JP3245027B2 - 複合溶接ヘッド - Google Patents
複合溶接ヘッドInfo
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- JP3245027B2 JP3245027B2 JP27858795A JP27858795A JP3245027B2 JP 3245027 B2 JP3245027 B2 JP 3245027B2 JP 27858795 A JP27858795 A JP 27858795A JP 27858795 A JP27858795 A JP 27858795A JP 3245027 B2 JP3245027 B2 JP 3245027B2
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- electrode
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は複合溶接ヘッドに関
し、１つの溶接ヘッドにより被溶接物の同一部分に対し
てレーザー溶接とティグ溶接を同時に行うことができ、
且つ両溶接の溶接ポイントが正確に一致した状態で容易
に溶接ができるように工夫したものである。
し、１つの溶接ヘッドにより被溶接物の同一部分に対し
てレーザー溶接とティグ溶接を同時に行うことができ、
且つ両溶接の溶接ポイントが正確に一致した状態で容易
に溶接ができるように工夫したものである。
【０００２】
【従来の技術】レーザー光は、極めて指向性がよく大エ
ネルギーを有しているので、小さな点に集光することに
より、精密な溶接・切断・穿孔・表面改質処理などに利
用されている。この場合、ワークの材質や加工手法の違
いに応じてパルス波レーザー光（ＰＷ）や連続波レーザ
ー光（ＣＷ）が使用される。一般的に、パルス波レーザ
ー光は、その持続時間が短いので周辺への影響をおよぼ
さずに微小な孔をあけたりスポット溶接する加工に適し
ており、連続波レーザー光は、つぎ目のない溶接などの
加工に適している。
ネルギーを有しているので、小さな点に集光することに
より、精密な溶接・切断・穿孔・表面改質処理などに利
用されている。この場合、ワークの材質や加工手法の違
いに応じてパルス波レーザー光（ＰＷ）や連続波レーザ
ー光（ＣＷ）が使用される。一般的に、パルス波レーザ
ー光は、その持続時間が短いので周辺への影響をおよぼ
さずに微小な孔をあけたりスポット溶接する加工に適し
ており、連続波レーザー光は、つぎ目のない溶接などの
加工に適している。
【０００３】固体レーザー発振器の一種であるＹＡＧレ
ーザー発振器は、レーザー単結晶としてＮｄをドープし
たＹＡＧ（イットリウム，アルミニウム，ガーネット）
結晶を用いており、波長が１．０６４μｍのレーザー光
を、パルス波レーザー光または連続波レーザー光として
出力する。ＹＡＧレーザー光は波長が１．０６４μｍの
赤外レーザー光であるため、光ファイバによる伝送が可
能である。この結果、ＹＡＧレーザー発振器を用いた溶
接装置では、レーザー光を光ファイバにより引き回すこ
とができ、設計や配置の自由度が大きい。
ーザー発振器は、レーザー単結晶としてＮｄをドープし
たＹＡＧ（イットリウム，アルミニウム，ガーネット）
結晶を用いており、波長が１．０６４μｍのレーザー光
を、パルス波レーザー光または連続波レーザー光として
出力する。ＹＡＧレーザー光は波長が１．０６４μｍの
赤外レーザー光であるため、光ファイバによる伝送が可
能である。この結果、ＹＡＧレーザー発振器を用いた溶
接装置では、レーザー光を光ファイバにより引き回すこ
とができ、設計や配置の自由度が大きい。
【０００４】このようなレーザー溶接装置によりレーザ
ー溶接したときには、狭い溶接範囲に対して溶け込み深
さの深い溶接を行うことができる。これはレーザー光に
は非常に強い集光性があり、エネルギー密度の極めて高
い強力な集中熱源として、レーザー光が機能するからで
ある。
ー溶接したときには、狭い溶接範囲に対して溶け込み深
さの深い溶接を行うことができる。これはレーザー光に
は非常に強い集光性があり、エネルギー密度の極めて高
い強力な集中熱源として、レーザー光が機能するからで
ある。
【０００５】一方、溶接手法として従来から汎用されて
いるものとして、ティグ溶接（inert gas shielded tun
gsten arc welding)が知られている。ティグ（ＴＩＧ）
溶接は、アルゴンまたはヘリウムなどの不活性ガス雰囲
気中で、タングステン電極と母材間にアークを発生させ
て溶接する方法である。このようなティグ溶接では、ア
ークが広範囲に広がるため、溶け込み深さは浅いが広い
溶接範囲に対して溶接を行うことができる。
いるものとして、ティグ溶接（inert gas shielded tun
gsten arc welding)が知られている。ティグ（ＴＩＧ）
溶接は、アルゴンまたはヘリウムなどの不活性ガス雰囲
気中で、タングステン電極と母材間にアークを発生させ
て溶接する方法である。このようなティグ溶接では、ア
ークが広範囲に広がるため、溶け込み深さは浅いが広い
溶接範囲に対して溶接を行うことができる。
【０００６】近年では、広い溶接範囲に対して深い溶け
込み深さの得られる溶接ができるように、同一の溶接部
に対してレーザー溶接とティグ溶接を同時に行うことが
研究されている。
込み深さの得られる溶接ができるように、同一の溶接部
に対してレーザー溶接とティグ溶接を同時に行うことが
研究されている。
【０００７】レーザー溶接とティグ溶接を同時に行うこ
とができるように研究した装置として、図２及び図３に
示す装置がある。
とができるように研究した装置として、図２及び図３に
示す装置がある。
【０００８】図２に示す装置では、ティグ溶接ヘッド１
のタングステン電極２の先端部を直角に折り曲げてティ
グ溶接ヘッド１を、母材３の表面に対して水平に配置す
る。そして折れ曲ったタングステン電極２の先端と母材
３との間にアーク４を発生させる。一方、集光レンズ系
５（図では簡略化して１つのレンズのみを示している
が、実際は複数のレンズを組み合わせている）は、レー
ザー光６を集光して母材３に斜めに照射している。そし
てアーク４による溶接ポイントとレーザー光６の照射ポ
イントが一致するように、ティグ溶接ヘッド１と集光レ
ンズ系５の相対位相関係を保持するようにしている。
のタングステン電極２の先端部を直角に折り曲げてティ
グ溶接ヘッド１を、母材３の表面に対して水平に配置す
る。そして折れ曲ったタングステン電極２の先端と母材
３との間にアーク４を発生させる。一方、集光レンズ系
５（図では簡略化して１つのレンズのみを示している
が、実際は複数のレンズを組み合わせている）は、レー
ザー光６を集光して母材３に斜めに照射している。そし
てアーク４による溶接ポイントとレーザー光６の照射ポ
イントが一致するように、ティグ溶接ヘッド１と集光レ
ンズ系５の相対位相関係を保持するようにしている。
【０００９】図３に示す装置では、タングステン電極２
ａを真っすぐにしたティグ溶接ヘッド１を、母材３の表
面に対して斜めに配置し、タングステン電極２ａと母材
３との間にアーク４を発生させる。一方、集光レンズ系
５で集光したレーザー光６を母材３に斜めに照射する。
そしてアーク４による溶接ポイントとレーザー光６によ
る照射ポイントが一致するように、ティグ溶接ヘッド１
と集光レンズ系５の相対位置関係を保持するようにして
いる。
ａを真っすぐにしたティグ溶接ヘッド１を、母材３の表
面に対して斜めに配置し、タングステン電極２ａと母材
３との間にアーク４を発生させる。一方、集光レンズ系
５で集光したレーザー光６を母材３に斜めに照射する。
そしてアーク４による溶接ポイントとレーザー光６によ
る照射ポイントが一致するように、ティグ溶接ヘッド１
と集光レンズ系５の相対位置関係を保持するようにして
いる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】ところで図２に示す装
置では、タングステン電極２の先端部が折れ曲っている
ため、アーク４の形状が不安定であり安定した溶接がで
きないおそれがある。
置では、タングステン電極２の先端部が折れ曲っている
ため、アーク４の形状が不安定であり安定した溶接がで
きないおそれがある。
【００１１】また図２及び図３に示す両装置では、溶接
位置や溶接姿勢が変化していっても、アーク４による溶
接ポイントとレーザー光６の照射ポイントが一致するよ
うに、ティグ溶接ヘッド１と集光レンズ系５の相対位置
関係を保持しなければならず、使用に際して面倒な位置
調整を頻繁に行なわなくてはならず、使い勝手が悪かっ
た。またレーザー光６が母材３に対して斜めに入射して
いるため、溶融池の形状が対称ではなく、溶接形状が悪
くなることがあった。更に、溶接位置や溶接姿勢によっ
ては、両ポイントが一致するような相対位置関係をとろ
うとすると、周囲の部材や装置と干渉してしまい、良好
な相対位置関係が得られないことがある。このような場
合には、良好な溶接ができない。
位置や溶接姿勢が変化していっても、アーク４による溶
接ポイントとレーザー光６の照射ポイントが一致するよ
うに、ティグ溶接ヘッド１と集光レンズ系５の相対位置
関係を保持しなければならず、使用に際して面倒な位置
調整を頻繁に行なわなくてはならず、使い勝手が悪かっ
た。またレーザー光６が母材３に対して斜めに入射して
いるため、溶融池の形状が対称ではなく、溶接形状が悪
くなることがあった。更に、溶接位置や溶接姿勢によっ
ては、両ポイントが一致するような相対位置関係をとろ
うとすると、周囲の部材や装置と干渉してしまい、良好
な相対位置関係が得られないことがある。このような場
合には、良好な溶接ができない。
【００１２】本発明は、上記従来技術に鑑み、ティグ溶
接とレーザー溶接との溶接ポイントが常に一致し、且つ
操作性の良い複合溶接ヘッドを提供するものである。
接とレーザー溶接との溶接ポイントが常に一致し、且つ
操作性の良い複合溶接ヘッドを提供するものである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の構成は、タングステン電極が先端部から突出する状
態で前記タングステン電極を内包・保持する円筒状の電
極ホルダーと、レーザー光をガイドしてこのレーザー光
を前記電極ホルダーの基端側から先端側に向けて入射さ
せるレーザー光ガイド光学系と、中央部に孔が形成され
て前記電極ホルダーの外周面に嵌装され且つ電極ホルダ
ーの軸方向にならんで配列された複数のリング状のレン
ズで構成され、前記電極ホルダーの基端側から入力され
たレーザー光を、前記タングステン電極の先端よりも先
のポイントに集光させる集光レンズ光学系と、でなるこ
とを特徴とする。また本発明では、前記電極ホルダー
は、表面に金コートによる反射膜を施す。
明の構成は、タングステン電極が先端部から突出する状
態で前記タングステン電極を内包・保持する円筒状の電
極ホルダーと、レーザー光をガイドしてこのレーザー光
を前記電極ホルダーの基端側から先端側に向けて入射さ
せるレーザー光ガイド光学系と、中央部に孔が形成され
て前記電極ホルダーの外周面に嵌装され且つ電極ホルダ
ーの軸方向にならんで配列された複数のリング状のレン
ズで構成され、前記電極ホルダーの基端側から入力され
たレーザー光を、前記タングステン電極の先端よりも先
のポイントに集光させる集光レンズ光学系と、でなるこ
とを特徴とする。また本発明では、前記電極ホルダー
は、表面に金コートによる反射膜を施す。
【００１４】本発明では、集光レンズ光学系が電極ホル
ダーに嵌装されているため、ヘッド構成がコンパクトで
あり周辺部材に干渉することがなくなり、レーザー溶接
とティグ溶接のポイントが常に一致して良好な溶接がて
きる。
ダーに嵌装されているため、ヘッド構成がコンパクトで
あり周辺部材に干渉することがなくなり、レーザー溶接
とティグ溶接のポイントが常に一致して良好な溶接がて
きる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を図１
を参照しつつ説明する。図１に示すように本実施の形態
に係る複合溶接ヘッド１００では、円筒状の電極ホルダ
ー１１０は、タングステン電極１１１を内包・保持して
おり、タングステン電極１１１は電極ホルダー１１０の
先端部（下端部）から突出している。また電極ホルダー
１１０の外周面には金コートによる反射膜１１０ａが施
こされている。
を参照しつつ説明する。図１に示すように本実施の形態
に係る複合溶接ヘッド１００では、円筒状の電極ホルダ
ー１１０は、タングステン電極１１１を内包・保持して
おり、タングステン電極１１１は電極ホルダー１１０の
先端部（下端部）から突出している。また電極ホルダー
１１０の外周面には金コートによる反射膜１１０ａが施
こされている。
【００１６】電源部１１２は、タングステン電極１１１
と母材５０との間に電圧を印加する。これによりタング
ステン電極１１１と母材５０との間にアーク１１３が発
生する。また不活性ガス源１１４は電極ホルダー１１０
の基端部に不活性ガスを供給する。供給された不活性ガ
スは、電極ホルダー１１０内を基端部（上端部）から先
端部に流れ、先端部から噴出されアーク１１３及び母材
５０の溶接部を包む。
と母材５０との間に電圧を印加する。これによりタング
ステン電極１１１と母材５０との間にアーク１１３が発
生する。また不活性ガス源１１４は電極ホルダー１１０
の基端部に不活性ガスを供給する。供給された不活性ガ
スは、電極ホルダー１１０内を基端部（上端部）から先
端部に流れ、先端部から噴出されアーク１１３及び母材
５０の溶接部を包む。
【００１７】ＹＡＧレーザー装置１２０はレーザー光Ｌ
を発生する。またレーザー光ガイド光学系１３０は、光
ファイバ１３１と、電極ホルダー１１０に嵌装された全
反射鏡１３２と、光ファイバホルダー１３３とで構成さ
れている。なお全反射鏡１３２は斜めの状態で電極ホル
ダー１１０に備えられている。そして光ファイバ１３１
は、ＹＡＧレーザー装置１２０で発生したレーザー光Ｌ
を、電極ホルダー１１０の近傍にまでガイドする。また
全反射鏡１３２は、光ファイバ１３１から出射したレー
ザー光Ｌを反射して、反射したレーザー光Ｌを、電極ホ
ルダー１１０の基端側から先端側に向けて入射させる。
を発生する。またレーザー光ガイド光学系１３０は、光
ファイバ１３１と、電極ホルダー１１０に嵌装された全
反射鏡１３２と、光ファイバホルダー１３３とで構成さ
れている。なお全反射鏡１３２は斜めの状態で電極ホル
ダー１１０に備えられている。そして光ファイバ１３１
は、ＹＡＧレーザー装置１２０で発生したレーザー光Ｌ
を、電極ホルダー１１０の近傍にまでガイドする。また
全反射鏡１３２は、光ファイバ１３１から出射したレー
ザー光Ｌを反射して、反射したレーザー光Ｌを、電極ホ
ルダー１１０の基端側から先端側に向けて入射させる。
【００１８】集光レンズ光学系１４０は、複数枚のレン
ズ１４１〜１４５と、１枚の保護ガラス１４６とで構成
されている。レンズ１４１〜１４５は、中央部に孔が形
成されており、電極ホルダー１１０の外周面に嵌装さ
れ、且つ電極ホルダー１１０の軸方向に並んで配列され
ている。また保護ガラス１４６はレンズ１４１〜１４５
よりも先端側の位置で電極ホルダ１１０に嵌装されてい
る。
ズ１４１〜１４５と、１枚の保護ガラス１４６とで構成
されている。レンズ１４１〜１４５は、中央部に孔が形
成されており、電極ホルダー１１０の外周面に嵌装さ
れ、且つ電極ホルダー１１０の軸方向に並んで配列され
ている。また保護ガラス１４６はレンズ１４１〜１４５
よりも先端側の位置で電極ホルダ１１０に嵌装されてい
る。
【００１９】集光レンズ光学系１４０のレンズ１４１〜
１４５は、全反射鏡１３２で反射されて入射してきたレ
ーザー光Ｌを、タングステン電極１１１よりも先のポイ
ントに集光させる。よってレーザー光Ｌは、母材５０の
表面部分に集光されてレーザー溶接に寄与する。
１４５は、全反射鏡１３２で反射されて入射してきたレ
ーザー光Ｌを、タングステン電極１１１よりも先のポイ
ントに集光させる。よってレーザー光Ｌは、母材５０の
表面部分に集光されてレーザー溶接に寄与する。
【００２０】かかる構成となっている複合溶接ヘッド１
００では、アーク１１３によるティグ溶接と、レーザー
光Ｌによるレーザー溶接が、母材５０の同一部分に対し
て同時に行うことができ、広い溶接範囲に対し深い溶け
込み深さの溶接を良好に行うことができる。この場合、
レーザー光Ｌは母材５０の表面に対して真っすぐに入射
し、またアーク１１３は対象に形成されるため、溶融池
は対称となり、溶接品質及び溶接形状がよい。
００では、アーク１１３によるティグ溶接と、レーザー
光Ｌによるレーザー溶接が、母材５０の同一部分に対し
て同時に行うことができ、広い溶接範囲に対し深い溶け
込み深さの溶接を良好に行うことができる。この場合、
レーザー光Ｌは母材５０の表面に対して真っすぐに入射
し、またアーク１１３は対象に形成されるため、溶融池
は対称となり、溶接品質及び溶接形状がよい。
【００２１】しかもこの複合溶接ヘッド１００は、ティ
グ溶接系（電極ホルダー１１０，タングステン電極１１
１等）とレーザー溶接系（集光レンズ光学系１４０，レ
ーザー光ガイド光学系１３０）が一体となった構造であ
るため、溶接位置や溶接姿勢を変えても、特別な操作を
することなく、ティグ溶接部とレーザー溶接部が常に一
致する。このため操作性が良く良好な溶接ができる。ま
た一体構造となっているため、コンパクトで、且つ周囲
部材と干渉することはない。
グ溶接系（電極ホルダー１１０，タングステン電極１１
１等）とレーザー溶接系（集光レンズ光学系１４０，レ
ーザー光ガイド光学系１３０）が一体となった構造であ
るため、溶接位置や溶接姿勢を変えても、特別な操作を
することなく、ティグ溶接部とレーザー溶接部が常に一
致する。このため操作性が良く良好な溶接ができる。ま
た一体構造となっているため、コンパクトで、且つ周囲
部材と干渉することはない。
【００２２】なお電極ホルダー１１０の外周面に金コー
ト反射膜１１０ａを施こしているため、レーザー光Ｌが
電極ホルダー１１０に吸収されることなく、電極ホルダ
ー１１０にはレーザー光Ｌによる発熱は生じない。
ト反射膜１１０ａを施こしているため、レーザー光Ｌが
電極ホルダー１１０に吸収されることなく、電極ホルダ
ー１１０にはレーザー光Ｌによる発熱は生じない。
【００２３】また保護ガラス１１１が、レンズ１４１〜
１４５よりも先端側に位置しているので、溶接による汚
れは保護ガラス１１１に付着することはあってもレンズ
１４１〜１４５に付着することはなく、レンズ１４１〜
１４５を汚れから防止することができる。なお保護ガラ
ス１４６の汚れが進んだときには、保護ガラス１４６の
クリーニングや、保護ガラス１４６の取り換えを行う。
１４５よりも先端側に位置しているので、溶接による汚
れは保護ガラス１１１に付着することはあってもレンズ
１４１〜１４５に付着することはなく、レンズ１４１〜
１４５を汚れから防止することができる。なお保護ガラ
ス１４６の汚れが進んだときには、保護ガラス１４６の
クリーニングや、保護ガラス１４６の取り換えを行う。
【００２４】なお図１の例では、レーザー装置としてＹ
ＡＧレーザー装置を採用したが、他のタイプのレーザー
装置を用いてもよい。他のタイプのレーザー装置を用い
た場合には、光ファイバ１３１の代わりに反射鏡等を用
いてレーザー光をガイドするように構成する。
ＡＧレーザー装置を採用したが、他のタイプのレーザー
装置を用いてもよい。他のタイプのレーザー装置を用い
た場合には、光ファイバ１３１の代わりに反射鏡等を用
いてレーザー光をガイドするように構成する。
【００２５】
【発明の効果】以上実施の形態と共に具体的に説明した
ように本発明によれば、タングステン電極を備えた電極
ホルダーの外周に、集光レンズ光学系を一体に備え、レ
ーザー光ガイド光学系によりガイドしてきたレーザー光
を集光レンズ光学系によりタングステン電極よりも先の
ポイントに集光させるようにしたので、レーザー溶接と
ティグ溶接を同一部分に同時に精度よくしかも操作性よ
く行うことができる。また、全体としてコンパクトにな
り周囲部材との干渉もなくなる。
ように本発明によれば、タングステン電極を備えた電極
ホルダーの外周に、集光レンズ光学系を一体に備え、レ
ーザー光ガイド光学系によりガイドしてきたレーザー光
を集光レンズ光学系によりタングステン電極よりも先の
ポイントに集光させるようにしたので、レーザー溶接と
ティグ溶接を同一部分に同時に精度よくしかも操作性よ
く行うことができる。また、全体としてコンパクトにな
り周囲部材との干渉もなくなる。
【００２６】また電極ホルダーの表面に、金コートによ
る反射膜を施したので、電極ホルダーはレーザー光によ
り発熱することはない。
る反射膜を施したので、電極ホルダーはレーザー光によ
り発熱することはない。
【図１】本発明の実施の形態に係る複合溶接ヘッドを示
す構成図。
す構成図。
【図２】従来技術を示す構成図。
【図３】従来技術を示す構成図。
１ ティグ溶接ヘッド ２，２ａ タングステン電極 ３ 母材 ４ アーク ５ 集光レンズ系 ６ レーザー光 ５０ 母材 １００ 複合溶接ヘッド １１０ 電極ホルダー １１０ａ 反射膜 １１１ タングステン電極 １１２ 電源部 １１３ アーク １１４ 不活性ガス源 １２０ ＹＡＧレーザー装置 １３０ レーザー光ガイド光学系 １３１ 光ファイバ １３２ 全反射鏡 １３３ 光ファイバホルダー １４０ 集光レンズ光学系 １４１〜１４５ レンズ １４６ 保護ガラス
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 赤羽 崇 兵庫県神戸市兵庫区和田崎町一丁目１番 １号 三菱重工業株式会社 神戸造船所 内 (56)参考文献 特開 昭54−39340（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−69165（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−47068（ＪＰ，Ａ) 特開 昭48−103436（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−147185（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−263585（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B23K 26/00 B23K 9/29 B23K 26/06 B23K 28/02
Claims (2)
- 【請求項１】 タングステン電極が先端部から突出する
状態で前記タングステン電極を内包・保持する円筒状の
電極ホルダーと、 レーザー光をガイドしてこのレーザー光を前記電極ホル
ダーの基端側から先端側に向けて入射させるレーザー光
ガイド光学系と、 中央部に孔が形成されて前記電極ホルダーの外周面に嵌
装され且つ電極ホルダーの軸方向にならんで配列された
複数のリング状のレンズで構成され、前記電極ホルダー
の基端側から入力されたレーザー光を、前記タングステ
ン電極の先端よりも先のポイントに集光させる集光レン
ズ光学系と、 でなることを特徴とする複合溶接ヘッド。 - 【請求項２】 前記電極ホルダーは、表面に金コートに
よる反射膜が施されていることを特徴とする複合溶接ヘ
ッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27858795A JP3245027B2 (ja) | 1995-10-26 | 1995-10-26 | 複合溶接ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27858795A JP3245027B2 (ja) | 1995-10-26 | 1995-10-26 | 複合溶接ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09122950A JPH09122950A (ja) | 1997-05-13 |
| JP3245027B2 true JP3245027B2 (ja) | 2002-01-07 |
Family
ID=17599347
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27858795A Expired - Lifetime JP3245027B2 (ja) | 1995-10-26 | 1995-10-26 | 複合溶接ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3245027B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101934432A (zh) * | 2010-09-14 | 2011-01-05 | 哈尔滨工业大学 | 激光与电阻点焊的同轴复合焊接方法 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3392683B2 (ja) | 1997-02-10 | 2003-03-31 | 三菱重工業株式会社 | レーザ加工ヘッド |
| KR100456969B1 (ko) * | 2001-09-17 | 2004-11-10 | 현대중공업 주식회사 | 레이저 용접과 아크 용접을 이용한 복합 용접 방법 |
| JP2009195964A (ja) * | 2008-02-25 | 2009-09-03 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | レーザ・アーク複合溶接ヘッド |
| TWI599431B (zh) | 2015-11-03 | 2017-09-21 | 財團法人工業技術研究院 | 雷射加工裝置及雷射排屑裝置 |
| CN108213753A (zh) * | 2017-12-30 | 2018-06-29 | 沈阳富创精密设备有限公司 | 一种新形式的激光tig复合焊接头 |
-
1995
- 1995-10-26 JP JP27858795A patent/JP3245027B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101934432A (zh) * | 2010-09-14 | 2011-01-05 | 哈尔滨工业大学 | 激光与电阻点焊的同轴复合焊接方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09122950A (ja) | 1997-05-13 |
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