JPH0513400A - 治具洗浄乾燥方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 治具洗浄乾燥装置において、ワーク収納治具
の乾燥時間を減少させ、スループットを向上させ、装置
の設置スペースを減少させ、装置の小形化およびコスト
の低廉化を図り、ワーク収納治具内の不純物を溶出さ
せ、パーティクルの付着を防止する。 【構成】 治具洗浄乾燥装置において、温水を貯留する
洗浄槽３と、ウエハ収納治具８を傾斜状態で収納するバ
スケット１２と、このバスケット１２を高速で洗浄槽３
内に搬送し、洗浄後、洗浄槽３内から低速で引き上げる
搬送ユニット１１と、浸漬中のウエハ収納治具８に超音
波を付与する超音波振動子６とを備えた構造とした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、治具洗浄乾燥装置に関
し、特に、たとえば半導体ウエハなどのワークを収納す
るワーク収納治具に対して洗浄から乾燥までを洗浄室で
自動処理するために適用して有効な技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】ウエハ収納治具に対して洗浄から乾燥ま
での処理を行うために、ウエハ収納治具を手動で洗浄し
た後、赤外線乾燥を行い、あるいはウエハ収納治具を自
動搬送により洗浄した後、乾燥室に搬送し、温風および
窒素ガスブローによりウエハ収納治具の乾燥を行う技術
を採用していた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、前記した従来
の技術では、洗浄後、ウエハ収納治具を乾燥室内に搬送
し、温風および窒素ガスブローで乾燥する方法であるの
で、乾燥に時間がかかってしまう。

【０００４】また、ウエハ収納治具のウエハ収納溝や位
置合せ用の凸部に水滴が付着していると、温風や窒素ガ
スブローでは、短時間に乾燥できず、水滴が残ってしま
う。

【０００５】また、乾燥に用いる温風や窒素ガスブロー
により乾燥室内のパーティクルが巻き上がって洗浄済み
のウエハ収納治具に再付着してしまう。

【０００６】また、溶剤などによる低温洗浄では、ウエ
ハ収納治具内にしみ込んでいる不純物が溶出されず、溶
剤によっては安全性が低下する。

【０００７】さらに、洗浄室に加えて、乾燥室を必要と
するため、装置の設置スペースが増大し、コストが高く
ついてしまう。

【０００８】本発明の目的は、ワーク収納治具の乾燥時
間を減少させ、スループットを向上させることのできる
技術を提供することにある。

【０００９】本発明の他の目的は、装置の設置スペース
を減少させ、装置の小形化およびコストの低廉化を図る
ことのできる技術を提供することにある。

【００１０】また、本発明の他の目的は、ワーク収納治
具内の不純物を溶出させ、パーティクルの付着を防止す
ることのできる技術を提供することにある。

【００１１】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。

【００１３】すなわち、本発明の治具洗浄乾燥装置の構
造は、洗浄液を貯留する洗浄槽と、ワーク収納治具を傾
斜状態で収納するバスケットと、このバスケットを高速
で洗浄槽内に搬送し、洗浄後、洗浄槽内から低速で引き
上げる搬送ユニットと、浸漬中のワーク収納治具に超音
波を付与する超音波振動子とを備えた構造としたもので
ある。

【００１４】この場合、前記洗浄液として温水を使用
し、前記洗浄槽内にヒータを設けた構造とすることがで
きる。

【００１５】

【作用】ワーク収納治具の洗浄乾燥を行う場合、洗浄槽
内の温水にワーク収納治具を浸漬し、超音波洗浄を行
い、その後、洗浄槽内からワーク収納治具を傾斜状態で
低速で引き上げつつ水切りを行い、ワーク収納治具の乾
燥を行う。

【００１６】このように、バスケットの引き上げの際
に、ワーク収納治具の乾燥を行うことができるので、ワ
ーク収納治具の乾燥時間を減少させ、スループットを向
上させ、設置スペースを減少させることができる。

【００１７】

【実施例】図１は本発明の実施例である治具洗浄乾燥装
置を示す斜視図、図２は図１の治具洗浄乾燥装置の要部
を示す断面図、図３は図２のウエハ収納治具を示す斜視
図である。

【００１８】本実施例における治具洗浄乾燥装置は、装
置本体１を有している。この装置本体１内に洗浄室２が
形成され、この洗浄室２の中央に洗浄槽３が設けられて
いる。この洗浄槽３は温水を貯留し、槽壁４に沿ってヒ
ータ５が設けられ、このヒータ５は石英またはステンレ
スなどで覆われ、自然放熱による温度低下を防止するも
のである。

【００１９】また、洗浄槽３の下部に超音波振動子６が
設けられ、この超音波振動子６は超音波によるキャビテ
ーションにより超音波洗浄を行う構造としたものであ
る。

【００２０】洗浄槽３の開口部の周縁部に沿って排気ダ
クト７が設けられ、この排気ダクト７は洗浄槽３内の温
水から発生する水蒸気を排気し、乾燥済みのウエハ収納
治具８への水蒸気の付着を防止する構造としたものであ
る。

【００２１】洗浄室２の天井壁９に超高性能のエアフィ
ルタ１０が設けられ、このエアフィルタ１０は浄化によ
り洗浄室２内をクリーンエア雰囲気とし、乾燥済みのウ
エハ収納治具８へのパーティクルの付着を防止する機能
を有する。

【００２２】また、洗浄室２の天井壁９に搬送ユニット
１１が設けられ、この搬送ユニット１１はバスケット１
２を速度制御可能にＸＹＺ方向に搬送する機能を有し、
洗浄時にバスケット１２を上下に揺動させ、引き上げ時
にバスケット１２を低速で引き上げる構造となってい
る。引き上げ速度は1.０ｍｍ／ｓ以下に設定されてい
る。

【００２３】前記バスケット１２は、ウエハ収納治具８
を傾斜状態でセットするテフロンあるいはステンレス製
の治具で、底壁１３に左右一対のステイ１４ａ，１４ｂ
が設けられ、この左右一対のステイ１４ａ，１４ｂは、
位置合せ用の凸部１５側端部を低レベルに位置させ、凸
部１５やウエハ収納溝１６に付着する水滴を引き上げ時
に滴下させる傾斜角度θでウエハ収納治具８を傾斜させ
てセットする構造となっている。前記傾斜角度θは１５
°〜３０°に設定されている。

【００２４】また、バスケット１２の開口部にプレート
１７が渡され、このプレート１７は折曲部１８を有し、
この折曲部１８によりセット状態のウエハ収納治具８の
浮力による浮き上がりと慣性による位置ずれとを防止す
る構造となっている。

【００２５】洗浄槽３の開口部の一側にローダアンロー
ダ１９が形成され、このローダアンローダ１９は搬送ユ
ニット１１によりバスケット１２をセットし、ウエハ収
納治具８の収納・回収を行うステージである。

【００２６】装置本体１の一側に温水供給ユニット２０
が配置され、この温水供給ユニット２０は洗浄槽３に温
水を供給し、洗浄槽３の開口部から常時オーバフローさ
せる構造としたものである。温水の温度は７０°Ｃ以上
に設定されている。

【００２７】次に、本実施例の作用について説明する。

【００２８】図４は図１の治具洗浄乾燥装置の動作を示
す流れ図である。

【００２９】温水供給ユニット２０により洗浄槽３に７
０°Ｃ以上の温水を供給した状態の下で、以下の工程Ｓ
１〜Ｓ６を経てウエハ収納治具８の洗浄乾燥を行う。

【００３０】Ｓ１．バスケット１２内にウエハ収納治具
８を１５°〜３０°の傾斜角度θでセットする。

【００３１】Ｓ２．ローダアンローダ１９にバスケット
１２をセットする。

【００３２】Ｓ３．搬送ユニット１１によりバスケット
１２を洗浄槽３内に搬送し、ウエハ収納治具８をバスケ
ット１２とともに温水中に浸漬する。

【００３３】Ｓ４．浸漬状態のウエハ収納治具８を揺動
させつつ、超音波洗浄による洗浄を開始する。

【００３４】Ｓ５．洗浄後、搬送ユニット１１によりバ
スケット１２とともにウエハ収納治具８を1.０ｍｍ／ｓ
以下の速度で引き上げる。この引き上げの際、位置合せ
用の凸部１５やウエハ収納溝１６に付着する水滴を滴下
させて液切りを行い、ウエハ収納治具８の乾燥を行う。

【００３５】Ｓ６．引き上げ乾燥後、搬送ユニット１１
によりバスケット１２をローダアンローダ１９に搬送
し、ウエハ収納治具８を回収する。

【００３６】このように、傾斜状態でウエハ収納治具８
をセットしたバスケット１２を洗浄槽３内から低速で引
き上げることにより、ウエハ収納治具８を乾燥できるの
で、乾燥時間を減少させ、スループットを向上させるこ
とができる。

【００３７】また、傾斜状態でウエハ収納治具８を収納
したバスケット１２の低速引き上げによりウエハ収納治
具８を乾燥する構造としたので、従来の乾燥室などを不
要にし、設置スペースを減少させ、装置の小形化および
コストの低廉化を図ることができる。

【００３８】また、洗浄液として温水を使用し、温水洗
浄によりウエハ収納治具８内の不純物を溶出させ、しか
も薬液を使用せず、安全性を向上させることができる。

【００３９】また、洗浄後、ウエハ収納治具８を傾斜状
態で洗浄槽３内から低速で引き上げつつ液切りを行い、
ウエハ収納治具８の乾燥を行う装置としたので、従来の
温風、窒素ガスブローを不要にし、乾燥済みのウエハ収
納治具８へのパーティクルの付着を防止することができ
る。

【００４０】また、洗浄槽３の開口部の周縁部に沿って
排気ダクト７を設けた構造としたので、洗浄槽３内の温
水から発生する水蒸気を排気し、乾燥済みのウエハ収納
治具８への水蒸気の付着を防止することができる。

【００４１】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施
例に限定されるものでなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることはいうまでもない。

【００４２】たとえば、前記実施例では、エアフィルタ
によりクリーンエアの雰囲気で洗浄乾燥を行う場合につ
いて説明したが、これに限らず、洗浄室に窒素ガスなど
の不活性ガスを供給し、洗浄室内を不活性ガス雰囲気と
するこもできる。

【００４３】また、前記実施例では、洗浄液として温水
を使用した場合について説明したが、これに限らず、温
純水を使用し、洗浄性および溶出性をより一層向上させ
るこもできる。

【００４４】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるウエハ
収納治具の洗浄乾燥を行う方法および装置で説明した
が、他のワーク収納治具の洗浄乾燥を行う方法および装
置にも適用できる。

【００４５】

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。

【００４６】(1).洗浄後、ワーク収納治具を傾斜状態で
洗浄槽内から低速で引き上げつつ液切りを行い、ワーク
収納治具の乾燥を行う方法および装置としたので、ワー
ク収納治具の乾燥時間を減少させ、スループットを向上
させることができる。

【００４７】(2).洗浄後、ワーク収納治具を傾斜状態で
洗浄槽内から低速で引き上げつつ液切りを行い、ワーク
収納治具の乾燥を行う装置としたので、従来の乾燥室な
どを不要にし、設置スペースを減少させ、装置の小形化
およびコストの低廉化を図ることができる。

【００４８】(3).洗浄液として温水を使用し、この温水
で洗浄を行う構造としたので、温水洗浄によりワーク収
納治具内の不純物を溶出させ、しかも薬液を使用せず、
安全性を向上させることができる。

【００４９】(4).洗浄後、ワーク収納治具を傾斜状態で
洗浄槽内から低速で引き上げつつ液切りを行い、ワーク
収納治具の乾燥を行う構造としたので、従来の温風、窒
素ガスブローを不要にし、乾燥済みのワーク収納治具へ
のパーティクルの付着を防止することができる。

【００５０】(5).洗浄槽の開口部に排気ダクトを設けた
構造としたので、洗浄槽内から発生する水蒸気を排気
し、乾燥済みのワーク収納治具への水蒸気の付着を防止
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例である治具洗浄乾燥装置を示す
斜視図である。

【図２】図１の治具洗浄乾燥装置の要部を示す断面図で
ある。

【図３】図２のウエハ収納治具を示す斜視図である。

【図４】図１の治具洗浄乾燥装置の動作を示す流れ図で
ある。

【符号の説明】

１ 装置本体 ２ 洗浄室 ３ 洗浄槽 ４ 槽壁 ５ ヒータ ６ 超音波振動子 ７ 排気ダクト ８ ウエハ収納治具 ９ 天井壁 １０ エアフィルタ １１ 搬送ユニット １２ バスケット １３ 底壁 １４ａ ステイ １４ｂ ステイ １５ 凸部 １６ ウエハ収納溝 １７ プレート １８ 折曲部 １９ ローダアンローダ ２０ 温水供給ユニット θ 傾斜角度

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 洗浄後、洗浄槽内の洗浄液中からワーク
   収納治具を傾斜状態で低速で引き上げつつ液切りを行
   い、ワーク収納治具の乾燥を行うことを特徴とする治具
   洗浄乾燥方法。
2. 【請求項２】 洗浄液を貯留する洗浄槽と、ワーク収納
   治具を傾斜状態で収納するバスケットと、このバスケッ
   トを高速で洗浄槽内に搬送し、洗浄後、洗浄槽内から低
   速で引き上げる搬送ユニットと、浸漬中のワーク収納治
   具に超音波を付与する超音波振動子とを備えたことを特
   徴とする治具洗浄乾燥装置。
3. 【請求項３】 前記洗浄液として温水を使用し、前記洗
   浄槽内にヒータを設けたことを特徴とする請求項２記載
   の治具洗浄乾燥装置。
4. 【請求項４】 前記洗浄槽の開口部に、この洗浄槽内
   から発生する水蒸気を排気する排気ダクトを設けたこと
   を特徴とする請求項３記載の治具洗浄乾燥装置。