JPH05135316A

JPH05135316A - 磁気ヘツド

Info

Publication number: JPH05135316A
Application number: JP30030891A
Authority: JP
Inventors: Tatsuo Hisamura; 達雄久村; Katsumi Sakata; 勝美坂田
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1991-11-15
Filing date: 1991-11-15
Publication date: 1993-06-01

Abstract

(57)【要約】【目的】複数の基板を充分高い接合強度をもって重ね
合わせ、信頼性と、歩留りの高い磁気ヘッドを構成す
る。【構成】対の基板１、２間に少なくとも一方の基板１
に被着形成した磁性膜３を挟み込んでその磁性膜３の全
面に渡って低温金属接合を行うと共に、その重ね合わせ
方向に各基板１、２に差し渡ってガラス４を融着して接
合補強を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気ヘッド特に磁性膜
が基板によって挟み込まれたサンドウィッチ型の磁気ヘ
ッドに係わる。

【０００２】

【従来の技術】図９に示すように、非磁性基板１及び２
間に磁気ギャップｇを形成する高飽和磁束密度の金属磁
性膜３を挟み込んでなるサンドウィッチ型の磁気ヘッド
がある。

【０００３】また、図１０に示すように、磁気記録媒体
との対接ないしは対向する面（本明細書ではこれを単に
摺接面と称することとする）側の前方部が非磁性部１１
Ａ及び１２Ａよりなり、後方部の主たる部分が磁性フェ
ライト１１Ｂ及び１２Ｂよりそれぞれなる複合基板１１
及び１２によって前述したと同様に磁気ギャップｇを形
成する高飽和磁束密度の金属磁性膜３を挟み込んでなる
サンドウィッチ型の磁気ヘッドがある。

【０００４】この種のサンドウィッチ型磁気ヘッドは、
その磁気ギャップｇのトラック幅が蒸着、スパッタ等に
よって形成する磁性膜３の厚さに対応して形成されるこ
とからトラック幅の小さい磁気ギャップを形成すること
ができること、またこの磁性膜３として高い飽和磁束密
度Ｂｓを有するセンダスト等の金属磁性膜によって構成
し得ることから例えばＶＴＲにおける高画質化、高記録
密度化をはかる高保磁力を有する磁気記録媒体に対する
記録ヘッドとして用いて好適なものである。

【０００５】この種のサンドウィッチ型磁気ヘッドにお
ける両基板１及び２、或いは１１及び１２は、磁性膜３
を挟み込んで接合するものであるが、これらの接合は一
方の基板１または１１に対して磁性膜３を直接的に被着
し、この磁性膜３と他方の基板２または１２との接合を
図示しないがＡｇ、Ａｕ等の低融点金属の熱圧着によっ
て接合するという方法が採られる。

【０００６】ところが、このような構成による磁気ヘッ
ドにおいて、加熱過程あるいは磁気記録媒体との摺接に
よる摩擦熱などの加熱等によって両基板１及び２あるい
は１１及び１２に反りが生じたり、その接合面の凹凸状
態によって部分的に未接合部が生じたり、剥がれが生じ
るなど充分な強度を保持できない場合が生じ、信頼性及
び歩留りが充分得られないという問題がある。

【０００７】また、このような欠点を回避するものとし
て低融点金属接合に代えてガラス材を充分な厚さに介在
させて両基板１及び２間、或いは１１及び１２間の金属
磁性膜３を挟んで接合するということが考えられるがそ
の接着ガラスのガラス量が大である場合、金属磁性膜を
侵蝕したり、またこれが磁気記録媒体との摺接面に臨む
ことからその耐摩耗性の相違による摩耗にかたよりが生
じるいわゆる偏摩耗の原因となって磁気ギャップｇと磁
気記録媒体とのいわゆる当たりが不安定となるという不
都合が生じる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述したよ
うに基板間に金属磁性膜が介在されて全体が接合合体さ
れる磁気ヘッドにおいて、その接合が安定して行われ、
また金属磁性膜３に対する侵蝕等の問題が回避されて信
頼性及び歩留りの向上、さらに長寿命化をはかることが
できるようにした磁気ヘッドを提供する。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、図１にその一
例の略線的拡大斜視図を示すように、磁気ギャップｇを
形成する金属磁性膜３が少なくとも一方に被着形成され
た対の非磁性基板１及び２を、その金属磁性膜３を挟み
込むように低温金属接合によって接合合体すると共にそ
の複数の非磁性基板すなわち互いに接合する非磁性基板
１及び２の厚さ方向に差し渡って、また磁気記録媒体と
の摺接面５の、磁気ギャップｇが臨む部分とその近傍を
除く他部においてガラス４を融着して接合補強をする。

【００１０】また、本発明においては、図２にその一例
の略線的拡大斜視図を示すように、磁気ギャップｇを形
成する金属磁性膜３が少なくとも一方に被着形成され、
非磁性部１１Ａ及び１２Ａと、磁性フェライト部１１Ｂ
及び１２Ｂとよりそれぞれなる複合基板１１及び１２
を、金属磁性膜３を挟み込むように低温金属接合によっ
て接合合体すると共に上述した複数の複合基板１１及び
１２の厚さ方向に差し渡って磁気記録媒体との摺接面５
の特に磁気ギャップｇが臨む部分及びその近傍を除く他
部においてガラス４を配してガラス融着による接合を行
う。

【００１１】

【作用】上述したように本発明においては、基板１及び
２あるいは１１及び１２の相互の接合を低温金属接合の
みならずガラス４によってその厚さ方向に差し渡って融
着して接合補強するようにしたので金属磁性膜３を挟み
込んだ状態で両基板１及び２あるいは１１及び１２を強
固に接合することができると共に、このガラス４は金属
磁性膜３の磁気ギャップｇの形成部とは離間したその端
縁においてのみ接触するに過ぎないことからほとんどそ
の侵蝕がなされず、またその侵蝕による磁気特性及び磁
気記録媒体との摺接状態に影響を及ぼすことが回避され
る。

【００１２】

【実施例】本発明の一例の図１に示すサンドウィッチ型
磁気ヘッドを、その理解を容易にするために製造方法の
一例と共に詳細に説明する。

【００１３】この場合まず図３Ａに示すように非磁性基
板体２０を用意する。この非磁性基板体２０は最終的に
図１に示す非磁性基板１及び２を構成する例えば耐摩耗
性に優れたチタン酸カルシウム、ジルコニア、いわゆる
アルチク系等のセラミクス、あるいはＭｎ−ＮｉＯ系、
ＺｎＯ系非磁性基板によって形成し得る。尚、アルチク
系セラミクスとは６０〜８０重量％のＡｌ₂Ｏ₃系と４
０〜２０重量％のＴｉＣの混合によるホットプレス、あ
るいは加熱、焼結によって形成したセラミクスである。

【００１４】そして、この非磁性基板体２０の一主面を
鏡面研磨しこれに金属磁性膜３を被着形成する。

【００１５】金属磁性膜３は、高飽和磁束空度、高透磁
率の軟磁性の強磁性膜によって構成し、結晶質、微結晶
質、非晶質を問わない金属磁性膜によって構成する。例
えば結晶質Ｆｅ−Ｇａ−Ｓｉ−Ｒｕ系合金、Ｆｅ−Ａｌ
−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ａｌ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｏ系
合金、Ｆｅ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ系合金、Ｆ
ｅ−Ｇａ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ
−Ｃｏ−Ｓｉ−Ａｌ系合金等が挙げられる。さらには、
耐蝕性や耐摩耗性等の一層の向上を図るために、Ｔｉ，
Ｃｒ，Ｍｎ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｕ，Ｏ
ｓ，Ｒｈ，Ｉｒ，Ｒｅ，Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｈｆ，Ｖ等
の少なくとも１種を添加したものであってもよい。或い
は微結晶質のＦｅ−Ｎ系、Ｆｅ−Ｃ系、Ｆｅ−Ｏ系の合
金、更に或いは、非結晶質の例えば、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｏ
の１つ以上の元素とＰ，Ｃ，Ｂ，Ｓｉの１つ以上の元素
とからなる合金、またはこれらを主成分としＡｌ，Ｇ
ｅ，Ｂｅ，Ｓｎ，Ｉｎ，Ｍｏ，Ｗ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｃｒ，
Ｚｒ，Ｈｉ，Ｎｂ等を含んだ合金等のメタル−メタロイ
ド系アモルファス合金、あるいはＣｏ，Ｈｆ，Ｚｒ等の
遷移元素や希土類元素等とを主成分とするメタル−メタ
ル系アモルファス合金等によって構成することができ
る。

【００１６】そして、この金属磁性膜の形成は、その成
膜の膜厚の制御性に優れているスパッタリング法、真空
蒸着法、イオンプレーティング法等によって行い得る。

【００１７】また金属磁性膜は上述の各金属磁性膜をＳ
ｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃のスパッタ、蒸着等による膜を介在
させた多層膜構造の積層構造とすることもできる。

【００１８】そして、この金属磁性膜３上、及び（又
は）これとは反対側の基板体２０の裏面に、図示しない
が低温金属接合のために例えばＣｒを厚さ５００〜１０
００Å程度に必要に応じて被着し、これの上にＡｕ、Ａ
ｇ、Ａｌ等の金属、或いはこれらを１種以上含む合金、
金ろう、銀ろう等を例えば２０００Å程度の厚さに被着
する。

【００１９】そして、これら基板体２０を図３Ｂに示す
ように互いに順次重ね合わせてその重ね合わせ方向に圧
力を加えながら２５０℃で加熱して複数の基板体２０を
接合即ち低温金属接合によって合体してブロック２１を
構成した。

【００２０】このブロック２１に対して図４Ａに示すよ
うに金属膜３及び非磁性基板体２０の積層方向に沿って
金属磁性膜３及び非磁性基板体２０の各面と直交するよ
うに所要の深さを有する溝２２を所要の幅及び間隔をも
って複数本平行にエッチングあるいは機械加工によって
形成する。

【００２１】そして、これら溝２２内にそれぞれガラス
４を充填する。このガラス４の充填は、ガラス棒を各溝
２２上あるいは溝２２内に配し、全体を加熱溶融するこ
とによって各溝２２に関して同時にガラス４を充填する
ことができる。

【００２２】そして、図４Ａ中鎖線ａ₁、ａ₂、ａ₃…
…で示すように、各溝２２の中央部と、これらの中間部
に沿ってブロック２１を切断し、図４Ｂに示すように対
のコア半体ブロック２３及び２４を形成し、それぞれガ
ラス４が被着されていない側のすなわち溝２２が設けら
れていない側の切断面に各金属磁性膜３を横切る方向に
最終的に形成する磁気ギャップｇのギャップデプスを規
定し、かつヘッド巻線を巻装するに供する巻線溝２５を
少なくとも一方のコア半体ブロックに形成する。

【００２３】そして図４Ｃに示すように、両コア半体ブ
ロック２３及び２４をその接合ガラス４を有する側とは
反対側の面を鏡面研磨してこれら面に前述したと同様の
低温金属接合法あるいは薄いガラス接合により両者をそ
の各金属磁性膜３の端面が互いに衝き合わされてそれぞ
れ磁気ギャップｇを形成するように接合合体してコアブ
ロック２６を構成する。この場合、磁気ギャップｇのギ
ャップスペーサとして予め例えば一方のコア半体ブロッ
ク２３または２４の衝き合わせ面にＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ
₃、Ｔａ₂Ｏ₅等の酸化膜を被着しておくことができ
る。

【００２４】次に、図４Ｃ中鎖線ｂ₁、ｂ₂、ｂ₃……
で示すようにコアブロック２６をその両コア半体ブロッ
クを横切って隣り合う各金属磁性薄膜３間において切断
して、図１にさらにその拡大図を示す本発明による磁気
ヘッドを製出する。

【００２５】そして磁気記録媒体との摺接面５すなわち
磁気ギャップｇを臨む面を例えば円筒研磨し、さらに図
示しないが巻線溝２５にヘッド巻線を巻装することによ
って磁気ヘッドを構成することができる。

【００２６】このようにして得た磁気ヘッドは、金属磁
性膜３によって磁気ギャップｇが形成され、この金属磁
性膜３を挟んでそれぞれ非磁性基板体２０の一部から成
る非磁性基板１及び２が接合された構成が採られ、これ
ら両非磁性基板１及び２が金属磁性膜３の両側端面にお
いて非磁性基板１及び２の側面に差し渡ってガラス４が
融着されてなることによって両基板１及び２は強固に接
着されると共にこのガラス４と金属磁性膜３との接触部
は金属磁性膜３の磁気ギャップｇが形成される側とは反
対側の極く一部の端面においてのみ接触するに過ぎない
ことから、金属磁性膜３がガラス４によって侵蝕されて
磁気記録ヘッドの特性に影響を及ぼすような不都合が効
果的に回避される。

【００２７】尚、上述した例においては図１に説明する
ように磁気ヘッドが金属磁性膜３を挟んで非磁性基板１
及び２が接合されて形成された場合であるが、図２に示
すように磁気記録媒体との摺接面５においてのみ非磁性
部１１Ａ及び１２Ａを有し、その後方部に主たる部分が
磁性フェライト１１Ｂ及び１２Ｂによって構成される複
合基板１１及び１２によって金属磁性膜３が挟み込まれ
た構造を採る場合においても上述した方法によって得る
ことができる。

【００２８】しかしながらこの場合は図３で説明した非
磁性基板体２０に代えてその一部すなわち図３Ａにおい
て上述側の一部のみが非磁性部材によって構成され、他
部が磁性フェライト部によって構成された基板体を用い
ることによって図３〜図４で説明したと同様の方法によ
って形成することができる。

【００２９】また、上述した図１及び図２に示した例に
おいては、基板１及び２、あるいは１１あるいは１２の
外側面の一部にガラス４を融着した場合であるが、図５
あるいは図６に示すように両側全面に渡って配置した構
成を採ることもできるし、またあるいは図７あるいは図
８に示すように磁気記録媒体との摺接面とは反対側の背
面においてガラス４を融着した構成を採ることもできる
など種々の構成を採り得る。

【００３０】また、尚図５、図７及び図６、図８におい
て図１及び図２と対応する部分には同一符号を付して重
複説明を省略する。

【００３１】

【発明の効果】上述したように本発明によれば、金属磁
性膜３を挟んで基板１及び２あるいは１１及び１２が配
置された構成を採る場合においてその磁気ギャップｇの
形成部とほとんど影響のない磁気ヘッドの側面部あるい
は背面部においてその基板１及び２あるいは１１及び１
２の積層方向すなわち厚さ方向にガラス４を融着するよ
うにしたので、これによって金属磁性膜３を侵蝕するこ
とによる磁気ヘッドとしての磁気特性への影響を回避で
き、しかも基板１及び２、１１及び１２の接合を強固に
行うことができ信頼性の高い磁気ヘッドを歩留りよく得
ることができ、また長寿命化をはかることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による磁気ヘッドの略線的拡大斜視図で
ある。

【図２】本発明による磁気ヘッドの他の例の略線的拡大
斜視図である。

【図３】本発明による磁気ヘッドの一例の製造工程図
（その１）である。

【図４】本発明による磁気ヘッドの一例の製造工程図
（その２）である。

【図５】本発明による磁気ヘッドの他の例の略線的拡大
斜視図である。

【図６】本発明の磁気ヘッドのさらに他の例の略線的拡
大斜視図である。

【図７】本発明による磁気ヘッドのさらに他の例の略線
的拡大斜視図である。

【図８】本発明による磁気ヘッドのさらに他の例の略線
的拡大斜視図である。

【図９】従来の磁気ヘッドの略線的拡大斜視図である。

【図１０】従来の磁気ヘッドの略線的拡大斜視図であ
る。

【符号の説明】

１非磁性基板２非磁性基板３金属磁性膜４ガラス１１複合基板１２複合基板ｇ磁気ギャップ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】磁気ギャップを形成する金属磁性膜が少
なくとも一方に被着形成された対の非磁性基板が、上記
金属磁性膜を挟み込むように低温金属接合によって接合
合体されると共に上記複数の磁性基板の厚さ方向に差し
渡って磁気記録媒体との摺接面の、上記磁気ギャップが
臨む部分とその近傍を除く他部においてガラスが融着さ
れて接合補強がなされたことを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】少なくとも一方に磁気ギャップを形成す
る金属磁性膜が被着形成された非磁性部と、磁性フェラ
イト部とよりなる対の複合基板が、上記磁性膜を挟み込
むように低温金属接合によって接合合体されると共に、
上記複数の複合基板の厚さ方向に差し渡って磁気記録媒
体との摺接面の、上記磁気ギャップが臨む部分とその近
傍を除く他部においてガラスが融着されて接合補強がな
されたことを特徴とする磁気ヘッド。