JPH05121300A - 電子ビーム露光装置 - Google Patents

電子ビーム露光装置

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Publication number
JPH05121300A
JPH05121300A JP27942291A JP27942291A JPH05121300A JP H05121300 A JPH05121300 A JP H05121300A JP 27942291 A JP27942291 A JP 27942291A JP 27942291 A JP27942291 A JP 27942291A JP H05121300 A JPH05121300 A JP H05121300A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
data
exposure
correction
abnormality
electron beam
Prior art date
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Pending
Application number
JP27942291A
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English (en)
Inventor
Koki Tsuzuki
弘毅 都築
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Publication of JPH05121300A publication Critical patent/JPH05121300A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】補正演算器での補正結果の異常の確認、データ
異常の発生の有無を確認するため。 【構成】データ分割器4でデータをショット単位に分割
し、補正演算器5で露光時の偏向補正を加えて、補正結
果を逆補正演算器6で逆変換し、データ比較器8におい
て、補正前の露光データと比較し、補正の異常及びデー
タの異常を調べる。 【効果】補正を加えた最終露光データを確認しているた
めに、露光の信頼性が高すなる。また、ショット数の異
常でけでなく、補正の異常や、補正演算時のデータ異常
の有無も確認できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電子ビーム露光装置に関
し、特にシェィプトビーム・ベクタースキャン方式の電
子ビーム露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造において、パターンの
エッチング選択的拡散を行うために試料上に所望のパタ
ーンを転写する原寸の5倍の大きさを持つレチクルと呼
ばれる原パターンが必要となる。通常は5インチのレチ
クル1枚の上に1〜6チップのパターンを形成する。試
料上に5分の1に縮小したレチクルのパターンを繰り返
して投影してパターンの転写を行うため、レチクルに欠
陥があった場合は繰り返して投影した数のチップが全て
不良になっていまう。
【0003】したがってレチクルには無欠陥であること
が要求され、製造及び検査には細心の注意が払われる。
現在レチクルの露光には電子ビーム露光装置が主に使用
されているが、露光時に異常があるた、その時点でレチ
クルは不良品となるため、異常露光の検出はレチクルの
信頼性を高めるためにも非常に重要な項目である。
【0004】従来の露光装置では、図2に示すように、
パターンデータ10を露光データに変換する際に、露光
する総ショット数をプログラムによって算出する。そし
て、データ分割器4によって実際に分割された総ショッ
ト数をと、プログラムによって算出された総ショット数
とを比較する。その結果2つのデータに差がある場合
は、データ分割器4によって分割されたデータが異常で
あると判断していた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】この従来の電子ビーム
露光装置では、データ分割器で分割されたショット総数
は確認できるが、データ分割後に補正演算器5で補正さ
れた最終露光データの異常は確認できず、補正演算器に
おける補正のエラー、及びデータの異常は確認できない
という問題点があった。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の電子ビーム露光
装置は、従来の構成に加えて、ショット単位の偏向補正
の演算を行い、データに補正を加える補正演算器と、前
記補正演算器と全く逆のデータ変換を行うための逆補正
演算器と2つのデータを比較しその差を調べるデータ比
較器とを備えている。
【0007】
【実施例】次に本発明について図面を説明する。図1は
本発明の一実施例のデータ処理系の構成図である。露光
データはデータディスク1に保管され、露光時にデータ
記録器2によってデータメモリ3に格納される。露光デ
ータは順次データメモリ3から読出されてデータ分割さ
れてデータ分割器4によって露光のショット単位に分割
される。そして補正演算器5において各ショット単位に
露光時の偏向器に与えられる補正データが加えられて、
最終露光データとなる。最終露光データは2つに分けら
れて一方は露光部の偏向器を制御する偏向制御器7に送
られて露光を行う。もう一方は補正演算器5と全く逆の
演算を行う逆補正演算器6によって補正を加える前のデ
ータに戻され、データ比較器8によって元のデータと比
較される。比較した結果に差が無ければ2つのデータは
同じであり補正は正しく行われており、結果に差があれ
ばデータのその部分に何らかの異常が発生していること
になる。
【0008】図3は本発明の一実施例の構成図である。
本実施例は先の実施例1が補正演算器5についてのみ行
っていた変換後のデータチェックをデータ分割器4につ
いても実施する。データ分割器4によって分割されたデ
ータは全く逆のデータ変換を行うデータ逆変換器9によ
って分割される前のデータに戻され、データ比較器8に
おいて元のデータと比較される。その結果二つのデータ
が同じであればショット分割は正常に行われたことにな
り、違いあればショット分割時に異常が発生したことに
なる。こうして二回データのチェックを行うことにより
確実にデータの異常を発見することができる。
【0009】
【発明の効果】以上説明したように本発明は補正を加え
た後の最終露光データを用いて異常の有無を確認してい
るため、データ分割器におけるデータ分割時の異常や補
正演算器に致るまでのデータ転送中の異常だけでなく、
2.5×1010のデータ図形につき1回程度発生する補
正演算の異常、及びデータの異常を確実に検出できると
いう効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の構成図。
【図2】従来の露光装置の構成図。
【図3】本発明の第二の実施例の構成図。
【符号の説明】
1 データディスク 2 データ記録器 3 データメモリ 4 データ分割器 5 補正演算器 6 逆補正演算器 7 偏向制御器 8 データ比較器 9 データ逆変換器 10 パターンデータ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G21K 5/04 M 8707−2G H01J 37/147 C 9069−5E 37/305 9172−5E

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少くとも、露光用データを格納するため
    のデータメモリと、データメモリに対するデータの書き
    込み及び読出しを行うデータ記録器と、露光データを露
    光ショット単位に分割するデータ分割された各ショット
    毎のデータに対して、露光時の偏向補正を加えるための
    補正演算器と、前記補正演算器の逆補正演算器と、デー
    タを比較するデータ比較器と、偏向制御器と、試料を電
    子ビームで露光する露光部を備えたことを特徴とする電
    子ビーム露光装置。
JP27942291A 1991-10-25 1991-10-25 電子ビーム露光装置 Pending JPH05121300A (ja)

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