によって伝送されてきたレーザー光を直接矩形導波管３
に入射すると、入射されたレーザー光は矩形導波管３で
多重反射により整形され均一強度分布で矩形化された
後、結像光学系４を介して結像して、先端部材９の矩形
アパーチャ１０から図示せざる加工物へ照射される。こ
の際加工物からの輻射熱やレーザー光の反射光は先端部
材９によって遮断されて結像光学系４に届くことはな
く、また先端部材９の矩形アパーチャ１０から保護ガス
１２を放出することにより、ヒュームや粉塵等の光学系
外筒８内への進入が阻止され、従ってこれらが結像光学
系４に付着することが防止される。なお光学系外筒８の
先端域を円錐状としてあることにより、保護ガス１２の
流れが安定化されるとともに、加工物からの輻射熱や反
射光が先端部材９に吸収されるのが防止される。
によって伝送されてきたレーザー光を直接矩形導波管３
に入射すると、入射されたレーザー光は矩形導波管３で
多重反射により整形され均一強度分布で矩形化された
後、結像光学系４を介して結像して、先端部材９の矩形
アパーチャ１０から図示せざる加工物へ照射される。こ
の際加工物からの輻射熱やレーザー光の反射光は先端部
材９によって遮断されて結像光学系４に届くことはな
く、また先端部材９の矩形アパーチャ１０から保護ガス
１２を放出することにより、ヒュームや粉塵等の光学系
外筒８内への進入が阻止され、従ってこれらが結像光学
系４に付着することが防止される。なお光学系外筒８の
先端域を円錐状としてあることにより、保護ガス１２の
流れが安定化されるとともに、加工物からの輻射熱や反
射光が先端部材９に吸収されるのが防止される。
【０００９】
【考案の効果】要するに本考案によれば、光ファイバー
で伝送してきたレーザー光を直接矩形導波管に入射し多
重反射させることによりビーム強度分布を矩形の均一強
度分布にしたうえ結像光学系で結像して加工物に照射す
るビーム照射装置において、その先端部として形成さ
れ、上記結像光学系を内蔵し、側壁に配設された保護ガ
ス供給口から導入された保護ガスを先細まり円錐状部の
内面に沿ってその先端に形成された先端部材の矩形アパ
ーチャを経て加工物に向かって発射する光学系外筒を具
えたことにより、高出力でかつ長時間の加工において
も、結像光学系を輻射熱，レーザー光の反射光及びヒュ
ームや粉塵による損傷から保護し、安定した加工ができ
るレーザービーム照射装置を得るから、本考案は産業上
極めて有益なものである。
で伝送してきたレーザー光を直接矩形導波管に入射し多
重反射させることによりビーム強度分布を矩形の均一強
度分布にしたうえ結像光学系で結像して加工物に照射す
るビーム照射装置において、その先端部として形成さ
れ、上記結像光学系を内蔵し、側壁に配設された保護ガ
ス供給口から導入された保護ガスを先細まり円錐状部の
内面に沿ってその先端に形成された先端部材の矩形アパ
ーチャを経て加工物に向かって発射する光学系外筒を具
えたことにより、高出力でかつ長時間の加工において
も、結像光学系を輻射熱，レーザー光の反射光及びヒュ
ームや粉塵による損傷から保護し、安定した加工ができ
るレーザービーム照射装置を得るから、本考案は産業上
極めて有益なものである。
【図１】本考案レーザービーム整形装置の一実施例を示
し、同図（Ａ）は部分截断正面図、同図（Ｂ）は同図
（Ａ）のＢ−Ｂ矢視図である。
し、同図（Ａ）は部分截断正面図、同図（Ｂ）は同図
（Ａ）のＢ−Ｂ矢視図である。
【図２】従来のレーザービーム整形装置の模式図であ
る。
る。
１ レーザー光 ２ 光ファイバー ３ 矩形導波管 ４ 結像光学系 ５ ハウジング ６ 冷却水給水口 ７ 冷却水排水口 ８ 光学系外筒 ９ 先端部材 １０ アパーチャ １１ 保護ガス送給口 １２ 保護ガス
Claims (1)
- 【請求項１】 光ファイバーで伝送してきたレーザー光
を直接矩形導波管に入射し多重反射させることによりビ
ーム強度分布を矩形の均一強度分布にしたうえ結像光学
系で結像して加工物に照射するビーム照射装置におい
て、その先端部として形成され、上記結像光学系を内蔵
し、側壁に配設された保護ガス供給口から導入された保
護ガスを先細まり円錐状部の内面に沿ってその先端に形
成された先端部材の矩形アパーチャを経て加工物に向か
って発射する光学系外筒を具えたことを特徴とするレー
ザービーム照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991068451U JP2543620Y2 (ja) | 1991-08-02 | 1991-08-02 | レーザービーム照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991068451U JP2543620Y2 (ja) | 1991-08-02 | 1991-08-02 | レーザービーム照射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0513682U JPH0513682U (ja) | 1993-02-23 |
| JP2543620Y2 true JP2543620Y2 (ja) | 1997-08-13 |
Family
ID=13374081
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1991068451U Expired - Fee Related JP2543620Y2 (ja) | 1991-08-02 | 1991-08-02 | レーザービーム照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2543620Y2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS503641U (ja) * | 1973-05-14 | 1975-01-16 | ||
| JPS5120433U (ja) * | 1974-07-31 | 1976-02-14 | ||
| JPS53164216U (ja) * | 1977-05-26 | 1978-12-22 | ||
| JP2004170484A (ja) * | 2002-11-18 | 2004-06-17 | Yuji Matsuura | ビームホモジナイザ |
-
1991
- 1991-08-02 JP JP1991068451U patent/JP2543620Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0513682U (ja) | 1993-02-23 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19970304 |
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