JPH0512898B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、感光材料面に光ビームを投射して相
対的に移動させて線順次に走査露光し、画像デー
タ信号に基づいて光ビームを変調制御することに
より、所定の画像パターンを露光記録する描画露
光装置に関し、特に、それぞれ走査方向に直交し
て直線線状に列設した複数本の光ビームからなる
複数の光ビーム群を、走査方向に沿つて所要間隔
で配置するようにした描画露光装置に関する。

〔従来の技術〕

描画露光装置としては、フオトプロツタあるい
はパターンジエネレータ等と称する装置が知られ
ている。

これらの従来装置の中、線順次走査による描画
露光装置としては、複数本の光ビームを走査方向
に直角に列設して、１走査周期における露光幅を
大きくして、描画時間の短縮を図つたものがあ
る。

また、特公昭62−59506号公報（発明の名称
「記録装置」）には、複数本の光ビームを走査方向
に対して斜めに配置することにより、各光ビーム
に対応する光点列の列設ピツチをせばめて、実質
的な走査線間隔を密にして、記録画像の品質を向
上させる手段が記載されている。

〔発明が解決しようとする課題〕 複数本の光ビームを走査方向に直角に列設して
走査露光をする手段は、記録される画像の輪郭線
に光ビームの列設ピツチに対する凹凸のギザギザ
が生じて、画像品質が悪化する問題がある。

前記特公昭62−59506号公報記載の光ビームを
走査方向に対して斜めに配置する手段は、上述の
画像品質低下の問題をある程度改善できるが、斜
めに配置するために、１走査行程における露光幅
が直角に配置した場合よりも小さくなり、描画時
間が長くなる。このため、前記特公昭62−59506
号公報記載の装置では、適宜の間隔で配置した複
数個の半導体レーザ発生器から射出される複数本
の光ビームを、それぞれ導光フアイバに導入し、
それらの導光フアイバの光射出端を、斜めに配置
するようにし、導光フアイバの本数を多くして多
数本の光ビームを並列させることができるように
して、所要の広い露光幅を確保するようにしてい
る。

しかし、フアイバグラス等の導光フアイバは、
光導入部における光の結合効率が低いために、光
量が低下して高速度の走査ができず、やはり描画
時間が長くなる問題が残つている。

そこで、１本の光ビームを分岐して、小ピツチ
で列設する１群の光ビームを作り、多チヤンネル
型のAOM（音響光学変調器）を使用して各光ビ
ームを変調する手段が考えられているが、AOM
等の変調手段は、変調可能な寸法（チヤンネル
数）がハード的に限定されており、光ビームの本
数をある程度以上には増加させることができな
い。したがつて、光ビームを走査方向に対して斜
めに配置する手法では、１走査行程における露光
幅が小さくて、描画時間長くなる問題を避けるこ
とが難しい。

また、光ビームを走査方向に対して斜めに配置
する手段は、どのような構成を採用するとして
も、走査露光に際して、光ビームを変調制御する
タイミングを、各光ビームごとに微妙に調整しな
ければならないという不便さがある。

本発明は、１走査行程における露光幅の減少
や、導光フアイバの使用による光量損失等により
描画時間が長くなる不都合がなく、また、光ビー
ムを変調制御するタイミングを各光ビームごとに
微妙に調整する必要がなく、伴せて、記録される
画像の輪郭線部に光ビームの列設ピツチに対応す
る凹凸のギザギザが生じて、画像品質が悪化する
問題を解決した描画露光装置の露光ヘツドに関す
る。

〔問題を解決するための手段〕

本発明は、それぞれ複数本の光ビームを走査方
向に直角に列設した複数の光ビーム群を、走査方
向に沿つて所要間隔で配置し、各光ビーム群ごと
に、光ビームの相対的位相を順次ずらせて、各光
ビーム群の各光点で露光記録される領域を、順次
オーバーラツプさせて、列設ピツチを実質的に密
とすることにより、上述問題点を解決するもので
ある。

すなわち、複数本の光ビームを射出する光源
と、該複数本の光ビームをさらにそれぞれ直線状
に列設した複数本の光ビームよりなる複数の光ビ
ーム群に分岐し、各光ビーム群の相対的位置を走
査方向に直角な方向に、光ビーム群ごとに順次
Ｐ／Ｎ（ただし、Ｐ：光ビームの列設ピツチ、
Ｎ：光ビーム群の数）ずつ、位相をずらせて配置
する光ビーム分岐手段と、複数の光ビーム群の各
光ビームを、所要の画像信号に基づいて、個別に
変調する光ビーム変調手段と、変調された複数の
光ビーム群が対抗する方向から入射し、直交する
２つの面で同一方向を向く平行な光ビーム群とし
て反射させ、かつ、それらの光ビーム群の反射方
向に移動することにより平行光ビーム群の間隔を
調節する三角柱断面のミラーと、該三角柱ミラー
で反射した平行光ビーム群の光ビーム列設幅及び
光ビーム群の間隔を縮小して、走査方向に移動す
る感光材料面に投射結像する縮小光学系とを、描
画露光装置の露光ヘツドに内臓させたものであ
る。

〔作 用〕

感光材料を載置装着したテーブルの移動にとも
ない、テーブル移動方向に交差して列設した複数
の光ビーム群を、所要の描画をＸ−Ｙラスターパ
ターンに変換した制御データにより変調制御し
て、感光材料に複製画像を記録し、かつ、複数の
光ビーム群における各光ビームの相対的位相を順
次ずらせることにより、各群の光ビームを交互に
配列して、光ビーム群の各光点による露光領域を
順次オーバーラツプさせて、光ビームの配列ピツ
チを実質的に密として、高品質の画像を記録す
る。

〔実施例〕

第１図は、本発明の１実施例である描画露光装
置の構成を示す斜視図である。

フレーム１上に水平に載置したベース板２の上
面に、ガイドレール３を固設し、テーブル４をエ
アベアリングを介してガイドレール３に摺動可能
に支承する。以下、このテーブル４の移動方向を
Ｙ軸方向とし、これに直角な方向をＸ軸方向とす
る。

テーブル４の上面には、図示しない真空ポンプ
に連結した多数の真空吸気穴５が設けてあり、テ
ーブル４に載置した感光材料６を吸着して保持す
る。感光材料６としては、寸法安定性の高いガラ
ス乾板を適用する。

ベース板２の上面のガイドレール３の両側に、
リニアモータ用の一次コイル７，７を設置し、テ
ーブル４の下面の対応位置に導体を装着して、リ
ニアモータを構成させ、テーブル４をＹ軸方向に
駆動する。

また、一次コイル７，７の外方両側に、それぞ
れリニアスケール８，９をＹ軸方向に設置し、テ
ーブル４の前後両面に装着した光電センサー１０
係合させてリニアエンコーダを構成し、テーブル
４の駆動により、それぞれ移動距離に対応するパ
ルス信号を出力する。

後側のリニアスケール８によりエンコーダは、
リニアモータの駆動を制御するための、粗いピツ
チのパルスを発生し、また、前側のリニアスケー
ル９によるエンコーダは、後述する画像信号を制
御するための、細かいピツチのパルスを発生す
る。

一方、ベース板２の上面左方に、前後一対の支
台１１，１２を固設し、これに左右一対のガイド
レール１３，１４及び駆動用のネジ軸１５をＸ軸
方向に架設する。ネジ軸１５は、前後一対の軸受
１６により支承され、サーボモータ１７により回
転駆動される。

ガイドレール１３，１４の上面に、エアベアリ
ングを介して摺動ベース１８を支承し、その下面
に設置した図示しないナツトをネジ軸１５に係合
させて、Ｘ軸方向に駆動する。摺動ベース１８に
は、光源部１９及び光学系部２０等で構成された
露光ヘツドを搭載してある。

また、ガイドレール１３に沿つてリニアスケー
ル２１をＸ軸方向に設置し、摺動ベース１８に装
着した光電センサ（図示省略）とによりリニアエ
ンコーダを構成させ、摺動ベース１８の駆動によ
り、移動距離に対応するパルス信号を出力させ
る。

次に第２図は、光源及び光学系の構成の１列を
示す斜視図がある。光ビームの進行方向や装置各
部の移動方向を説明する便宜のために、図の下部
にＸ−Ｙ−Ｚ座標軸を正負の符号を付して示して
ある。

レーザ光源２２から−Ｙ方向に射出した光ビー
ムは、２個のミラー２３及び２４で＋Ｙ方向に反
射し、ビームスプリツタ２５により２つの光路に
分岐し、その一方は、直接、ビームエキスパンダ
２７Ａに、他方は、ミラー２６で反射してビーム
エキスパンダ２７Ｂに入射する。

２個のビームエキスパンダ２７Ａ及び２７Ｂ
は、それぞれ入射した光ビームをＸ軸方向に拡張
して、平らな光ビームを形成し、次段の多チヤン
ネル型音響光学光変調器（以下、AOMという）
２８Ａ及び２８Ｂに入射させる。

AOM２８Ａ及び２８Ｂは、入射した平らな光
ビームを多数本のビームに分割し、制御信号によ
りそれらの光ビームを個別にON−OFFするもの
で、この実施例では、20チヤンネル型のAOMを
適用して、それぞれ20本の変調された平行光ビー
ムを射出するようにしている。

AOM２８Ａ及び２８Ｂか射出した各20本の平
行光ビーム群は、光ビーム数に対応する数のアパ
ーチヤを列設したアパーチヤ板２９Ａ及び２９Ｂ
を通つて、所要の断面形状（たとえば、円形ある
いは平行四辺形など）に成型された後、それぞれ
ミラー３０Ａ及び３０Ｂで反射して、三角柱ミラ
ー３１に投射される。

三角柱ミラー３１は、直角プリズムの直角を挟
む二面に表面反射処理を施してあり、上下から投
射された各20本の平行光ビーム群を、所望の間隔
を持たせて＋Ｙ方向に反射する。

各平行光ビーム群は、ミラー３２で−Ｚ方向に
反射し、レンズ３３，３４及びズームレンズ３５
で構成する縮小光学系により、走査露光のための
微小光点群３６を感光材料６に投射結像し、テー
ブル４の移動により、感光材料６をＹ−Ｙ方向に
走査露光する。

なお、第２図に示す３７〜４０は、上述の露光
部とガラス乾板面との距離を一定に保持するため
の自動焦点装置で、光源３７からレンズ３８を介
して斜め方向から乾板面に、感光させない程度の
小光量の光ビームを投射し、その反射光をレンズ
３８を介して受光素子４０に入射させ、その入射
位置の変位に基づいて、照射距離の変動量を検出
して、それを補正するように露光部と乾板面との
距離を制御するものである。この自動焦点装置
は、本発明の理解には直接の関係がないので、詳
細な説明を省略する。

次に第３図は、上述光学系の中の三角柱ミラー
３１回りの構成を示す斜視図である。

AOM２８Ａ及び２８Ｂから射出された各20本
の平行光ビーム群４１Ａ及び４１Ｂは、前述のよ
うに三角柱ミラー３１の斜面で、＋Ｙ方向に反射
する。このとき、三角柱ミラー３１の位置をＹ軸
方向に移動させると、反射後の２組の平行光ビー
ム群のＺ軸方向の位置が上下対称に昇降して、両
群の間隔が増減する。すなわち、三角柱ミラー３
１をＹ軸方向に移動可能に設置することにより、
縮小光学系のレンズ３３に入射する２組の平行光
ビーム群の間隔Ｌを、任意の量に設定することが
できる。

第３図は、三角柱ミラー３１の移動装置の１例
を示すもので、三角柱ミラー３１を保持するホル
ダー４２を摺動台４３に立設し、摺動台４３は蟻
溝によりベース４４にＹ軸方向に摺動可能に係合
し、一対のスプリング４５により−Ｙ方向に付勢
してある。

摺動台４３の逆側の端面は、ベース４４に立設
したナツト４６に螺入したネジ軸４７の先端に当
接し、付設のつまみ４８によりネジ軸４７を回転
して進退させることにより、摺動台４３及びそれ
に保持した三角柱ミラー３１が、Ｙ軸方向に移動
する。

第４図は、２組のAOM２８Ａ及び２８Ｂにお
ける平行光ビーム群の形成状態を説明する模式図
である。２つの細長い小判型５０Ａ，５０Ｂは、
ビームエキスパンダ２７Ａ，２７Ｂで横幅を拡張
した光ビームを、また、その内側の多数の四角形
５１−１〜５１−４０は、多チヤンネルAOM２
８Ａ，２８Ｂで形成されるＡ，Ｂ各20本の光ビー
ムを示し、各光ビーム群の光ビームは、ピツチチ
Ｐで配列され、かつ、第１光ビーム群５１−１〜
５１−２０と、第２光ビーム群５１−２１〜５１
−４０とは、Ｘ軸方向にピツチＰの1/2、すなわ
ちＰ／２だけ位相をずらせて配置してある。

２組の光ビーム群の位相を、Ｐ／２ずらせるに
は、２組のAOM２８Ａ，２８Ｂ相対位関係を、
対応するアパーチヤ板２９Ａ，２９Ｂとともに、
Ｘ軸方向に相対的に必要量移動させるように調整
すればよい。

第５図は、上記２組の光ビーム群を、前述した
縮小光学系を介して乾板６に投射した光点群を示
す模式図である。

第１光ビーム群５１−１〜５１−２０により投
射された第１光点群５２Ａは、光点５２−１〜５
２−２…で構成され、第２光ビーム群５１−２１
〜５１−４０により投射される第２光点群５２Ｂ
は、光点５２−２１〜５２−２２…で構成され
る。２組の光点群５２Ａ，５２Ｂは、入射側の光
ビーム群の位置関係に対応して、Ｘ軸方向に光点
のピツチｐの1/2ずつ位相をずらせて配列される。

縮小光学系における縮小率をｍとすると、各光
点群５２Ａ，５２Ｂにおける光点の配列ピツチｐ
と、光ビーム群における光ビームの配列ピツチＰ
との関係は、Ｐ＝ｍ×ｐであり、また、２組の光
点群５２Ａ，５２Ｂの間隔ｌと、縮小光学系に入
射する２組の光ビーム群の間隔Ｌとの関係は、Ｌ
＝ｍ×ｌである。この光点群の間隔ｌが、後述す
る走査露光記録に際して、単位画素寸法の整数倍
になるように、三角形ミラー３１の位置を調整し
て、２組の光ビーム群の間隔Ｌを設定する。

第６図は、第５図示のように、位相を1/2ピツ
チずらせて配置した２組の光点群により走査露光
をした場合に、記録される画像の状態を示す模式
図で、Ａは光点群の列に平行な画像輪郭線を記録
した状態を、Ｂは傾斜した画像輪郭線を記録した
状態を示し、第１組の光点群により記録されるパ
ターンを実線で、第２組の光点群により記録され
るパターンを点線で示したものである。また、第
７図は、これと対比するために、１列のみの光点
群により記録される画像の状態を示したものであ
る。

すなわち、１列のみの光点群で記録した場合
は、画像輪郭線に光点のピツチに相当する凹凸の
ギザギザが生じ、特に第７図Ｂのように輪郭線が
走査方向に傾斜している場合に、凹凸が顕著にな
り、記録される画像の品質が低下する。一方、互
いに1/2ピツチ位相をずらせて配置した２組の光
点群により記録した場合には、第６図示のように
この欠点が改善され、記録画像の品質を改善する
ことができる。

第８図は、上述機能を遂行するための制御手段
を示すブロツク図である。

デイスク６１及び磁気テープMT６２に記録し
た画像パターンデータを、ホストコンピユータ６
３を介して読みだし、ラスタイメージ・プロセツ
サRIP６５に送つて、Ｘ−Ｙラスターパターンデ
ータに変換する。CRTモニタ６４には、確認等
の必要に応じて、所望領域の画像パターンデータ
により、対象領域の画像を表示する。

ラスターパターンに変換された画像データは、
インターフエースＩ／Ｆ６６を介して、AOMド
ライバ６７に送られ、露光ヘツド１９，２０に内
臓したAOM２８Ａ，２８Ｂを制御して、各光ビ
ームの変調制御を行なう。

またＩ／Ｆ６６は、シーケンスコントローラ６
８及びサーボコントローラ６９に対する制御信号
を出力する。

一方、テーブル４のＹ軸方向の移動にともなつ
て、リニアエンコーダ９から出力する細ピツチの
パルス信号を、必要に応じて適宜分周して、画像
データのラスターピツチに対応する周波数のクロ
ツクパルス信号とし、テーブル４の位置に対応す
る画素のデータを読みだして、AOM２８Ａ，２
８Ｂを制御する。

また、同時にリニアエンコーダ８から出力する
粗ピツチのパルス信号は、サーボコントローラ６
９に入力して、テーブル４をＹ軸方向に駆動する
リニアモータ７を制御する。

このように、ピツチが異なる２種のパルス信号
を使用する理由は、もし、画像データ制御用の高
周波数のパルス信号を、リニアモータの駆動制御
にも適用したとすると、駆動速度が低くなつて描
画時間が著しく長くなり、逆に、適当な速度でテ
ーブルを駆動するようにしたリニアモータ用の制
御パルスで画像データを制御すると、画素寸法が
過大となつて、高精度の複製画像が得られないた
めである。

かくして、テーブル４をＹ軸方向に駆動しなが
ら、ラスターパターンの画像データに基づいて、
AOM２８Ａ，２８Ｂを通過する各光ビームを、
個別にON−OFFさせるように変調制御して、感
光材料５を走査露光し、複製画像を記録する。２
組のAOMで、それぞれ20本の光ビーム変調制御
すれば、テーブル４の１行程（１走査周期）によ
り、走査線40本分の画像が露光記録される。

このとき、露光用の光スポツト群は、Ｙ軸方向
に間隔を設けて、２列に配置してあるため、先行
側と後続側との光スポツト群による露光時期がず
れることになる。このずれを補正するために、２
組のAOM２８Ａ，２８Ｂのうち、後続側の光ス
ポツト群に対応するものを制御する画像データ信
号を、先行側の画像データ信号より所要時間遅ら
せて入力させるようにしてある。この延量の制御
は、感光材料面に投射される光スポツト群の間隔
を、単位画素寸法の整数倍に設定してあるため、
画像データのラスターピツチに相当するクロツク
パルスを所要個数計数して、その分だけ遅延させ
ればよい。

テーブル４の１行程分の露光記録が完了すれ
ば、シーケンスコントローラ６８の指令により、
Ｘ軸モータ１７を起動して、露光ヘツド２０′を
Ｘ軸方向に、露光用光スポツト群の列設幅に相当
する距離を移動させる。露光ヘツド２０′の移動
量は、Ｘ軸側のリニアエンコーダ２１により検出
される。

次いで、再びＹ軸方向のリニアモータ７を起動
して、テーブル４を駆動し、感光材料５の隣接領
域について露光走査を行ない、順次これを反復し
て、所望の画像パターン全体を記録する。

次に第９図は、第２図に１例を示した光学系の
他の実施例を示す斜視図である。第２図示実施例
では、光源２２からの光ビームを２つの光路に分
岐して、それぞれビームエキスパンダ２７Ａと２
７Ｂとにより、平らな光ビームに拡張している
が、第９図示実施例は、光源２２からの光ビーム
を１個のビームエキスパンダ７１により拡張した
後、幅広のビームスプリツタ７２により、２本の
平らな光ビームに分岐し、その一方は直接AOM
２８Ａに、他方は幅広のミラー７３で反射して、
AOM２８Ｂに入射するようにしたもので、その
他の各部材は、第２図示のものと全く同様であ
る。

以上、詳述したように、本発明の描画露光装置
は、光スポツト列により走査露光をする描画露光
装置において、複数群の光スポツト列を走査方向
に前後させ、かつ、各群の光スポツトの相対的位
相を順次ずらせて配置することにより、実質的に
走査線ピツチを密にして、高速度かつ高密度の複
製画像を記録することができる。

また、複数群の光スポツト列の間隔を、記録画
像における単位画素寸法の整数倍に設定したた
め、後続側の光ビーム群に対する遅延制御がきわ
めて容易である。前述した特公昭62−59506号公
報記載の手段は、個々の光ビームごとにタイミン
グ調整手段を設ける必要があつたが、本発明装置
は、後続側の光ビーム群を一括して遅延させれば
よく、かつ、前後の光スポツト列の間隔を単位画
素寸法の整数倍に設定してあるため、遅延量の制
御をはるかに容量に、かつ、簡易な手段により実
施をすることができる。

なお、上述説明は、図示実施例に基づいて記載
したが、本発明は、上述内容に限定されるもので
はない。たとえば上記実施例は、２組のAOMに
より２群の光ビームを変調制御し、それらの光ビ
ーム群を光学系により所望の位置関係を配列する
場合について示したが、光ビームの群数（感光材
料面に投射される光スポツト列の数）は、２群の
みに限定されるものではなく、必要に応じて３群
以上の光ビームを適用することが可能である。そ
の場合は、AOM等を所要数増設するとともに、
第３図示の光ビーム合成光学系を、所要段数増設
して、順次合成するようにすればよい。

また、感光材料としては、上述述のガラス乾板
に限らず、写真フイルムを適用してもよいこと
は、云うまでもない。

〔発明の効果〕

(1) それぞれ複数本の光ビームを列設した複数の
光ビーム群を、所要量、位相をずらせて配置し
て露光走査をするため、高速度、かつ、高い走
査線密度で描画露光をすることができる。

(2) 先行側と後続側との光スポツト列との、走査
時期のずれの補正は、後続側を一括的に遅延さ
せればよく、かつ、光スポツト列の間隔を単位
画素寸法の整数倍としてあるため、遅延量の制
御がきわめて容易である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の１実施例装置の構成を示す斜
視図、第２図は同装置の光学系の１例を示す斜視
図、第３図は光ビーム群の合成手段を示す斜視
図、第４図は２群の光ビームの位置関係を模式的
に示した図、第５図は走査露光用の光スポツト列
を示す概略図、第６図は本発明により記録される
画像の状態を説明する模式図、第７図は１列のみ
の光スポツト列で記録される画像の状態を示す模
式図、第８図は制御装置を示すブロツク図、第９
図は光学系の他の１例を示す斜視図である。 １……フレーム、２……ベース板、３……ガイ
ドレール、４……テーブル、６……感光材料、７
……リニアモータ、８，９……リニアスケール
（リニアエンコーダ）、１０……光電センサ、１
１，１２……支台、１３，１４……ガイドレー
ル、１５……ネジ軸、１７……サーボモータ、１
８……摺動ベース、１９……光源部、２０……光
学系部、２０′……露光ヘツド、２１……リニア
スケール、２２……レーザ光源、２３，２４……
ミラー、２５……ビームスプリツタ、２６……ミ
ラー、２７……ビームエキスパンダ、２８……
AOM、２９……アパーチヤ板、３０……ミラ
ー、３１……三角柱ミラー、３２……ミラー、３
３，３４……レンズ、３５……ズームレンズ、４
２……ホルダー、４３……摺動台、４４……ベー
ス、４７……ネジ軸、４８……つまみ、７１……
ビームエキスパンダ、７２……ビームスプリツ
タ、７３……ミラー。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 感光材料を装着して往復移動するテーブル
   と、該テーブルの移動方向に交差する方向に所要
   ピツチで間欠的に移動して、前記感光材料を走査
   露光する露光ヘツドとを備えた描画露光装置にお
   いて、前記露光ヘツドに、 １個の光源から射出される光ビームを分岐する
   か、もしくは複数個の光源を併設することによ
   り、複数本の光ビームを射出する光源と、 前記複数本の各光ビームの横幅を拡張して、そ
   れぞれ平らな光ビームを形成する対応個数のビー
   ムエキスパンダと、 前記平らな光ビームを、さらにそれぞれ直線状
   に列設した複数本の光ビームに分岐して複数の光
   ビーム群とし、該複数の光ビーム群の各光ビーム
   を所要の画像信号に基づいて個別に変調し、か
   つ、各光ビーム群に列設された各光ビームの相対
   的位置が、前記テーブルの移動方向に直角な方向
   に、光ビーム群ごとに順次、Ｐ／Ｎ（ただし、
   Ｐ：光ビームの列設ピツチ、Ｎ：光ビーム群の
   数）ずつ、位相をずらせる相対位置関係に配置し
   た光ビーム変調手段と、 前記変調された複数の光ビーム群が、対向する
   方向から入射し、直交する２つの面で同一方向を
   向く平向な光ビーム群として反射させ、かつ、該
   光ビーム群の反射方向に移動することにより、平
   行光ビーム群の間隔を調節する三角柱断面のミラ
   ーと、 前記三角柱断面のミラーで反射した平行光ビー
   ム群の光ビーム列設幅及び光ビーム群の間隔を縮
   小して、前記テーブルに装着した感光材料面に投
   射結像する縮小光学系とを、内臓した描画露光装
   置の露光ヘツド。 ２ 感光材料を装着して往復移動するテーブル
   と、該テーブルの移動方向に交差する方向に所要
   ピツチで間欠的に移動して、前記感光材料を走査
   露光する露光ヘツドとを備えた描画露光装置にお
   いて、前記露光ヘツドに、 光ビームを射出する光源と、 前記光ビームの横幅を拡張して、平らな光ビー
   ムを形成するビームエキスパンダと、 前記平らな光ビームを複数の平らな光ビームに
   分岐するビームスプリツタと、 前記複数の平らな光ビームを、さらにそれぞれ
   直線状に列設した複数本の光ビームに分岐して複
   数の光ビーム群とし、該複数の光ビーム群の各光
   ビームを、所要の画像信号に基づいて個別に変調
   し、かつ、各光ビーム群に列設された各光ビーム
   の相対的位置が、前記テーブルの移動方向に直角
   な方向に、光ビーム群ごとに順次、Ｐ／Ｎ（ただ
   し、Ｐ：光ビームの列設ピツチ、Ｎ：光ビーム群
   の数）ずつ、位相をずらせる相対位置関係に配置
   した光ビーム変調手段と、 前記変調された複数の光ビーム群が、対向する
   方向から入射し、直交する２つの面で同一方向を
   向く平向な光ビーム群として反射させ、かつ、該
   光ビーム群の反射方向に移動することにより、平
   行光ビーム群の間隔を調節する三角柱断面のミラ
   ーと、 前記三角柱断面のミラーで反射した平行光ビー
   ム群の光ビーム列設幅及び光ビーム群の間隔を縮
   小して、前記テーブルに装着した感光材料面に投
   射結像する縮小光学系とを、内臓した描画露光装
   置の露光ヘツド。