JPH01301255A

JPH01301255A - 描画露光装置の露光ヘッド

Info

Publication number: JPH01301255A
Application number: JP63130070A
Authority: JP
Inventors: Hidekazu Tamaoki; 玉置　英一; Yasuyuki Wada; 康之和田
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1988-05-30
Filing date: 1988-05-30
Publication date: 1989-12-05
Also published as: JPH0512898B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、感光材料面に光ビームを投射して相対的に移
動させて線順次に走査露光し１画像データ信号に基づい
て光ビームを変調制御することにより、所要の画像パタ
ーンを露光記録する描画露光装置に関し、特に、それぞ
れ走査方向に直交して直線状に列設した複数本の光ビー
ムからなる複数の光ビーム群を、走査方向に沿って所要
間隔で配置するようにした描画露光装置に関する。

〔従来の技術〕

描画露光装置としては、フォトプロッタあるいはパター
ンジェネレータ等と称する装置が知られている。

これらの従来装置の中、線順次走査による描画露光装置
としては、複数本の光ビームを走査方向に直角に列設し
７て、１走査周期における露光幅を大きくして、描画時
間の短縮を図ったものがある。

また、特公昭６２−５９５０６号公報（発明の名称「記
録装置」）には、複数本の光ビームを走査方向に対して
斜めに配置することにより、各光ビームに対応する光点
列の列設ピッチをせばめて、実質的な走査線間隔を密に
して、記録画像の品質を向上させる手段が記載されてい
る。

〔発明が解決しようとする課題〕

複数本の光ビームを走査方向に直角に列設して走査露光
をする手段は、記録される画像の輪郭線に光ビームの列
設ピッチに対応する凹凸のギザギザが生じて、画像品質
が悪化する問題がある。

前記特公昭６２−５９５０６号公報記載の光ビームを走
査方向に対して斜めに配置する手段は、上述の画像品質
低下の問題をある程度改善できるが、斜めに配置するた
めに、１走査行程における露光幅が直角に配置した場合
よりも小さくなり、描画時間が長くなる。このため、前
記特公昭６２−５９５０６号公報記載の装置では、適宜
の間隔で配置した複数個の半導体レーザ発生器から射出
される複数本の光ビームを、それぞれ導光ファイバに導
入し、それらの導光ファイバの光射出端を、斜めに配置
するようにし、導光ファイバの本数を多くして多数本の
光ビームを並列させることができるようにして。

所要の広い露光幅を確保するようにしている。

しかし、ファイバグラス等の導光ファイバは、光導入部
における光の結合効率が低いために、光量が低下して高
速度の走査ができず、やはり描画時間が長くなる問題が
残っている。

そこで、１本の光ビームを分岐して、小ピツチで列設す
る１群の光ビームを作り、多チヤンネル型のＡＯＭ（音
響光学光変調器）を使用して各光ビームを変調する手段
が考えられているが、ＡＯＭ等の変調手段は、変調可能
な寸法（チャンネル数）がハード的に限定されており、
光ビームの本数をある程度以上には増加させることがで
きない。したがって、光ビームを走査方向に対して斜め
に配置する手法では、ｌ走査行程における露光幅が小さ
くて、描画時間長くなる問題を避けることが難しい。

また、光ビームを走査方向に対して斜めに配置する手段
は、どのような構成を採用するとしても。

走査露光に際して、光ビームを変調制御するタイミング
を、各光ビームごとに微妙に調整しなければならないと
いう不便さがある。

本発明は、１走査行程における露光幅の減少や。

導光ファイバの使用による光量損失等により描画時間が
長くなる不都合がなく、また、光ビームを変調制御する
タイミングを各光ビームごとに微妙に調整する必要がな
く、併せて、記録される画像の輪郭線部に光ビームの列
設ピッチに対応する凹凸のギザギザが生じて、画像品質
が悪化する問題を解決した描画露光装置の露光ヘッドに
関する。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、それぞれ複数本の光ビームを走査方向に直角
に列設した複数の光ビーム群を、走査方向に沿って所要
間隔で配置し、各光ビーム群ごとに、光ビームの相対的
位相を順次ずらせて、各光ビーム群の各光点で露光記録
される領域を、順次オーバーラツプさせて、列設ピッチ
を実質的に密とすることにより、上述問題点を解決する
ものである。

すなわち、複数本の光ビームを射出する光源と、該複数
本の光ビームをさらにそれぞれ直線状に列設した複数本
の光ビームよりなる複数の光ビーム群に分岐し、各光ビ
ーム群の相対的位置を走査方向に直角な方向に、光ビー
ム群ごとにＩＩ次Ｐ／Ｎ（ただし、Ｐ：光ビームの列設
ピッチ、Ｎ：光ビーム群の数）ずつ、位相をずらせて配
置する光ビーム分岐手段と、複数の光ビーム群の各光ビ
ームを、所要の画像信号に基づいて、個別に変調する光
ビーム変調手段と、変調された複数の光ビーム群が対抗
する方向から入射し、直交する２つの面で同一方向を向
く平行な光ビーム群として反射させ、かつ、それらの光
ビーム群の反射方向に移動することにより平行光ビーム
群の間隔を調節する三角柱断面のミラーと、該三角柱ミ
ラーで反射した平行光ビーム群の光ビーム列設幅及び光
ビーム群の間隔を縮小して、走査方向に移動する感光材
料面に投射結像する縮小光学系とを、描画露光装置の露
光ヘッドに内Ｌ＋ａさせたものである。

〔作　用〕

感光材料を載置装着したテーブルの移動にともない、テ
ーブル移動方向に交差して列設した複数の光ビーム群を
、所要の画像をＸ−Ｙラスターパターンに変換した制御
データにより変調制御して、感光材料に複製画像を記録
し、かつ、複数の光ビーム群における各光ビームの相対
的位相を順次ずらせることにより、各群の光ビームを交
互に配列して、光ビーム群の各光点による露光領域を順
次オーバーラツプさせて、光ビームの配列ピッチを実質
的に密として、高品質の画像を記録する。

〔実施例〕

第１図は、本発明の１実施例である描画露光装置の構成
を示す斜視図である。

フレーム（１）上に水平に載置したベース板（２）の上
面に、ガイドレール（３）を固設し、テーブル（４）を
エアベアリングを介してガイドレール（３）に摺動可能
に支承する。以下、このテーブル（４）の移動方向をＹ
軸方向とし、これに直角な方向をＸ軸方向とする。

テーブル（４）の上面には、図示しない真空ポンプに連
結した多数の真空吸気穴（５）が設けてあり。

テーブル（４）に載置した感光材料（６）を吸着して保
持する。感光材料（６）としては、寸法安定性の高いガ
ラス乾板を適用する。

ベース板（２）の上面のガイドレール（３）の両側に、
リニアモータ用の一次コイル（７）（７）をＭ２Ｒし、
テーブル（４）の下面の対応位置に導体を装着して、リ
ニアモータを構成させ、テーブル（４）をＹ軸方向に駆
動する。

また、−次コイル（７）（７）の外方両側に、それぞれ
リニアスケール（８）（９）をＹ軸方向に設置し、テー
ブル（４）の前後両面に装着した光電センサー（１０）
を係合させてリニアエンコーダを構成し、テ−プル（４
）の駆動により、それぞれ移動距離に対応するパルス信
号を出力する。

後側のリニアスケール（８）によるエンコーダは、リニ
アモータの駆動を制御するための、粗いピッチのパルス
を発生し、また、前側のリニアスケール（９）によるエ
ンコーダは、後述する画像信号を制御するための、細か
いピッチのパルスを発生する。

一方、ベース板（２）の上面左方に、前後一対の支台（
１１）（１２）を固設し、これに左右一対のガイドレー
ル（１３）　（１４）及び駆動用のネジ軸（１５）をＸ
軸方向に架設する。ネジ軸（１５）は、前後一対の軸受
（１６）により支承され、サーボモータ（１７）により
回転駆動される。

ガイドレール（］３）（］、４）の上面に、エアベアリ
ングを介して摺動ベース（１８）を支承し、その下面に
設置した図示しないナツトをネジ軸（１５）に係合させ
て、Ｘ軸方向に駆動する。摺動ベース（１８）には、光
源部（１９）及び光学系部（２０）等で構成された露光
ヘッドを搭載しである。

また、ガイドレール（１３）に沿ってリニアスケール（
２１）をＸ軸方向に設置し、摺動ベース（１８）に装着
した光電センサ（図示省略）とによりリニアエンコーダ
を構成させ、摺動ベース（１８）の駆動により、移動距
離に対応するパルス信号を出方させる。

次に第２図は、光源及び光学系の構成の１例を示す斜視
図である。光ビームの進行方向や装置各部の移動方向を
説明する便宜のために、図の下部にＸ−Ｙ−Ｚ座標軸を
正負の符号を付して示しである。

レーザ光源（２２）から−Ｙ方向に射出した光ビームは
、２個のミラー（２３）及び（２４）で＋Ｙ力方向反射
し、ビームスプリッタ（２５）により２つの光路に分岐
し、その一方は、直接、ビームエキスパンダ（２７Ａ）
に、他方は、ミラー（２６）で反射してビームエキスパ
ンダ（２７Ｂ）に入射する。

２個のビームエキスパンダ（２７Ａ）及び（２７Ｂ）は
、それぞれ入射した光ビームをＸ軸方向に拡張して、平
らな光ビームを形成し、次段の多チヤンネル型音響光学
光変調器（以下、ＡＯＭという）（２８Ａ）及び（２８
Ｂ）に入射させる。

Ａ　ＯＭ　（２８Ａ）及び（２８Ｂ）は、入射した平ら
な光ビームを多数本のビームに分割し、制御信号により
それらの光ビームを個別に０Ｎ−ＯＦＦするもので、こ
の実施例では、２０チヤンネル型のＡ　ＯＭを適用し７
て、それぞれ２０本の変調された平行光ビームを射出す
るようにしている。

Ａ　ＯＭ　（２８Ａ）及び（２８Ｂ）カら射出した各２
０本の平行光ビーム群は、光ビーム数に対応する数のア
パーチャを列設したアパーチャ板（２９Ａ）及び（２９
Ｂ）を通って、所要の断面形状（たとえば、円形あるい
は平行四辺形など）に成型された後、それぞれミラー（
３ＯＡ）及び（３０Ｂ）で反射して、三角柱ミラー（３
１）に投射される。

三角柱ミラー（３１）は、直角プリズムの直角を挾む二
面に表面反射処理を施してあり、上下から投射された各
２０本の平行光ビーム群を、所望の間隔を持たせて＋Ｙ
力方向反射する。

各平行光ビーム群は、ミラー（３２）で−Ｚ力方向反射
し、レンズ（３３）、（３４）及びズームレンズ（３５
）で構成する縮小光学系により、走査露光のための微小
光点群（３６）を感光材料（６）に投射結像し、テーブ
ル（４）の移動により、感光材料（６）をＹ−Ｙ方向に
走査露光する。

なお、第２図に示す（３７）〜（４０）は、上述の露光
部とガラス乾板面との距離を一定に保持するための自動
焦点装置で、光源（３７）からレンズ（３８）を介して
斜め方向から乾板面に、感光させない程度の小光量の光
ビームを投射し、その反射光をレンズ（３８）を介して
受光素子（４０）−に入射させ、その入射位置の変位に
基づいて、照射距離の変動量を検出して、それを補正す
るように露光部と乾板面との距離を制御するものである
。この自動焦点装置は、本発明の理解には直接の関係が
ないので、詳細な説明を省略する。

次に第３図は、上述光学系の中の三角柱ミラー（３１）
回りの構成を示す斜視図である。

Ａ　ＯＭ　（２８Ａ）及び（２８Ｂ）から射出された各
２０本の平行光ビーム群（４１Ａ）及び（４１Ｂ）は、
前述のように三角柱ミラー（３１）の斜面で、＋Ｙ力方
向反射する。このとき、三角柱ミラー（３１）の位置を
Ｙ軸方向に移動させると、反射後の２組の平行光ビーム
群の２軸方向の位置が上下対称に昇降して、両群の間隔
が増減する。すなわち２三角柱ミラー（３１うをＹ軸方
向に移動可能に設置することにより、縮小光学系のレン
ズ（３３）に入射する２組の平行光ビーム群の間隔（Ｌ
）を、任意の量に設定することができる。

第３図は、三角柱ミラー（３１）の移動装置の１例を示
すもので、三角柱ミラー（３１）を保持するホルダー（
４２）を摺動台（４３）に立設し、摺動台（４３）は蟻
溝によりベース（４４）にＹ軸方向に摺動可能に係合し
、一対のスプリング（４５）により−Ｙ力方向付勢しで
ある。

摺動台（４３）の逆側の端面ば、メース（４４）に立設
したナツト（４６）に螺入したネジ軸（４７）の先端に
当接し、付設のつまみ（４８）によりネジ＄１１（４７
）を回転して進退させることにより、摺動台（４３）及
びそれに保持した三角柱ミラー（３１）が、Ｙ軸方向に
移動する。

第４図は、２組ノＡ　ＯＭ　（２８Ａ）及び（２８Ｂ）
ニおける平行光ビーム群の形成状態を説明する模式図で
ある。２つの細長い小判型（５０Ａ）　（５０Ｂ）は、
ビームエキスパンダ（２７Ａ）（２７Ｂ）で横幅を拡張
した光ビームを、また、その内側の多数の四角形（５１
−１）〜（５１−４０）は、多チャンネルＡ　ＯＭ　（
２８Ａ）　（２８Ｂ）　テ形成されるＡ、Ｂ各２０本の
光ビームを示し、各光ビーム群の光ビームは、ピッチ（
Ｐ）で配列され、かつ、第１光ビーム群（５１−１）〜
（５１−２０）と、第２光ビーム群（５１−２１）〜（
５１−４０）とは、Ｘ軸方向にピッチ（Ｐ）の１７２．
すなわち（Ｐ／２）だけ位相をずらせて配置しである。

２組の光ビーム群の位相を、（Ｐ／２）ずらせるには、
２組のＡ　ＯＭ　（２８Ａ）　（２８Ｂ）相対位置関係
を、対応するアパーチャ板（２９Ａ）　（２９Ｂ）とと
もに、Ｘ軸方向に相対的に必要量移動させるように調整
すればよい。

第５図は、上記２組の光ビーム群を、前述した縮小光学
系を介して乾板（６）に投射した光点群を示す模式図で
ある。

第１光ビーム群（５１−１）〜（５１−２０）により投
射された第１光点群（５２Ａ）は、光点（５２−１）（
５２−２）・・・・で構成され、第２光ビーム群（ｓＩ
−２０〜（５１−４０）により投射される第２光点群（
５２Ｂ）は、光点（５２−２１）（５２−２２）・・・
で構成される。２組の光点群（５２Ａ）（５２Ｂ）は、
入射側の光ビーム群の位置関係に対応して、Ｘ軸方向に
光点のピッチ（ｐ）の１／２ずつ位相をずらせて配列さ
れる。

縮小光学系における縮小率を（ｍ）とすると、各光点群
（５２Ａ）　（５２Ｂ）における光点の配列ピッチ（ｐ
）と、光ビーム群における光ビームの配列ピッチ（Ｐ）
との関係は、Ｐ＝ｒｎＸｐであり、また、２組の光点群
（５２Ａ）　（５２［１）の間隔（Ｑ）と、縮ノ」為光
学系に入射する２組の光ビーム群の間隔（Ｌ）との関係
は、Ｌ＝ｍＸＱである。この光点群の間隔（Ｒ）が、後
述する走査露光記録に際して、（５）位画素寸法の整数
倍になるように、三角形ミラー（３１）の位置を調整し
て、２組の光ビーム群の間隔（Ｌ）を設定する。

第６図は、第５図示のように、位相を１７２ピツチずら
せて配置した２組の光点群により走査露光をした場合に
、記録される画像の状態を示す模式図で、（Ａ）は光点
群の列に平行な画像輪郭線を記録した状態を、（Ｂ）は
傾斜した画像輪郭線を記録した状態を示し、第１組の光
点群により記録されるパターンを実線で、第２ＭＪ、の
光点群により記録さ才するパターンを点線で示したもの
である。また、第７図は、これと対比するために、１列
のみの光点群により記録される画像の状態を示したもの
である。

すなわち、１列のみの光点群で記録した場合は。

画像輪郭部に光点のピッチに相当する凹凸のギザギザが
生じ、特に第７図（Ｂ）のように輪郭線が走査方向に傾
斜している場合には、凹凸が顕著になり、記録される画
像の品質が低下する。一方、互いに１／２ピッチ位相を
ずらせて配置した２組の光点群により記録した場合は、
第６図示のようにこの欠点が改善され、記録画像の品質
を改善することができる。

第８図は、上述機能を遂行するための制御手段を示すブ
ロック図である。

ディスク（６１）及び磁気テープ（Ｍ、Ｔ）（６２）に
記憶した画像パターンデータを、ホス１−コンピュータ
（６３）を介して読みだし、ラスクイメージ・プロセッ
サ（ＲＩＰ）（６５）に送って、Ｘ−Ｙラスターパター
ンデータに変換する。、ＣＲＴモニタ（６４）には、確
認等の必要に応じて、所望領域の画像パターンデータに
より、対象領域の画像を表示する。

ラスターパターンに変換された画像データは、インター
フェース（Ｉ／Ｆ）（６６）を介して、ＡＯＭドライバ
（６７）に送られ、露光ヘッド（１９・２０）に内臓し
たＡ　ＯＭ　（２８Ａ）（２８Ｂ）を制御して、各光ビ
ームの変調制御を行なう。

またＩ　／　Ｆ　（６６）は、シーケンスコントローラ
（６８）及びサーボコントローラ（６９）に対する制御
信号を出力する。

一方、テーブル（４）のＹ軸方向の移動にともなって、
リニアエンコーダ（９）から出力する細ピッチのパルス
信号を、必要に応じて適宜分周して、画像データのラス
ターピンチに対応する周波数のクロックパルス信号とし
、テーブル（４）の位置に対応する画素のデータを読み
だして、Ａ　ＯＭ　（２８Ａ）（２８Ｂ）を制御する。

また、同時にリニアエンコーダ（８）から出力する粗ピ
ツチのパルス信号は、サーボコン１ヘローラ（６９）に
入力して、テーブル（４）をＹ軸方向に駆動するリニア
モータ（７）を制御する。

このように、ピッチが異なる２種のパルス信号を使用す
る理由は、もし、画像データ制御用の高周波数のパルス
信号を、リニアモータの駆動制御にも適用したとすると
、邪動速度が低くなって描画時間が著しく長くなり、逆
に、適当な速度でテーブルを駆動するようにしたリニア
モ−タ用の制御パルスで画像データを制御すると、画素
寸法が過大となって、高精度の複製画像が得られないた
めである。

かくして、テーブル（４）をＹ軸方向に駆動しながら、
ラスターパターンの画像データに基づいて、Ａ　ＯＭ　
（２８Ａ）　（２８Ｂ）を通過する各光ビームを、個別
にＯＮ　−ＯＦＦさせるように変調制御して、感光材料
（５）を走査露光し、複製画像を記録する。２組のＡＯ
Ｍで、それぞれ２０本の光ビームを変調制御すれば、テ
ーブル（４）の１行程（１走査周期）により、走査線４
０本分の画像が露光記録される。

このとき、露光用の光スポツト群は、Ｙ軸方向に間隔を
設けて、２列に配てしであるため、先行側と後続側との
光スポツト群による露光時期がずれることになる。この
ずれを補正するために、２組のＡ　ＯＭ　（２８Ａ）　
（２８Ｂ）のうち、後続側の光スポツト群に対応するも
のを制御する画像データ信号を、先行側の画像データ信
号より所要時間遅らせて入力させるようにしである。こ
の遅延量の制御は、感光材料面に投射される光スポツト
群の間隔を、単位画素寸法の整数倍に設定しであるため
、画像データのラスターピッチに相当するクロックパル
スを所要個数計数して、その分だけ遅延させればよい。

テーブル（４）の１行程分の露光記録が完了すれば、シ
ーケンスコントローラ（６８）の指令により、Ｘ軸モー
タ（１７）を起動して、露光ヘッド（２０’　）をＸ軸
方向に、露光用光スポツト群の列設幅に相当する距離を
移動させる。露光ヘッド（２０’）の移動量は、Ｘ軸側
のリニアエンコーダ（２１）により検出される。

次いで、再びＹ軸方向のりニアモータ（７）を起動して
、テーブル（４）を駆動し、感光材料（５）の隣接領域
について露光走査を行ない、順次これを反復して、所望
の画像パターン全体を記録する。

次に第９図は、第２図に１例を示した光学系の他の実施
例を示す斜視図である。第２図示実施例では、光ｉ！（
２２）からの光ビームを２つの光路に分岐して、それぞ
れをビームエキスパンダ（２７Ａ）と（２７Ｂ）とによ
り、平らな光ビームに拡張しているが、第９図示実施例
は、光源（２２）からの光ビームを１個のビームエキス
パンダ（７１）により拡張した後、幅広のビームスプリ
ッタ（７２）により、２本の平らな光ビームに分岐し、
その一方は直接Ａ　ＯＭ（２８Ａ）に、他方は幅広のミ
ラー（７３）で反射して。

Ａ　ＯＭ　（２８Ｂ）に入射するようにしたもので、そ
の他の各部材は、第２図示のものと全く同様である。

以上、詳述したように、本発明の描画露光装置は、光ス
ポット列により走査露光をする描画露光装置において、
複数群の光スポツト列を走査方向に前後させ、かつ、各
群の光スポットの相対的位相を順次ずらせて配置するこ
とにより、実質的に走査線ピッチを密にして、高速度か
つ高密度の複層画像を記録することができる。

また、複数群の光スポツト列の間隔を、記録画像におけ
る単位画素寸法の整数倍に設定したため、後続側の先ビ
ーム群に対する遅延制御がきわめて容易である。前述し
た特公昭６２−５９５０６号公報記載の手段は、個々の
光ビームごとにタイミング調整手段を設ける必要があっ
たが、本発明装置は、後ＪＨ１ｉの光ビーム群を一括し
て遅延させればよく、かつ、前後の光スポツト列の間隔
を単位画素寸法の整数倍に設定しであるため、遅延量の
制御をはるかに容易に、かつ、簡易な手段により実施を
することができる。

なお、上述説明は１図示実施例に基づいて記載したが１
本発明は、上述内容に限定されるものではない。たとえ
ば上記実施例は、２組のＡＯＭにより２群の光ビームを
変調制御し、それらの光ビーム群を光学系により所望の
位置関係に配列する場合について示したが、光ビームの
群数（感光材料面に投射される光スポツト列の数）は、
２群のみに限定されるものではなく、必要に応じて３群
以上の光ビームを適用することが可能である。その場合
は、Ａ　ＯＭ等を所要数増設するとともに、第３図示の
光ビーム合成光学系を、所要段数増設して、順次合成す
るようにすればよい。

また、感光材料としては、上述のガラス乾板に限らず、
写真フィルムを適用してもよいことは、云うまでもない
。

〔発明の効果〕

（１）それぞれ複数本の光ビームを列設した複数の光ビ
ーム群を、所要量、位相をずらせて配置して露光走査を
するため、高速度、かつ、高い走査線密度で描画露光を
することができる。

（２）先行側と後続側との光スポツト列との、走査時期
のずれの補正は、後続側を一括的に遅延させればよく、
かつ、光スポツト列の間隔を単位画素寸法の整数倍とし
であるため、遅延量の制御がきわめて容易である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の１実施例装置の構成を示す斜視図、第
２図は同装置の光学系の１例を示す斜視図、第３図は光
ビーム群の合成手段を示す斜視図、第４図は２群の光ビ
ームの位置関係を模式的に示した図、第５図は走査露光
用の光スポツト列を示す概略図、第６図は本発明により
記録される画像の状態を説明する模式図、第７図は１列
のみの光スポツト列で記録される画像の状態を示す模式
図、第８図は制御装置を示すブロック図、第９図は光学
系の他の１例を示す斜視図である。（１）・・・・フレーム、　　　（２）・・・・ベース
板、（３）・・・・ガイドレール、（４）・・・・テー
ブル、（６）・・・・感光材料、　　（７）・・・・リ
ニアモータ、（８）（９）・・リニアスケール（リニア
エンコーダ）。（１０）・・・・光電センサ、　（１１）（１２）・・
・・支台、（１，３）（１４）・・ガイドレール、（１
５）・・ネジ軸。（１７）・・・・サーボモータ、（１ｇ）・・・・摺動
ベース、（１９）・・・・光源部、　　　　（２０）・
・・・光学系部、（２０’　）・・・露光ヘッド、　（
２１）・・・・リニアスケール、（２２）・・・・レー
ザ光源、　（２３）　（２４）・・・・ミラー、（２５
）・・・・ビームスプリッタ、（２６）・・・・ミラー
、（２７）・・・・ビームエキスパンダ、（２８）・・
・ＡＯＭ、（２９）・・・・アパーチャ板、（３０）・
・・・ミラー、（３１）・・・・三角柱ミラー、　（３
２）・・・・ミラー、（３３）　（３４）・・・・レン
ズ、　（３５）・・・・ズームレンズ、（４２）・・・
・ホルダー、　　（４３）・・・・摺動台、（４４）・
・・・ベース、　　　（４７）・・・・ネジ軸、（４８
）・・・・つまみ。（７１）・・・・ビームエキスパンダ、（７２）・・・
・ビームスプリッタ、（７３）・・・・ミラー。た＼／″Ｆノ３′″′０ｖ　３　図４ノら窮　４１皐Ｖ　５　図 ′メ　６　図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）感光材料を装着して往復移動するテーブルと、該
テーブルの移動方向に交差する方向に所要ピッチで間欠
的に移動して、前記感光材料を走査露光する露光ヘッド
とを備えた描画露光装置において、前記露光ヘッドに、１個の光源から射出される光ビームを分岐するか、もし
くは複数個の光源を併設することにより、複数本の光ビ
ームを射出する光源と、前記複数本の各光ビームの横幅を拡張して、それぞれ平
らな光ビームを形成する対応個数のビームエキスパンダ
と、前記平らな光ビームを、さらにそれぞれ直線状に列設し
た複数本の光ビームに分岐して複数の光ビーム群とし、
該複数の光ビーム群の各光ビームを所要の画像信号に基
づいて個別に変調し、かつ、各光ビーム群に列設された
各光ビームの相対的位置が、前記テーブルの移動方向に
直角な方向に、光ビーム群ごとに順次、Ｐ／Ｎ（ただし
、Ｐ：光ビームの列設ピッチ、Ｎ：光ビーム群の数）ず
つ、位相をずらせる相対位置関係に配置した光ビーム変
調手段と、前記変調された複数の光ビーム群が、対向する方向から
入射し、直交する２つの面で同一方向を向く平行な光ビ
ーム群として反射させ、かつ、該光ビーム群の反射方向
に移動することにより、平行光ビーム群の間隔を調節す
る三角柱断面のミラーと、前記三角柱断面のミラーで反射した平行光ビーム群の光
ビーム列設幅及び光ビーム群の間隔を縮小して、前記テ
ーブルに装着した感光材料面に投射結像する縮小光学系
とを、内臓した描画露光装置の露光ヘッド。
（２）感光材料を装着して往復移動するテーブルと、該
テーブルの移動方向に交差する方向に所要ピッチで間欠
的に移動して、前記感光材料を走査露光する露光ヘッド
とを備えた描画露光装置において、前記露光ヘッドに、光ビームを射出する光源と、前記光ビームの横幅を拡張して、平らな光ビームを形成
するビームエキスパンダと、前記平らな光ビームを複数の平らな光ビームに分岐する
ビームスプリッタと、前記複数の平らな光ビームを、さらにそれぞれ直線状に
列設した複数本の光ビームに分岐して複数の光ビーム群
とし、該複数の光ビーム群の各光ビームを、所要の画像
信号に基づいて個別に変調し、かつ、各光ビーム群に列
設された各光ビームの相対的位置が、前記テーブルの移
動方向に直角な方向に、光ビーム群ごとに順次、Ｐ／Ｎ
（ただし、Ｐ：光ビームの列設ピッチ、Ｎ：光ビーム群
の数）ずつ、位相をずらせる相対位置関係に配置した光
ビーム変調手段と、前記変調された複数の光ビーム群が、対抗する方向から
入射し、直交する２つの面で同一方向を向く平行な光ビ
ーム群として反射させ、かつ、該光ビーム群の反射方向
に移動することにより、平行光ビーム群の間隔を調節す
る三角柱断面のミラーと、前記三角柱断面のミラーで反射した平行光ビーム群の光
ビーム列設幅及び光ビーム群の間隔を縮小して、前記テ
ーブルに装着した感光材料面に投射結像する縮小光学系
とを、内臓した描画露光装置の露光ヘッド。