JPH0513038A - 回転デイスク - Google Patents
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- JPH0513038A JPH0513038A JP3161504A JP16150491A JPH0513038A JP H0513038 A JPH0513038 A JP H0513038A JP 3161504 A JP3161504 A JP 3161504A JP 16150491 A JP16150491 A JP 16150491A JP H0513038 A JPH0513038 A JP H0513038A
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- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 38
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 18
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 abstract description 22
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 67
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 16
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
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- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 載置面7とクランプ機構とを有した回転ディ
スク1である。そして、載置面7は、回転ディスクの内
周側から外周側にかけてビーム入射方向に傾斜されてい
る。また、クランプ機構は、回転ディスク1の外周側に
位置されたストッパ11・11と、回転ディスク1の内
周側に位置され、外周方向の付勢力が付与された移動自
在なクランパ13と、回転ディスク1の回転時の遠心力
により、上記外周方向の付勢力よりも大きな内周方向の
付勢力を上記クランパ13に付与するカウンターウエイ
ト21等の内周方向付勢手段とを有しているもの。 【効果】 イオンビームを照射する回転ディスク1の回
転時の遠心力により、クランパ13を離した状態でイオ
ン照射対象物2を固定させることができるため、クラン
パ13によるイオンビームの未照射部分の発生を防止で
きる。
スク1である。そして、載置面7は、回転ディスクの内
周側から外周側にかけてビーム入射方向に傾斜されてい
る。また、クランプ機構は、回転ディスク1の外周側に
位置されたストッパ11・11と、回転ディスク1の内
周側に位置され、外周方向の付勢力が付与された移動自
在なクランパ13と、回転ディスク1の回転時の遠心力
により、上記外周方向の付勢力よりも大きな内周方向の
付勢力を上記クランパ13に付与するカウンターウエイ
ト21等の内周方向付勢手段とを有しているもの。 【効果】 イオンビームを照射する回転ディスク1の回
転時の遠心力により、クランパ13を離した状態でイオ
ン照射対象物2を固定させることができるため、クラン
パ13によるイオンビームの未照射部分の発生を防止で
きる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ウエハー等のイオン照
射対象物を固定するクランプ機構を有した回転ディスク
に関するものである。
射対象物を固定するクランプ機構を有した回転ディスク
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、大電流型のイオン注入装置に
は、イオンビームを電気的に走査した際のビーム中の電
子の消失によるイオンビームの拡散を防止するため、イ
オンビームを走査することなくイオン照射対象物を機械
的に移動させることで、イオン照射対象物の全面にイオ
ンビームを照射させるメカニカル走査方式が採用されて
いる。
は、イオンビームを電気的に走査した際のビーム中の電
子の消失によるイオンビームの拡散を防止するため、イ
オンビームを走査することなくイオン照射対象物を機械
的に移動させることで、イオン照射対象物の全面にイオ
ンビームを照射させるメカニカル走査方式が採用されて
いる。
【0003】通常、上記のメカニカル走査方式には、回
転と共に往復並進移動してイオン照射対象物を移動させ
る回転ディスクが不純物イオンの注入均一性の良さから
多用されており、従来の回転ディスクには、図5および
図6に示すように、装着時および回転時にイオン照射対
象物を固定するクランプ機構が設けられている。
転と共に往復並進移動してイオン照射対象物を移動させ
る回転ディスクが不純物イオンの注入均一性の良さから
多用されており、従来の回転ディスクには、図5および
図6に示すように、装着時および回転時にイオン照射対
象物を固定するクランプ機構が設けられている。
【0004】上記のクランプ機構は、回転ディスク51
に固設された回動支持部材52と、回転ディスク51方
向に付勢されながら一端部が回動支持部材52に軸支さ
れたアーム53と、アーム53の他端部に設けられ、イ
オン照射対象物55の周縁部の側面およびビーム照射面
側となる上面に当接する環状のクランパ54とを有して
いる。そして、このクランプ機構は、図6に示すよう
に、イオン照射対象物55を回転ディスク51に載置し
て位置決めした後、クランパ54を図示2点鎖線で示す
位置から回転ディスク51方向に回動させ、イオン照射
対象物55の周縁部の側面および上面に当接させ、イオ
ン照射対象物55を回転ディスク51に押し付けるよう
になっている。
に固設された回動支持部材52と、回転ディスク51方
向に付勢されながら一端部が回動支持部材52に軸支さ
れたアーム53と、アーム53の他端部に設けられ、イ
オン照射対象物55の周縁部の側面およびビーム照射面
側となる上面に当接する環状のクランパ54とを有して
いる。そして、このクランプ機構は、図6に示すよう
に、イオン照射対象物55を回転ディスク51に載置し
て位置決めした後、クランパ54を図示2点鎖線で示す
位置から回転ディスク51方向に回動させ、イオン照射
対象物55の周縁部の側面および上面に当接させ、イオ
ン照射対象物55を回転ディスク51に押し付けるよう
になっている。
【0005】これにより、イオン照射対象物55は、周
縁部の側面および上面に当接されたクランパ54により
固定されるため、回転ディスク51が高速回転した場合
でも位置ずれを生じることがなく、イオンビームが均一
に照射されるようになっている。
縁部の側面および上面に当接されたクランパ54により
固定されるため、回転ディスク51が高速回転した場合
でも位置ずれを生じることがなく、イオンビームが均一
に照射されるようになっている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の回転ディスク51では、クランプ機構のクランパ5
4がイオン照射対象物55を固定する際に、イオン照射
対象物55のビーム照射面側となる上面を覆うため、こ
のクランパ54で覆われた周縁部にイオンビームが照射
されず未照射部分を生じることになる。さらに、イオン
ビームのイオン照射対象物55への注入角度によって
は、イオン照射対象物55よりもイオンビーム方向に突
出したクランパ54の厚みがイオンビームの障害となっ
てイオン照射対象物55にイオンビームの影を生じさせ
ることになり、未照射部分を拡大させることになる。
来の回転ディスク51では、クランプ機構のクランパ5
4がイオン照射対象物55を固定する際に、イオン照射
対象物55のビーム照射面側となる上面を覆うため、こ
のクランパ54で覆われた周縁部にイオンビームが照射
されず未照射部分を生じることになる。さらに、イオン
ビームのイオン照射対象物55への注入角度によって
は、イオン照射対象物55よりもイオンビーム方向に突
出したクランパ54の厚みがイオンビームの障害となっ
てイオン照射対象物55にイオンビームの影を生じさせ
ることになり、未照射部分を拡大させることになる。
【0007】このように、従来の回転ディスク51で
は、イオン照射対象物55の全面にイオンビームを照射
させることが歩留りの向上に寄与するにも拘わらず、イ
オン照射対象物55の周縁部にイオンビームの未照射部
分を生じるさせることになっている。従って、本発明に
おいては、未照射部分を低減することができるクランプ
機構を有した回転ディスクを提供することを目的として
いる。
は、イオン照射対象物55の全面にイオンビームを照射
させることが歩留りの向上に寄与するにも拘わらず、イ
オン照射対象物55の周縁部にイオンビームの未照射部
分を生じるさせることになっている。従って、本発明に
おいては、未照射部分を低減することができるクランプ
機構を有した回転ディスクを提供することを目的として
いる。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の回転ディスク
は、上記課題を解決するために、イオン照射対象物の載
置される載置面と、この載置面に載置されたイオン照射
対象物を固定するクランプ機構とを有している。そし
て、上記の載置面は、回転ディスクの内周側から外周側
にかけてビーム入射方向に傾斜されている。また、上記
のクランプ機構は、回転ディスクの外周側に位置された
ストッパと、回転ディスクの内周側に位置され、外周方
向の付勢力が付与された移動自在なクランパと、回転デ
ィスクの回転時の遠心力により、上記外周方向の付勢力
よりも大きな内周方向の付勢力を上記クランパに付与す
るスライド伝達部材やアーム、ローラ、カウンターウエ
イト等の内周方向付勢手段とを有していることを特徴と
している。
は、上記課題を解決するために、イオン照射対象物の載
置される載置面と、この載置面に載置されたイオン照射
対象物を固定するクランプ機構とを有している。そし
て、上記の載置面は、回転ディスクの内周側から外周側
にかけてビーム入射方向に傾斜されている。また、上記
のクランプ機構は、回転ディスクの外周側に位置された
ストッパと、回転ディスクの内周側に位置され、外周方
向の付勢力が付与された移動自在なクランパと、回転デ
ィスクの回転時の遠心力により、上記外周方向の付勢力
よりも大きな内周方向の付勢力を上記クランパに付与す
るスライド伝達部材やアーム、ローラ、カウンターウエ
イト等の内周方向付勢手段とを有していることを特徴と
している。
【0009】
【作用】上記の構成によれば、内周方向付勢手段は、回
転ディスクの回転時の遠心力により、クランパに付与さ
れた外周方向の付勢力よりも大きな内周方向の付勢力を
クランパに付与するため、クランパをイオン照射対象物
から離れた位置に移動させることになる。この際、回転
ディスクの回転によるイオン照射対象物の遠心力は、傾
斜された載置面とストッパとに付与されることになるた
め、イオン照射対象物は、遠心力によるストッパへの当
接で固定された状態を維持することになる。
転ディスクの回転時の遠心力により、クランパに付与さ
れた外周方向の付勢力よりも大きな内周方向の付勢力を
クランパに付与するため、クランパをイオン照射対象物
から離れた位置に移動させることになる。この際、回転
ディスクの回転によるイオン照射対象物の遠心力は、傾
斜された載置面とストッパとに付与されることになるた
め、イオン照射対象物は、遠心力によるストッパへの当
接で固定された状態を維持することになる。
【0010】従って、この回転ディスクは、イオンビー
ムを照射する回転ディスクの回転時に、クランパを離し
た状態でイオン照射対象物を固定させることができるた
め、不純物イオンの注入時の歩留りに影響するクランパ
によるイオンビームの未照射部分の発生を防止すること
が可能になっている。
ムを照射する回転ディスクの回転時に、クランパを離し
た状態でイオン照射対象物を固定させることができるた
め、不純物イオンの注入時の歩留りに影響するクランパ
によるイオンビームの未照射部分の発生を防止すること
が可能になっている。
【0011】
【実施例】本発明の一実施例を図1ないし図4に基づい
て説明すれば、以下の通りである。
て説明すれば、以下の通りである。
【0012】本実施例に係る回転ディスクは、例えば図
4に示すように、一対のビーム照射前のイオン照射対象
物2を収容するカセット5・5とビーム照射後のイオン
照射対象物2を収容するストッカ6・6とイオン照射対
象物2を搬送する搬送アーム4・4とを備えたイオン注
入装置のエンドステーション3に設けられている。
4に示すように、一対のビーム照射前のイオン照射対象
物2を収容するカセット5・5とビーム照射後のイオン
照射対象物2を収容するストッカ6・6とイオン照射対
象物2を搬送する搬送アーム4・4とを備えたイオン注
入装置のエンドステーション3に設けられている。
【0013】上記の回転ディスク1は、平板状の内側円
板部1aと、この内側円板部1aの外周方向に位置する
外側環状部1bとからなっており、外側環状部1bは、
図2に示すように、内側円板部1aからイオンビーム8
のビーム入射方向に所定角度θに傾斜されている。ま
た、上記の外側環状部1bのビーム照射面となる上面に
は、図6に示すように、イオン照射対象物2を載置する
載置面7…が等間隔で複数形成されており、これらの載
置面7…には、上述の搬送アーム4・4でカセット5・
5からのビーム照射前のイオン照射対象物2が搬送され
るようになっている。
板部1aと、この内側円板部1aの外周方向に位置する
外側環状部1bとからなっており、外側環状部1bは、
図2に示すように、内側円板部1aからイオンビーム8
のビーム入射方向に所定角度θに傾斜されている。ま
た、上記の外側環状部1bのビーム照射面となる上面に
は、図6に示すように、イオン照射対象物2を載置する
載置面7…が等間隔で複数形成されており、これらの載
置面7…には、上述の搬送アーム4・4でカセット5・
5からのビーム照射前のイオン照射対象物2が搬送され
るようになっている。
【0014】上記の各載置面7…には、図1に示すよう
に、載置されたイオン照射対象物2を固定するクランプ
機構が配設されている。このクランプ機構は、図2にも
示すように、外側環状部1bの外周側に位置された一対
のストッパ11・11を有している。これらのストッパ
11・11は、イオン照射対象物2に当接する内側面1
1a・11aがイオン照射対象物2の外周形状に一致す
るように形成されている。そして、これらのストッパ1
1・11は、イオン照射対象物2の側面を内側面11a
・11aに面状に当接させることで、イオン照射対象物
2をビーム照射位置に位置決めさせるようになってい
る。
に、載置されたイオン照射対象物2を固定するクランプ
機構が配設されている。このクランプ機構は、図2にも
示すように、外側環状部1bの外周側に位置された一対
のストッパ11・11を有している。これらのストッパ
11・11は、イオン照射対象物2に当接する内側面1
1a・11aがイオン照射対象物2の外周形状に一致す
るように形成されている。そして、これらのストッパ1
1・11は、イオン照射対象物2の側面を内側面11a
・11aに面状に当接させることで、イオン照射対象物
2をビーム照射位置に位置決めさせるようになってい
る。
【0015】また、外側環状部1bの内周側には、外周
方向であるA方向および内周方向であるB方向に移動自
在なクランパ13が設けられている。このクランパ13
は、上記のストッパ11・11と同様に、内側面12a
がイオン照射対象物2の外周形状に一致するように形成
されたストッパ部12と、縦断面がコ字形状に形成され
た移動支持部14とからなっている。
方向であるA方向および内周方向であるB方向に移動自
在なクランパ13が設けられている。このクランパ13
は、上記のストッパ11・11と同様に、内側面12a
がイオン照射対象物2の外周形状に一致するように形成
されたストッパ部12と、縦断面がコ字形状に形成され
た移動支持部14とからなっている。
【0016】上記の移動支持部14は、上部がストッパ
部12に固設されている一方、下部が回転ディスク1に
形成された開口部1cから移動手段収容部1dに位置さ
れており、移動支持部14の下面には、スプリング15
の一端が接続されている。そして、このスプリング15
は、他端が移動手段収容部1dの壁面に接続されてお
り、移動支持部14をA方向に付勢するようになってい
る。
部12に固設されている一方、下部が回転ディスク1に
形成された開口部1cから移動手段収容部1dに位置さ
れており、移動支持部14の下面には、スプリング15
の一端が接続されている。そして、このスプリング15
は、他端が移動手段収容部1dの壁面に接続されてお
り、移動支持部14をA方向に付勢するようになってい
る。
【0017】また、移動支持部14の下面には、内周方
向付勢手段の構成部材であるスライド伝達部材16の一
端部が固設されている。このスライド伝達部材16の他
端部には、A方向およびB方向に移動自在なスライドユ
ニット17が固設されており、スライドユニット17
は、スライド伝達部材16の移動方向をA方向およびB
方向に規正するようになっている。また、スライド伝達
部材16の側面には、スライド部材22が設けられてお
り、このスライド部材22は、図示しない移動手段によ
りB方向に移動されるようになっている。
向付勢手段の構成部材であるスライド伝達部材16の一
端部が固設されている。このスライド伝達部材16の他
端部には、A方向およびB方向に移動自在なスライドユ
ニット17が固設されており、スライドユニット17
は、スライド伝達部材16の移動方向をA方向およびB
方向に規正するようになっている。また、スライド伝達
部材16の側面には、スライド部材22が設けられてお
り、このスライド部材22は、図示しない移動手段によ
りB方向に移動されるようになっている。
【0018】さらに、スライド伝達部材16の中心部下
面には、ローラ18が回転自在に設けられている。この
ローラ18は、アーム19の一端部で挟持されており、
アーム19の中心部は、移動手段収容部1dの壁面に支
点ピン20により回動自在に軸支されている。また、ア
ーム19の他端部には、カウンターウエイト21が設け
られており、このカウンターウエイト21は、回転ディ
スク1の回転時の遠心力でA方向に移動してローラ18
を介してアーム19をB方向に移動させるようになって
いる。
面には、ローラ18が回転自在に設けられている。この
ローラ18は、アーム19の一端部で挟持されており、
アーム19の中心部は、移動手段収容部1dの壁面に支
点ピン20により回動自在に軸支されている。また、ア
ーム19の他端部には、カウンターウエイト21が設け
られており、このカウンターウエイト21は、回転ディ
スク1の回転時の遠心力でA方向に移動してローラ18
を介してアーム19をB方向に移動させるようになって
いる。
【0019】上記の構成において、回転ディスク1の動
作について説明する。
作について説明する。
【0020】先ず、図4に示すように、ビーム照射前の
イオン照射対象物2がカセット5・5から搬送アーム4
・4により取り出され、回転ディスク1の所定位置の載
置面7に搬送されることになる。この際、イオン照射対
象物2が搬送された載置面7では、図3に示すように、
スライド部材22が図示しない移動手段によりB方向に
移動されており、スライド伝達部材16を介してクラン
パ13もB方向に移動されている。従って、搬送された
イオン照射対象物2は、クランパ13のストッパ部12
とストッパ11・11との間の載置面7に載置されるこ
とになる。
イオン照射対象物2がカセット5・5から搬送アーム4
・4により取り出され、回転ディスク1の所定位置の載
置面7に搬送されることになる。この際、イオン照射対
象物2が搬送された載置面7では、図3に示すように、
スライド部材22が図示しない移動手段によりB方向に
移動されており、スライド伝達部材16を介してクラン
パ13もB方向に移動されている。従って、搬送された
イオン照射対象物2は、クランパ13のストッパ部12
とストッパ11・11との間の載置面7に載置されるこ
とになる。
【0021】イオン照射対象物2の載置が完了すると、
スライド部材22の移動手段によるB方向への移動が解
除されることになり、スライド伝達部材16には、スプ
リング15の付勢力のみが付与されることになる。そし
て、このスプリング15の付勢力は、スライド伝達部材
16をA方向に移動させることで、このスライド伝達部
材16に接続されたクランパ13もA方向に移動させる
ことになる。
スライド部材22の移動手段によるB方向への移動が解
除されることになり、スライド伝達部材16には、スプ
リング15の付勢力のみが付与されることになる。そし
て、このスプリング15の付勢力は、スライド伝達部材
16をA方向に移動させることで、このスライド伝達部
材16に接続されたクランパ13もA方向に移動させる
ことになる。
【0022】上記のクランパ13は、A方向の移動によ
り、図1に示すように、ストッパ部12に当接したイオ
ン照射対象物2をストッパ11・11方向に移動させ、
イオン照射対象物2の側面をストッパ11・11の内側
面11a・11aに当接させることになる。これによ
り、イオン照射対象物2は、クランパ13のA方向の移
動によるストッパ11・11への当接でビーム照射位置
に位置決めされることになると共に、クランパ13のス
トッパ部12とストッパ11・11との挟持によりビー
ム照射位置で固定されることになる。尚、上記のストッ
パ部12とストッパ11・11とは、イオン照射対象物
2の側面に面状に当接するため、イオン照射対象物2が
オリフラを有していた場合でも、オリフラによる位置決
め精度の低下を生じることがない。
り、図1に示すように、ストッパ部12に当接したイオ
ン照射対象物2をストッパ11・11方向に移動させ、
イオン照射対象物2の側面をストッパ11・11の内側
面11a・11aに当接させることになる。これによ
り、イオン照射対象物2は、クランパ13のA方向の移
動によるストッパ11・11への当接でビーム照射位置
に位置決めされることになると共に、クランパ13のス
トッパ部12とストッパ11・11との挟持によりビー
ム照射位置で固定されることになる。尚、上記のストッ
パ部12とストッパ11・11とは、イオン照射対象物
2の側面に面状に当接するため、イオン照射対象物2が
オリフラを有していた場合でも、オリフラによる位置決
め精度の低下を生じることがない。
【0023】上記のクランパ13のA方向への移動によ
るイオン照射対象物2の固定が完了すると、図4に示す
ように、回転ディスク1が回動され、次の載置面7がイ
オン照射対象物2の搬送される所定位置に移動された
後、上述のイオン照射対象物2の位置決めと固定とが行
われることになる。
るイオン照射対象物2の固定が完了すると、図4に示す
ように、回転ディスク1が回動され、次の載置面7がイ
オン照射対象物2の搬送される所定位置に移動された
後、上述のイオン照射対象物2の位置決めと固定とが行
われることになる。
【0024】次に、全ての載置面7…でイオン照射対象
物2の固定が完了すると、回転ディスク1が図示2点鎖
線で示すように立ち上げられ、回転と共に往復並進移動
されることになる。この際、図1に示すように、クラン
プ機構のカウンターウエイト21は、回転ディスク1の
回転により、アーム19の他端部にA方向の遠心力を付
与することになり、この遠心力は、アーム19の中心部
が支点ピン20で軸支されているため、アーム19の一
端部に挟持されたローラ18を介してスライド伝達部材
16をB方向に付勢することになる。
物2の固定が完了すると、回転ディスク1が図示2点鎖
線で示すように立ち上げられ、回転と共に往復並進移動
されることになる。この際、図1に示すように、クラン
プ機構のカウンターウエイト21は、回転ディスク1の
回転により、アーム19の他端部にA方向の遠心力を付
与することになり、この遠心力は、アーム19の中心部
が支点ピン20で軸支されているため、アーム19の一
端部に挟持されたローラ18を介してスライド伝達部材
16をB方向に付勢することになる。
【0025】そして、回転ディスク1が所定の回転速度
に到達して、カウンターウエイト21によるB方向の付
勢力がスプリング15のA方向の付勢力を上回ったとき
に、スライド伝達部材16がB方向に移動することにな
り、このスライド伝達部材16がクランパ13をB方向
に移動させることで、図3に示すように、クランパ13
とストッパ11・11とによるイオン照射対象物2の挟
持が解除されることになる。
に到達して、カウンターウエイト21によるB方向の付
勢力がスプリング15のA方向の付勢力を上回ったとき
に、スライド伝達部材16がB方向に移動することにな
り、このスライド伝達部材16がクランパ13をB方向
に移動させることで、図3に示すように、クランパ13
とストッパ11・11とによるイオン照射対象物2の挟
持が解除されることになる。
【0026】この際、回転ディスク1の回転は、図2に
示すように、外側環状部1bのイオン照射対象物2にも
遠心力を生じさせており、イオン照射対象物2の遠心力
は、外側環状部1bが内側円板部1aに対して所定角度
θに傾斜されているため、外側環状部1bに対してsi
nθの成分とcosθの成分とに分解された状態で付与
されたものになっている。
示すように、外側環状部1bのイオン照射対象物2にも
遠心力を生じさせており、イオン照射対象物2の遠心力
は、外側環状部1bが内側円板部1aに対して所定角度
θに傾斜されているため、外側環状部1bに対してsi
nθの成分とcosθの成分とに分解された状態で付与
されたものになっている。
【0027】上記のcosθの成分の遠心力は、イオン
照射対象物2の側面に当接したストッパ11・11に付
与されることになり、イオン照射対象物2は、クランパ
13が解除された場合でも、イオン照射対象物2とスト
ッパ11・11との当接状態を維持することになる。ま
た、sinθの成分の遠心力は、イオン照射対象物2の
下面に当接した外側環状部1bの載置面7に付与される
ため、イオン照射対象物2は、載置面7に押圧された状
態となり、回転ディスク1からの脱落が防止されること
になると共に、載置面7への密着性の向上により冷却効
果が増大することになる。
照射対象物2の側面に当接したストッパ11・11に付
与されることになり、イオン照射対象物2は、クランパ
13が解除された場合でも、イオン照射対象物2とスト
ッパ11・11との当接状態を維持することになる。ま
た、sinθの成分の遠心力は、イオン照射対象物2の
下面に当接した外側環状部1bの載置面7に付与される
ため、イオン照射対象物2は、載置面7に押圧された状
態となり、回転ディスク1からの脱落が防止されること
になると共に、載置面7への密着性の向上により冷却効
果が増大することになる。
【0028】次いで、イオンビーム8がイオン照射対象
物2に照射されることになる。この際、クランパ13が
イオン照射対象物2から離れた位置に移動しているた
め、クランパ13によるイオンビーム8の未照射部分が
生じることがない。この後、イオンビーム8の照射が完
了すると、回転ディスク1の回転速度が減速されること
になり、この減速は、カウンターウエイト21の遠心力
を減少させ、カウンターウエイト21によるスライド伝
達部材16のB方向への付勢力を減少させることにな
る。
物2に照射されることになる。この際、クランパ13が
イオン照射対象物2から離れた位置に移動しているた
め、クランパ13によるイオンビーム8の未照射部分が
生じることがない。この後、イオンビーム8の照射が完
了すると、回転ディスク1の回転速度が減速されること
になり、この減速は、カウンターウエイト21の遠心力
を減少させ、カウンターウエイト21によるスライド伝
達部材16のB方向への付勢力を減少させることにな
る。
【0029】そして、このB方向の付勢力がスプリング
15によるA方向の付勢力よりも低下したときに、スラ
イド伝達部材16がA方向に移動し、図1に示すよう
に、このスライド伝達部材16と共に移動するクランパ
13がイオン照射対象物2をA方向に付勢してストッパ
11・11とで挟持することになる。これにより、イオ
ン照射対象物2は、回転ディスク1の回転速度の減速に
より遠心力が低下した場合でも、クランパ13とストッ
パ11・11とで挟持されているため、回転ディスク1
から脱落することがない。
15によるA方向の付勢力よりも低下したときに、スラ
イド伝達部材16がA方向に移動し、図1に示すよう
に、このスライド伝達部材16と共に移動するクランパ
13がイオン照射対象物2をA方向に付勢してストッパ
11・11とで挟持することになる。これにより、イオ
ン照射対象物2は、回転ディスク1の回転速度の減速に
より遠心力が低下した場合でも、クランパ13とストッ
パ11・11とで挟持されているため、回転ディスク1
から脱落することがない。
【0030】このように、本実施例の回転ディスク1
は、回転ディスク1の回転による遠心力を利用し、イオ
ン照射対象物2をストッパ11・11および載置面7に
当接させて固定すると共に、クランパ13をイオン照射
対象物2から離れた位置に移動させるようになってい
る。従って、この回転ディスク1は、クランパ13によ
るイオンビーム8の未照射部分が生じないため、不純物
イオンの注入時の歩留りを向上させることが可能になっ
ている。
は、回転ディスク1の回転による遠心力を利用し、イオ
ン照射対象物2をストッパ11・11および載置面7に
当接させて固定すると共に、クランパ13をイオン照射
対象物2から離れた位置に移動させるようになってい
る。従って、この回転ディスク1は、クランパ13によ
るイオンビーム8の未照射部分が生じないため、不純物
イオンの注入時の歩留りを向上させることが可能になっ
ている。
【0031】尚、本実施例においては、内側円板部1a
から外側環状部1bをビーム入射方向に傾斜させること
で載置面7を回転ディスク1の内周側から外周側にかけ
てビーム入射方向に傾斜させるようになっているが、こ
れに限定されることはなく、例えば載置面7のみを傾斜
させる構造にされていても良い。
から外側環状部1bをビーム入射方向に傾斜させること
で載置面7を回転ディスク1の内周側から外周側にかけ
てビーム入射方向に傾斜させるようになっているが、こ
れに限定されることはなく、例えば載置面7のみを傾斜
させる構造にされていても良い。
【0032】
【発明の効果】本発明の回転ディスクは、以上のよう
に、イオン照射対象物の載置される載置面と、この載置
面に載置されたイオン照射対象物を固定するクランプ機
構とを有している。そして、上記載置面は、回転ディス
クの内周側から外周側にかけてビーム入射方向に傾斜さ
れており、上記クランプ機構は、回転ディスクの外周側
に位置されたストッパと、回転ディスクの内周側に位置
され、外周方向の付勢力が付与された移動自在なクラン
パと、回転ディスクの回転時の遠心力により、上記外周
方向の付勢力よりも大きな内周方向の付勢力を上記クラ
ンパに付与する内周方向付勢手段とを有している構成で
ある。
に、イオン照射対象物の載置される載置面と、この載置
面に載置されたイオン照射対象物を固定するクランプ機
構とを有している。そして、上記載置面は、回転ディス
クの内周側から外周側にかけてビーム入射方向に傾斜さ
れており、上記クランプ機構は、回転ディスクの外周側
に位置されたストッパと、回転ディスクの内周側に位置
され、外周方向の付勢力が付与された移動自在なクラン
パと、回転ディスクの回転時の遠心力により、上記外周
方向の付勢力よりも大きな内周方向の付勢力を上記クラ
ンパに付与する内周方向付勢手段とを有している構成で
ある。
【0033】これにより、イオンビームを照射する回転
ディスクの回転時の遠心力により、クランパを離した状
態でイオン照射対象物を固定させることができるため、
不純物イオンの注入時の歩留りに影響するクランパによ
るイオンビームの未照射部分の発生を防止することが可
能であるという効果を奏する。
ディスクの回転時の遠心力により、クランパを離した状
態でイオン照射対象物を固定させることができるため、
不純物イオンの注入時の歩留りに影響するクランパによ
るイオンビームの未照射部分の発生を防止することが可
能であるという効果を奏する。
【図1】本発明の回転ディスクの要部を示す平面図であ
る。
る。
【図2】図1における回転ディスクのX−X線矢視断面
図である。
図である。
【図3】回転ディスクの要部を示す平面図である。
【図4】エンドステーションに設けられた回転ディスク
の状態を示す説明図である。
の状態を示す説明図である。
【図5】従来例を示すものであり、回転ディスクの要部
を示す平面図である。
を示す平面図である。
【図6】従来例を示すものであり、図5における回転デ
ィスクのY−Y線矢視断面図である。
ィスクのY−Y線矢視断面図である。
1 回転ディスク 1a 内側円板部 1b 外側環状部 1c 開口部 1d 移動手段収容部 2 イオン照射対象物 3 エンドステーション 4 搬送アーム 5 カセット 6 ストッカ 7 載置面 8 イオンビーム 11 ストッパ 11a 内側面 12 ストッパ部 12a 内側面 13 クランパ 14 移動支持部 15 スプリング 16 スライド伝達部材(内周方向付勢手段) 17 スライドユニット(内周方向付勢手段) 18 ローラ(内周方向付勢手段) 19 アーム(内周方向付勢手段) 20 支点ピン(内周方向付勢手段) 21 カウンターウエイト(内周方向付勢手段) 22 スライド部材(内周方向付勢手段)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】イオン照射対象物の載置される載置面と、
この載置面に載置されたイオン照射対象物を固定するク
ランプ機構とを有した回転ディスクにおいて、 上記載置面は、回転ディスクの内周側から外周側にかけ
てビーム入射方向に傾斜されており、上記クランプ機構
は、回転ディスクの外周側に位置されたストッパと、回
転ディスクの内周側に位置され、外周方向の付勢力が付
与された移動自在なクランパと、回転ディスクの回転時
の遠心力により、上記外周方向の付勢力よりも大きな内
周方向の付勢力を上記クランパに付与する内周方向付勢
手段とを有していることを特徴とする回転ディスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03161504A JP3087133B2 (ja) | 1991-07-02 | 1991-07-02 | 回転ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03161504A JP3087133B2 (ja) | 1991-07-02 | 1991-07-02 | 回転ディスク |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0513038A true JPH0513038A (ja) | 1993-01-22 |
JP3087133B2 JP3087133B2 (ja) | 2000-09-11 |
Family
ID=15736322
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP03161504A Expired - Fee Related JP3087133B2 (ja) | 1991-07-02 | 1991-07-02 | 回転ディスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3087133B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6614190B2 (en) | 2001-01-31 | 2003-09-02 | Hitachi, Ltd. | Ion implanter |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0658574A (ja) * | 1992-08-07 | 1994-03-01 | Toyoda Gosei Co Ltd | 室外用空調機のハウジング |
JP6077416B2 (ja) * | 2013-07-31 | 2017-02-08 | 株式会社アスカネット | 写真台紙 |
-
1991
- 1991-07-02 JP JP03161504A patent/JP3087133B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6614190B2 (en) | 2001-01-31 | 2003-09-02 | Hitachi, Ltd. | Ion implanter |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3087133B2 (ja) | 2000-09-11 |
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Date | Code | Title | Description |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |