JPH09129580A - 洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウエハの自然乾燥を防止する。 【解決手段】 チャンバ１１の洗浄室１２にはアルカリ
系洗浄槽２０、第１水洗槽３０、酸系洗浄槽４０、第２
水洗槽５０および洗浄用搬送装置１４が設備され、チャ
ンバ１１の乾燥室１３にはベーパ乾燥装置６０および乾
燥用搬送装置１５が設備されており、洗浄室１２は多湿
雰囲気１６に維持されている。洗浄室１２と乾燥室１３
との間には水中搬送装置７０が洗浄後のウエハ１をベー
パ乾燥装置のベーパ浴槽６１に直接引き上げるように設
備されている。 【効果】 洗浄室内でウエハが洗浄用搬送装置により空
中搬送される際、ウエハは多湿雰囲気に晒されるため、
自然乾燥を防止され、洗浄後のウエハは水中搬送されて
ベーパ乾燥装置に移されるため、その移送中に自然乾燥
される現象は防止される。その結果、ウエハの自然乾燥
による染みの発生は防止される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、洗浄技術、特に、
複数の被洗浄物を一括して洗浄する技術に関し、例え
ば、半導体装置の製造において半導体ウエハ（以下、ウ
エハという。）を洗浄する技術に利用して有効なものに
関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置の製造においてウエハを洗浄
する装置として、アルカリ系洗浄液で洗浄する洗浄槽
（以下、アルカリ系洗浄槽という。）、酸系洗浄液で洗
浄する洗浄槽（以下、酸系洗浄槽という。）および水洗
いする洗浄槽（以下、水洗槽という。）がチャンバ内に
並べて設けられ、複数枚のウエハが保持治具によって保
持された状態で搬送装置によって搬送されて各洗浄槽に
順次浸漬されて行き、洗浄後のウエハが続いて乾燥され
るように構成されている洗浄乾燥装置がある。

【０００３】なお、洗浄乾燥装置を述べてある例として
は、株式会社工業調査会１９９４年１１月２５日発行
「電子材料１９９４年１１月号別冊」Ｐ１０３〜Ｐ１０
９、がある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従来の洗浄乾燥装置に
おいては、例えば、ウエハが前段のアルカリ系洗浄槽や
酸系洗浄槽から後段の水洗槽に搬送装置によってチャン
バ内を空中搬送される際に自然乾燥が起こるため、所謂
染みが発生し易くなるという問題点があることが、本発
明者によって明らかにされた。

【０００５】本発明の目的は、各洗浄槽の洗浄後の自然
乾燥を防止することができる洗浄装置を提供することに
ある。

【０００６】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通り
である。

【０００８】すなわち、チャンバ内に複数の洗浄槽が並
べて設けられ、被洗浄物が搬送装置によって搬送されて
各洗浄槽に順次浸漬されて行く洗浄装置において、前記
チャンバ内が高湿度に維持されていることを特徴とす
る。

【０００９】

【作用】前記した手段によれば、各洗浄槽において被洗
浄物が搬送装置によってチャンバ内を空中搬送されるに
際して、被洗浄物はチャンバ内の多湿の雰囲気に晒され
るため、自然乾燥される現象を防止されることになる。
したがって、自然乾燥に伴って発生する染みは未然に防
止されることになる。

【００１０】また、チャンバの最終洗浄槽の後段に水中
搬送槽が敷設され、この水中搬送槽の出口側に水中搬送
槽から引き上げられた被洗浄物を乾燥する乾燥装置が配
設されている場合には、洗浄後の被洗浄物は水中搬送さ
れて乾燥装置に移されるため、その移送中に自然乾燥さ
れる現象は防止されることになる。

【００１１】

【発明の実施の形態】図１は本発明の一実施形態である
洗浄乾燥装置を示す正面断面図である。

【００１２】本実施形態において、本発明に係る洗浄装
置は、酸化処理前のウエハを洗浄して乾燥させる洗浄乾
燥装置として構成されている。この洗浄乾燥装置におい
て、被洗浄物としてのウエハ１は複数枚が保持治具２に
保持されて一括に洗浄処理されるようになっている。保
持治具２は耐薬品性の良好な弗素樹脂が用いられて、そ
の平面形状が長方形の箱形状に形成されている。保持治
具２の長辺側の一対の側壁面には保持溝（図示せず）が
複数条、軸心方向に略等間隔に配されて円弧形状に刻設
されている。そして、各保持溝は被保持物としてのウエ
ハ１を保持治具２の上面開口から挿入されることによ
り、ウエハ１を一枚宛保持するように構成されている。

【００１３】本実施形態において、洗浄乾燥装置１０は
気密空間を形成するチャンバ１１を備えており、チャン
バ１１内には洗浄室１２と乾燥室１３とが形成されてい
る。洗浄室１２の床面上には後記する各洗浄槽が並べて
設けられており、乾燥室１３には後記するベーパ乾燥装
置が設けられている。また、洗浄室１２の上部空間には
ウエハ１を保持治具２に保持した状態で搬送する洗浄用
搬送装置１４が全体にわたって敷設されており、洗浄用
搬送装置１４は洗浄室１２の上流側に設備されたローデ
ィング装置（図示せず）から被接続物としてのウエハ１
群を保持治具２に収容された状態で受け取って、ウエハ
１群を保持治具２ごと各洗浄槽に順次浸漬して行くよう
に構成されている。同様に、乾燥室１３の上部空間には
乾燥用搬送装置１５が敷設されており、乾燥用搬送装置
１５はウエハ１群を保持治具２ごと受け取って、乾燥室
１３の下流側に設備されたアンローディング装置（図示
せず）に受け渡すように構成されている。

【００１４】そして、チャンバ１１の洗浄室１２の内部
は、湿度がきわめて高い多湿雰囲気１６に形成されてい
る。多湿雰囲気１６は相対湿度が１００％に調製された
湿り空気が洗浄室１２にダクト（図示せず）を通じて空
気調整装置（図示せず）から吹き出されることによって
形成されている。

【００１５】チャンバ１１の洗浄室１２の床面にはアル
カリ系洗浄槽２０が最上流側に配置されている。アルカ
リ系洗浄槽２０は内槽２２と外槽２３との内外二重槽に
構成されている処理槽２１を備えており、内槽２２と外
槽２３とは同心の略正方形筒形状に形成されている。処
理槽２１にはアンモニア（ＮＨ₄ ＯＨ）と過酸化水素
（Ｈ₂ Ｏ₂ ）と水（Ｈ₂ Ｏ）との混合液等から調製され
たアルカリ系洗浄液２４が貯留されており、このアルカ
リ系洗浄液２４は内槽２２および外槽２３を循環するよ
うになっている。すなわち、外槽２３の底部にはフイル
タ２６を有するポンプ２５が接続されており、内槽２２
においてアルカリ系洗浄液２４は常時オーバフローして
外槽２３側へ循環して行くようになっている。なお、図
示しないが、アルカリ系洗浄槽２０にはアルカリ系洗浄
液２４を適宜補給するための供給系、および、アルカリ
系洗浄液２４を適宜排出するための排出系が設備されて
いる。

【００１６】チャンバ１１の洗浄室１２の床面における
アルカリ系洗浄槽２０の下流側位置には第１水洗槽３０
が配置されている。第１水洗槽３０は内槽３２と外槽３
３との内外二重槽に構成されている処理槽３１を備えて
おり、内槽３２と外槽３３とは同心の略正方形筒形状に
形成されている。処理槽３１には洗浄液としての純水３
４が貯留されており、この純水３４は外槽３３および内
槽３２を循環するようになっている。すなわち、外槽３
３の底部にはフイルタ３６を有するポンプ３５が接続さ
れており、内槽３２において純水３４は常時オーバフロ
ーして外槽３３側へ循環して行くようになっている。な
お、図示しないが、第１水洗槽３０には純水３４を適宜
補給するための供給系、および、純水３４を適宜排出す
るための排出系が設備されている。

【００１７】チャンバ１１の洗浄室１２の床面における
第１水洗槽３０の下流側位置には酸系洗浄槽４０が配置
されている。酸系洗浄槽４０は内槽４２と外槽４３との
内外二重槽に構成されている処理槽４１を備えており、
内槽４２と外槽４３とは同心の略正方形筒形状に形成さ
れている。処理槽４１には弗酸（ＨＦ）と水（Ｈ₂ Ｏ）
との混合液等から調製された酸系洗浄液４４が貯留され
ており、この酸系洗浄液４４は外槽４３および内槽４２
を循環するようになっている。すなわち、外槽４３の底
部にはフイルタ４６を有するポンプ４５が接続されてお
り、内槽４２において酸系洗浄液４４は常時オーバフロ
ーして外槽４３側へ循環して行くようになっている。な
お、図示しないが、酸系水洗槽４０には酸系洗浄液４４
を適宜補給するための供給系、および、酸系洗浄液４４
を適宜排出するための排出系が設備されている。

【００１８】チャンバ１１の洗浄室１２の床面における
酸系洗浄槽４０の下流側位置には第２水洗槽５０が配置
されている。第２水洗槽５０は内槽５２と外槽５３との
内外二重槽に構成されている処理槽５１を備えており、
内槽５２と外槽５３とは同心の略正方形筒形状に形成さ
れている。処理槽５１には洗浄液としての純水５４が貯
留されており、この純水５４は外槽５３および内槽５２
を循環するようになっている。すなわち、外槽５３の底
部にはフイルタ５６を有するポンプ５５が接続されてお
り、内槽５２において純水５４は常時オーバフローして
外槽５３側へ循環して行くようになっている。なお、図
示しないが、第２洗浄槽５０には純水５４を適宜補給す
るための供給系、および、純水５４を適宜排出するため
の排出系が設備されている。通例、酸系洗浄後の第２水
洗槽５０は複数段が配置されるが、便宜上、一段のみが
図示されている。

【００１９】他方、乾燥室１３にはベーパ乾燥装置６０
が設備されている。ベーパ乾燥装置６０はベーパ浴槽６
１を備えており、ベーパ浴槽６１は平面形状が略正方形
の箱形状に形成されている。ベーパ浴槽６１の上部には
保持治具２を出し入れするための出入口６２が開設され
ている。このベーパ浴槽６１の出入口６２の内周壁には
冷却水を循環させるためのコイル状の冷却パイプ６３が
敷設されている。ベーパ浴槽６１の外側には有機溶剤で
あるイソプロピルアルコール（以下、ＩＰＡという。）
が貯留されたＩＰＡ貯留槽６４が形成されている。ま
た、ＩＰＡ貯留槽６４の下部には赤外線ヒータまたは鉄
やアルミニウムのブロックにシーズヒータを埋め込んだ
ヒートブロック等によって構成された加熱装置６５が設
置されており、加熱装置６５はＩＰＡ６６を加熱するこ
とにより、それを強制的に蒸発させてベーパ６７を発生
させるように構成されている。さらに、ＩＰＡ貯留槽６
４の側壁には送風機６８が、ＩＰＡ貯留槽６４で生成さ
れたベーパ６７をベーパ浴槽６１に吹き出させるように
建て込まれている。

【００２０】チャンバ１１内の洗浄室１２と乾燥室１３
との間には隔壁１７が両室を仕切るように建て込まれて
おり、隔壁１７の下部には洗浄後のウエハ１群を乾燥室
１３へ水中搬送する水中搬送装置７０が設備されてい
る。水中搬送装置７０は水中搬送槽７１を備えており、
水中搬送槽７１は洗浄室１２の最終段から乾燥室１３の
最終端にわたって連続するように敷設されており、水中
搬送槽７１には純水７２が貯留されている。すなわち、
隔壁１７の下部は水中搬送槽７１の純水７２の中に没し
ており、水中においてトンネルを構成した状態になって
いる。図示しないが、水中搬送槽７１に貯留された純水
７２は循環されることにより常に清浄な状態を維持され
ている。

【００２１】水中搬送槽７１の底部にはコンベア７３が
隔壁１７のトンネルを潜るように敷設されており、コン
ベア７３はウエハ１群を保持した保持治具２を乗せて洗
浄室１２から乾燥室１３へ純水７２の中で搬送するよう
になっている。そして、コンベア７３の乾燥室１３側の
端部の真上にはベーパ乾燥装置６０が設備されており、
コンベア７３によって水中搬送されて来たウエハ１群は
保持治具２ごと乾燥用搬送装置１５によってベーパ乾燥
装置６０のベーパ浴槽６１のベーパ６７の雰囲気内に引
き上げられるようになっている。

【００２２】次に作用を説明する。保持治具２に保持さ
れた洗浄乾燥すべきウエハ１群（以下、保持治具２を含
めてウエハ１群という。）はローディング装置によって
洗浄用搬送装置１４に受け渡されて、洗浄用搬送装置１
４によってアルカリ系洗浄槽２０の真上に搬送される。
アルカリ系洗浄槽２０の真上に搬送されたウエハ１群は
洗浄用搬送装置１４によって下降されて、保持治具２ご
とアルカリ系洗浄液２４の中に浸漬される。浸漬された
ウエハ１群はアルカリ系洗浄液２４の洗浄作用によって
表面に付着したゴミを除去される。この際、アルカリ系
洗浄槽２０には清浄なアルカリ系洗浄液２４が常に循環
されているため、ウエハ１群にゴミが再付着することは
防止される。そして、予め設定された所定の洗浄時間が
経過すると、洗浄されたウエハ１群はアルカリ系洗浄槽
２０から洗浄用搬送装置１４によって洗浄室１２の上部
空間に引き上げられる。

【００２３】アルカリ系洗浄槽２０から引き上げられた
ウエハ１群は洗浄用搬送装置１４によって第１水洗槽３
０の真上に搬送された後に下降されて、保持治具２ごと
純水３４の中に浸漬される。アルカリ系洗浄槽２０から
の引き上げ時から第１水洗槽３０への浸漬時まで、ウエ
ハ１群はチャンバ１１の洗浄室１２内を空中搬送される
状態になるが、洗浄室１２内の相対湿度が１００％の多
湿雰囲気１６に維持されているため、ウエハ１の表面が
自然乾燥することは無い。したがって、ウエハ１の表面
に自然乾燥による染み等が発生する現象は防止されるこ
とになる。

【００２４】純水３４の中に浸漬されたウエハ１群はそ
の表面に付着したアルカリ系洗浄液やエッチング残渣等
の異物（以下、異物等という。）を洗い流される。洗い
流された異物等は上方に向かう水流に乗って、内槽３２
の純水３４中における上部に運ばれる。内槽３２の上部
においては純水３４のオーバフロー流が常時形成されて
いるため、水流に乗って上部に運ばれた異物等はこのオ
ーバフロー流に乗ってそのまま直ちに外槽３３に排出さ
れることになる。したがって、内槽３２の純水３４中に
は異物等が浮遊することは、殆どない状態になってい
る。このようにして洗浄されたウエハ１群は、洗浄用搬
送装置１４によって第１水洗槽３０の純水３４の中から
引き上げられる。この際、純水３４の水面に異物等が浮
遊していることがないため、引き上げ途中で、異物等が
ウエハ１の表面に再付着することはない。

【００２５】第１水洗槽３０から引き上げられたウエハ
１群は洗浄用搬送装置１４によって酸系洗浄槽４０の真
上に搬送された後に下降されて、保持治具２ごと酸系洗
浄液４４の中に浸漬される。第１水洗槽３０からの引き
上げ時から酸系洗浄槽４０への浸漬時まで、ウエハ１群
はチャンバ１１の洗浄室１２内を空中搬送される状態に
なるが、洗浄室１２内の相対湿度が１００％の多湿雰囲
気１６に維持されているため、ウエハ１の表面が自然乾
燥することは無い。したがって、ウエハ１の表面に自然
乾燥による染み等が発生する現象は防止されることにな
る。

【００２６】浸漬されたウエハ１群は酸系洗浄液４４の
洗浄作用によって表面に付着した金属やピット等を除去
される。この際、酸系洗浄槽４０には清浄な酸系洗浄液
４４が常に循環されているため、ウエハ１群にゴミや金
属の異物等が再付着することは防止される。そして、予
め設定された所定の洗浄時間が経過すると、洗浄された
ウエハ１群は酸系洗浄槽４０から洗浄用搬送装置１４に
よって洗浄室１２の上部空間に引き上げられる。

【００２７】酸系洗浄槽４０から引き上げられたウエハ
１群は洗浄用搬送装置１４によって第２水洗槽５０の真
上に搬送された後に下降されて、保持治具２ごと純水５
４の中に浸漬される。酸系洗浄槽４０からの引き上げ時
から第２水洗槽５０への浸漬時まで、ウエハ１群はチャ
ンバ１１の洗浄室１２内を空中搬送される状態になる
が、洗浄室１２内の相対湿度が１００％の多湿雰囲気１
６に維持されているため、ウエハ１の表面が自然乾燥す
ることは無い。したがって、ウエハ１の表面に自然乾燥
による染み等が発生する現象は防止されることになる。

【００２８】純水５４中に浸漬されたウエハ１群はその
表面に付着した酸系洗浄液やエッチング残渣等の異物
（以下、異物等という。）を洗い流される。この際、第
１水洗槽３０と同様に、オーバフロー流が常時形成され
ているため、水流に乗って上部に運ばれた異物等はこの
オーバフロー流に乗ってそのまま直ちに外槽５３に排出
されることになる。したがって、内槽５２の純水５４中
には異物等が浮遊することは、殆どない状態になってい
る。このようにして洗浄されたウエハ１群は洗浄用搬送
装置１４によって第１水洗槽５０の純水５４の中から引
き上げられる。この際、純水５４の水面に異物等が浮遊
していることがないため、引き上げ途中で、異物等がウ
エハ１の表面に再付着することはない。

【００２９】第２水洗槽５０から引き上げられたウエハ
１群は、洗浄用搬送装置１４によって水中搬送槽７１の
入口の真上に搬送された後に下降されて、保持治具２ご
と水中搬送槽７１の純水７２の中に浸漬される。第２水
洗槽５０からの引き上げ時から水中搬送槽７１への浸漬
時まで、ウエハ１群はチャンバ１１の洗浄室１２内を空
中搬送される状態になるが、洗浄室１２内の相対湿度が
１００％の多湿雰囲気１６に維持されているため、ウエ
ハ１の表面が自然乾燥することは無い。したがって、ウ
エハ１の表面に自然乾燥による染み等が発生する現象は
ここでも防止されることになる。

【００３０】水中搬送槽７１の純水７２の中に浸漬され
たウエハ１群は保持治具２がコンベア７３に載置された
状態で乾燥室１３側へ搬送される。この際、ウエハ１群
は純水７２の中を搬送されるため、ウエハ１の表面が乾
燥することは無い。したがって、ウエハ１の表面に自然
乾燥による染み等が発生する現象はここでも防止される
ことになる。

【００３１】乾燥室１３側へ搬送されたウエハ１群は乾
燥用搬送装置１５によって保持治具２を吊持されること
により、水中搬送槽７１からベーパ乾燥装置６０のベー
パ浴槽６１のベーパ６７の雰囲気中に直接引き上げられ
る。このようにしてウエハ１群は水中搬送槽７１の純水
７２の中からベーパ６７の雰囲気中に直接引き上げられ
ることより、ウエハ１の表面は湿潤した状態のままベー
パ６７の雰囲気に置かれるため、ウエハ１の表面に乾燥
による染み等が発生する現象はここでも防止されること
になる。

【００３２】ちなみに、ベーパ浴槽６１に供給されたベ
ーパ６７は上昇するが、冷却パイプ６３によってコール
ドトラップされるため、ベーパ浴槽６１の内部は完全に
ベーパ６７の雰囲気を維持された状態になっている。ベ
ーパ６７に晒されたウエハ１群はベーパ６７の雰囲気温
度よりは低い温度の状態になっているため、ウエハ１の
表面においてベーパ６７が結露してＩＰＡ６６となって
付着する。結露して付着したＩＰＡ６６はウエハ１の表
面を湿潤している水分６９と次第に置き換わって行き、
ウエハ１の表面温度がベーパ６７の温度と同等になった
時点で置換が終了する。

【００３３】一方、ＩＰＡ６６と置換した水分６９はウ
エハ１の表面に残留した異物等と共にその表面を流下し
て、ウエハ１群の真下に配置されたトレー（図示せず）
の上にそれぞれ滴下しトレーによって集水されて、排液
管（図示せず）を通じて外部に排出される。このように
して、水分６９が水中搬送槽７１の底部に貯留されてい
る純水７２の中に混入するのを防止することにより、混
入した水分６９が再蒸発して水蒸気になるのを回避する
ことができるため、水分６９のウエハ１への再付着を防
止することができる。

【００３４】置換が終了した時点において、ウエハ１群
は乾燥用搬送装置１５によってベーパ浴槽６１から乾燥
室１３内へ引き上げられる。ウエハ１群がベーパ浴槽６
１から引き上げられると、ウエハ１群はベーパ６７の雰
囲気温度によって加熱されて昇温しているため、これら
の表面に滴になって付着しているＩＰＡ６６は温度を奪
いながら気化することになる。ＩＰＡ６６が気化しきる
と、ウエハ１群は乾燥された状態になる。ちなみに、気
化したＩＰＡはベンチレータ（図示せず）によって吸引
されて他所へ拡散するのを防止される。

【００３５】以上の作動が各洗浄槽、水中搬送槽および
ベーパ乾燥装置において繰り返えされることにより、チ
ャンバ１１に供給されたウエハ１群は順次洗浄および乾
燥されて行く。そして、各段の洗浄作業および乾燥作業
は同時に進行されて並行処理される。

【００３６】前記実施形態によれば次の効果が得られ
る。 チャンバの洗浄室に供給されたウエハを多湿雰囲気
に維持された中で空中搬送することにより、ウエハが搬
送中に洗浄室内で自然乾燥するのを防止することができ
るため、所謂染みの発生を防止することができる。

【００３７】 染みの発生を防止することにより、洗
浄精度を高めることができるため、露光工程等の後の工
程における不良の発生率を低下させることができ、半導
体装置の歩留りを高めて生産性を高めることができる。

【００３８】 水洗後のウエハを乾燥室に水中搬送し
てベーパ浴槽に直接引き上げることにより、水洗後のウ
エハがベーパ浴槽に搬送される間に自然乾燥するのを防
止することができるため、染みの発生を防止することが
できる。

【００３９】 染みの発生を防止することにより、乾
燥精度を高めることができるため、露光工程等の後の工
程における不良の発生率を低下させることができ、半導
体装置の歩留りを高めて生産性を高めることができる。

【００４０】以上本発明者によってなされた発明を実施
形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施形
態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範
囲で種々変更可能であることはいうまでもない。

【００４１】例えば、洗浄室の洗浄槽はアルカリ系洗浄
槽、第１水洗槽、酸系洗浄槽および第２水洗槽の順番に
設置するに限らないし、いずれかを省略してもよいし、
いずれかを多段に構成してもよい。また、各洗浄槽の具
体的構造は洗浄条件等に対応して適宜に構成することが
望ましい。

【００４２】乾燥装置としてはベーパ乾燥装置を使用す
るに限らず、温水引き上げ乾燥装置や、公転式または自
転式バッチ乾燥装置等の他の乾燥装置を使用してもよ
い。

【００４３】さらには、洗浄装置は乾燥装置から切り離
してもよい。

【００４４】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるウエハ
の洗浄乾燥技術に適用した場合について説明したが、そ
れに限定されるものではなく、ホトマスクや光学レン
ズ、液晶ディスプレイ等についての洗浄乾燥技術全般に
適用することができる。特に、本発明は、自然乾燥を嫌
う被洗浄物を洗浄乾燥するのに使用して優れた効果が得
られる。

【００４５】

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。

【００４６】チャンバに供給された被洗浄物を多湿雰囲
気に維持された中で空中搬送することにより、被洗浄物
が搬送中にチャンバ内で自然乾燥するのを防止すること
ができるため、所謂染みの発生を防止することができ
る。

【００４７】水洗後の被洗浄物を乾燥装置に水中搬送す
ることにより、水洗後の被洗浄物が乾燥装置に搬送され
る間に自然乾燥するのを防止することができるため、染
みの発生を防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は本発明の一実施形態である洗浄乾燥装置
を示す正面断面図である。

【符号の説明】

１…ウエハ（被洗浄物）、２…保持治具、１０…洗浄乾
燥装置（洗浄装置）、１１…チャンバ、１２…洗浄室、
１３…乾燥室、１４…洗浄用搬送装置、１５…乾燥用搬
送装置、１６…多湿雰囲気、１７…隔壁、２０…アルカ
リ系洗浄槽、２１…処理槽、２２…内槽、２３…外槽、
２４…アルカリ系洗浄液、２５…ポンプ、２６…フイル
タ、３０…第１水洗槽、３１…処理槽、３２…内槽、３
３…外槽、３４…純水、３５…ポンプ、３６…フイル
タ、４０…酸系洗浄槽、４１…処理槽、４２…内槽、４
３…外槽、４４…酸系洗浄液、４５…ポンプ、４６…フ
イルタ、５０…第２水洗槽、５１…処理槽、５２…内
槽、５３…外槽、５４…純水、５５…ポンプ、５６…フ
イルタ、６０…ベーパ乾燥装置、６１…ベーパ浴槽、６
２…出入口、６３…冷却パイプ、６４…ＩＰＡ貯留槽、
６５…加熱装置、６６…イソプロピルアルコール（有機
溶剤）、６７…ベーパ、６８…送風機、６９…水分、７
０…水中搬送装置、７１…水中搬送槽、７２…純水、７
３…コンベア。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 チャンバ内に複数の洗浄槽が並べて設け
   られ、被洗浄物が搬送装置によって搬送されて各洗浄槽
   に順次浸漬されて行く洗浄装置において、 前記チャンバ内が高湿度に維持されていることを特徴と
   する洗浄装置。
2. 【請求項２】 前記チャンバの最終洗浄槽の後段に水中
   搬送槽が敷設されており、この水中搬送槽の出口側に水
   中搬送槽から引き上げられた被洗浄物を乾燥する乾燥装
   置が配設されていることを特徴とする請求項１に記載の
   洗浄装置。
3. 【請求項３】 前記乾燥装置がベーパ乾燥装置によって
   構成されていることを特徴とする請求項２に記載の洗浄
   装置。