JPH0493946A - フォトマスク - Google Patents
フォトマスクInfo
- Publication number
- JPH0493946A JPH0493946A JP2208936A JP20893690A JPH0493946A JP H0493946 A JPH0493946 A JP H0493946A JP 2208936 A JP2208936 A JP 2208936A JP 20893690 A JP20893690 A JP 20893690A JP H0493946 A JPH0493946 A JP H0493946A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- frame
- photomask
- foreign matter
- film
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 7
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 6
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 241000233866 Fungi Species 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000008094 contradictory effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、フォトマスクの構造に関する。
従来の技術は、第2図の通りでありペリクル枠2の一方
にペリクル膜1が張り付けられており、その反対側に接
着剤−4が付いている。
にペリクル膜1が張り付けられており、その反対側に接
着剤−4が付いている。
この接着剤4によってフォトマスク′5に固定す〔発明
が解決しようとする課題〕 前述の従来技術では、ペリクル[1が汚れた場合フォト
マスク5よりペリクル枠2ごと剥ぎ取り新しいものと交
換していた。
が解決しようとする課題〕 前述の従来技術では、ペリクル[1が汚れた場合フォト
マスク5よりペリクル枠2ごと剥ぎ取り新しいものと交
換していた。
このために、ペリクル枠2をフォトマスク5に固定する
ための接着剤4は、強力に接着する能力と交換時には速
やかに剥がし易いという相反する性能が必要とされるた
め、どちらの性能に対しても十分に満足するものではな
かった。
ための接着剤4は、強力に接着する能力と交換時には速
やかに剥がし易いという相反する性能が必要とされるた
め、どちらの性能に対しても十分に満足するものではな
かった。
そこで本発明は、この様な問題点を解決するもので、そ
の目的とするところは、ペリクル枠2はフォトマスク5
に強力に接着されているが、ペリクルの交換は、速やか
に行なえるペリクルが装着されたフォトマスクを提供す
るところにある。
の目的とするところは、ペリクル枠2はフォトマスク5
に強力に接着されているが、ペリクルの交換は、速やか
に行なえるペリクルが装着されたフォトマスクを提供す
るところにある。
本発明のフォトマスク5に装置されているペリクルは、
ペリクル膜1が張り付けて有るペリクル枠2と、フォト
マスク5に固定してお(固定枠6に分割することができ
ることを特徴とする。
ペリクル膜1が張り付けて有るペリクル枠2と、フォト
マスク5に固定してお(固定枠6に分割することができ
ることを特徴とする。
第1図は、本発明の実施例における側面図である。
ペリクルをフォトマスク5に張り付ける時には、ペリク
ル枠2と固定枠6は、固定ネジ6ですでに接続された状
態となっている。
ル枠2と固定枠6は、固定ネジ6ですでに接続された状
態となっている。
この状態であれば、従来のペリクルと同様にあつかうこ
とが可能である。
とが可能である。
固定枠6が固定ネジ6でペリクル枠2に接続されている
側の反対側には、固定枠3と7オトマスク5を接着する
ための接着剤4が付着している。
側の反対側には、固定枠3と7オトマスク5を接着する
ための接着剤4が付着している。
固定枠5とペリクル枠2が固定ネジ6で接続された状態
で、フォトマスク5のOrパターン8が描かれている面
に、接着剤4を用いて固定する。
で、フォトマスク5のOrパターン8が描かれている面
に、接着剤4を用いて固定する。
通常フォトマスク5は、ペリクルが張られた状態で使用
される。
される。
このため、ペリクルに被われたorパターン8の面には
、異物が付着することは無い。
、異物が付着することは無い。
また、ペリクル膜の高さは、Orパターン8の面から、
固定枠3とペリクル枠2の高さに等しくOrパターン8
0面に付着した時には、半導体基板に転写した異物であ
っても、ペリクル膜1面に付着したときには、デフォー
カスするために、半導体基板に転写することは無い。
固定枠3とペリクル枠2の高さに等しくOrパターン8
0面に付着した時には、半導体基板に転写した異物であ
っても、ペリクル膜1面に付着したときには、デフォー
カスするために、半導体基板に転写することは無い。
つまり、Crパターン8面に付着する異物の大きさに比
較して、ペリクル膜1面に付着する異物の大きさは、か
なり大きいものまで半導体基板に転写することは無い。
較して、ペリクル膜1面に付着する異物の大きさは、か
なり大きいものまで半導体基板に転写することは無い。
通常は、フォトマスク5にペリクルを付けて、使用する
わけである。
わけである。
フォトマスクを使用する前には、ペリクル膜1面上に異
物が付着しているかどうか判定するためニヘリクル膜1
及びフォトマスク5のCrパターン8面を、異物検査装
置で検査する。
物が付着しているかどうか判定するためニヘリクル膜1
及びフォトマスク5のCrパターン8面を、異物検査装
置で検査する。
検査で異物が付着していた場合、この付着した異物が、
半導体基板上に転写するかどうか判定するために、パタ
ーン欠陥装置により検査する。
半導体基板上に転写するかどうか判定するために、パタ
ーン欠陥装置により検査する。
この結果、半導体基板上に転写しない場合は、このまま
露光を行なう。
露光を行なう。
しかし、転写する場合には、ペリクル枠2と固定枠3を
接続している固定ネジ6を取り外し、新規のペリクル枠
と交換し、再度固定ネジ6により取り付ける。
接続している固定ネジ6を取り外し、新規のペリクル枠
と交換し、再度固定ネジ6により取り付ける。
新しいペリクルを取り付けたならば、もう−度ヘリクル
膜1及びフォトマスク5のCrパターン8面の異物をチ
エツクした後、露光を行なう。
膜1及びフォトマスク5のCrパターン8面の異物をチ
エツクした後、露光を行なう。
以上述べた様に、本発明によれば、ペリクル枠2と固定
枠5の2つに分割することによって固定枠5は、強力に
フォトマスク5に接着することが可能である。
枠5の2つに分割することによって固定枠5は、強力に
フォトマスク5に接着することが可能である。
また、ペリクル枠2は、固定ネジ6によって固定枠5に
取り付けられているため、ペリクル膜1が、異物が付着
して汚れた場合には、固定ネジ6を取り外すことによっ
て容易に交換することができる。
取り付けられているため、ペリクル膜1が、異物が付着
して汚れた場合には、固定ネジ6を取り外すことによっ
て容易に交換することができる。
このため、交換に有する時間も非常に少なくてすむとい
う効果も有する。
う効果も有する。
第1図は、本発明の実施例を示す側面図。
第2図は、従来技術の実施例を示す側面図。
1・・・・・・シヘリクル膜
2・・・・・・ヘリクル枠
3・・・・・・固定枠
4・・・・・・接着剤
5・・・・・・フォトマスク
6・・・・・・固定ネジ
7・・・・・・Orパターン
以上
出願人 セイコーエプソン株式会社
代理人 弁理士 鈴木喜三部(他1名)彌
菌
始
図
Claims (1)
- ペリクル枠がペリクル膜を張り付けて有る部分とフォ
トマスクに接着される部分とに分割が可能なペリクルが
装置されることを特徴とするフォトマスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2208936A JPH0493946A (ja) | 1990-08-07 | 1990-08-07 | フォトマスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2208936A JPH0493946A (ja) | 1990-08-07 | 1990-08-07 | フォトマスク |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0493946A true JPH0493946A (ja) | 1992-03-26 |
Family
ID=16564589
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2208936A Pending JPH0493946A (ja) | 1990-08-07 | 1990-08-07 | フォトマスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0493946A (ja) |
-
1990
- 1990-08-07 JP JP2208936A patent/JPH0493946A/ja active Pending
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