JPH0493313A - 半導体封止用樹脂組成物 - Google Patents

半導体封止用樹脂組成物

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JPH0493313A
JPH0493313A JP21019290A JP21019290A JPH0493313A JP H0493313 A JPH0493313 A JP H0493313A JP 21019290 A JP21019290 A JP 21019290A JP 21019290 A JP21019290 A JP 21019290A JP H0493313 A JPH0493313 A JP H0493313A
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JP
Japan
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polysiloxane
resin composition
compound
ether compound
propargyl ether
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Pending
Application number
JP21019290A
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English (en)
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Hisafumi Enoki
尚史 榎
Kenichi Suzuki
憲一 鈴木
Hikari Okubo
光 大久保
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication date
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  • Epoxy Resins (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はガラス転移点(以下Tgという)が高く、耐湿
性、相溶性に優れ、かつ低応力特性に憬れた半導体封止
用樹脂組成物に関するものである。
(従来技術) 近年IC’、LSI、トランジスター、ダイオードなど
の半導体素子や電子回路等の封止には特性、コスト等の
点からエポキシ樹脂組成物が一般的に用いられている。
しかし、電子部品の量産性指向、高集積化や表面実装化
の方向に進んで来ておりこれに伴い封止樹脂に対する要
求は厳しくなってきている。
特に高集積化に伴うチップの大型化、パッケージの薄肉
化や表面実装時における半田浸漬(200〜300°C
)によって装置にクラックが発生し易くなっており、信
頼性向上のために半導体封止用樹脂としては低応力特性
と耐熱性が強く望まれている。
半導体封止用樹脂としては現在エポキシ樹脂が主流であ
るが、耐熱性という点ではエポキシ樹脂を用いている限
り改良に限界があり、表面実装時の半田浸漬後の信頼性
の高いものが得られていない。
これらの半田耐熱性に対処するには樹脂特性として低応
力であり、かつTgが高く半田浴温度以上であることが
望まれている。
エポキシ樹脂に代わる高耐熱性を有する樹脂としてはマ
レイミド樹脂が注目されてきているが、ビスマレイミド
と芳香族ジアミンとの反応によって得られるアミン変性
マレイミド樹脂は、乾燥時の耐熱性には優れているが、
吸水率が大きく、吸湿時の半田浸漬でクラックを発生し
、信頼性に乏しい欠点がある。
マレイミド樹脂としては、この他に、ポリマレイミドと
アルケニルフェノール類またはアルケニルフェニルエー
テル類などを重合触媒存在下で反応させる例(特開昭5
2−994.58−1.17219.61−95012
.62−11716.63−230728号公報)もあ
るが、アミン変性マレイミド樹脂と同様に硬化物は堅い
ため、低応力特性に劣る欠点がある。
低応力特性の改善策として各種シリコーン化合物の添加
が試みられているが、相溶性が著しく劣り、強度が低下
し、吸水率が大きくて、耐湿性、信頼性に欠け、実用上
問題点が多く残る。
(発明が解決しようとする課題) 本発明の目的とするところは相溶性が良く、般の特性を
低下させることなく、耐湿性、低応力特性に憬れ、かつ
高耐熱性を有し、半田浸漬後の信頼性に非常に憬れた半
導体封止用樹脂組成物を提供することにある。
(課題を解決するための手段) 本発明は、(1)(A)下記式〔I〕又は(II )で
示されるポリフェノール類の単独又は共縮合物又は混合
物のプロパルギルエーテル化合物と、(R工: −H,
−CH3、−CF3、→()、又は+0HR2: −H
,−CH3、又は−CF3 0≦n<30)CB)下記
式(1)で示されるボTノシロキサンと、R3ニーCH
3、−CF3、→()、又はXの中からそれぞれ独立に
選択された基 j:1〜100) (C)エポキシ化合物とを含有することを特徴とする半
導体封止用樹脂組成物、 (2)プロパルギルエーテル化合物(A)とポリシロキ
サン(B)とを予め反応させた特許請求の範囲第1項記
載の半導体封止用樹脂組成物、(3)プロパルギルエー
テル化合*(A)とポリシロキサン(B)とを予め反応
させ、次いでエポキシ化合物(C)を反応させてプレポ
リマーとした特許請求の範囲第1項記載の半導体封止用
樹脂組成物である。
(作用) 本発明において用いられるポリフェノール類のプロパル
ギルエーテル化合物は、式〔I〕又は式(II )で示
されるポリフェノール類の単独又は共縮合物又は混合物
を、塩化プロパルギル又は臭化プロパルギルと反応させ
、グロパルギルエーテル化したものである。式〔I〕又
は式(II )のn。
mは、ポリフェノール類が単一化合物の場合には、0内
に示された構造単位の繰返し数を示し、又分子量の異な
る2種以上の化合物から構成される場合には、平均繰返
し数を示し、縮合物の場合には、縮合物中に存在するそ
れぞれの構造単位の全体としての平均繰返し数を示し、
0≦n、m<30である。好ましくは、0≦n、m≦1
0が良い。分子量が大き過ぎると、融点及び溶融粘度が
高くなって作業が困難になる。
プロパルギルエーテル化率は、フェノール性OH基に対
し、50%以上100%以下が好ましい。50%未満で
はフェノール性OH基が多量に残存するため、吸水率が
大きくなり、耐湿性、耐半田クラック性が向上しない。
本発明において用いられるポリシロキサンは、分子内に
2個以上の反応性の基を有するもので、式(m)で示さ
れ、その重合度jは1〜100の範囲のものである。重
合度が100より大きい場合、相溶性が低下してしまう
ポリシロキサンは、プロパルギルエーテル化合物100
重量部に対し、2〜100重量部が良い。少な過ぎると
、低応力特性が得られない。多過ぎると、機械強度、T
gが下がり、半田浸漬時にクラックを発生する。
プロパルギルエーテル化合物とポリシロキサンは予め必
要に応じて触媒を用い反応させておくことが望ましい。
上記反応の触媒は特に限定されるものではないが、−例
を示すと、(m)式におけるXが−Hの場合は、ヒドロ
シリル基とオレフィンとの反応に使用される触媒である
塩化白金酸などを用いることができ、Xが フェノールとの反応に使用される触媒である3級アミン
類、イミダゾール類、ホスフィン類などを用いることが
でき、Xが−CH”CH2、−CH2−CH”CH2の
場合は、有機化酸化物を用いることができる。
Xが−((:H,+)y NH2の場合は、特に触媒を
用いなくでも加熱によって反応させることができる。
エポキシ化合物としては、分子内に少なくとも2個以上
のエポキシ基を有するもので、例えば、ビスフェノール
A系エポキシ樹脂、ビスフェノールF系エポキシ樹脂、
臭素化エポキシ樹脂、フェノール・ノボラック系エポキ
シ樹脂、クレゾールノボラック系エポキシ樹脂、その他
の多官能エポキシ樹脂を用いることができる。
エポキシ化合物を配合することによって、好ましくは、
予めエポキシ化合物と反応させることによって、作業性
、相溶性、硬化性がより向上するが、多過ぎると耐熱性
、耐半田クラック性が悪化するので、好ましくは、プロ
パルギルエーテル化合物100重量部に対し、2〜20
0重量部、更に好ましくは10〜100重量部が良い。
本発明の半導体封止用樹脂組成物を用いて成形材料化す
るには硬化促進剤、無機充填材、滑剤、難燃剤、離型剤
、シランカップソング剤等を必要に応じて適宜配合添加
し、加熱混練することによって材料化できる。
(実施例) [プロパルギルエーテル化合物の合成]合成例1〜3 撹拌装置、還流冷却器、温度計及び滴下ロートを付けた
反応容器に、第1表の処方に従って、水酸化カリウムと
、水/アセトン(1/1)の混合溶媒を入れて溶解させ
、これにポリフェノール類を添加し、溶解させた。この
溶液を加熱し、塩化プロパルギルを滴下して、還流下3
時間反応させた。その後、塩酸で中和して、アセトンと
未反応の塩化プロパルギルを留去し、トルエン1゛1;
を添加した。分液ロートに移し、水洗を3回行い、エバ
ポレーターで溶媒を除去した。
得られた化合物のプロパルギルエーテル化率(フェノー
ル性水酸基の反応率)を第1表(こ示した。
実施例1〜2 撹拌装置、還流冷却器及び温度計を付けた反応容器に、
合成例1又は合成例2のグロパルギルエーテル化合物と
トルエンを第2表の処方に従って入れ、均一に溶解して
から、塩化白金酸溶液を添加した。これにジヒドロポリ
シロキサンを加え、80°Cで2時間反応させた。その
後、還流冷却器を減圧蒸留装置に代えて溶媒を除去し、
更に減圧下(約20mmHg) 180°Cで4時間反
応させた。得られたポリシロキサン変性プロパルギルエ
ーテル化合物は、粘稠な液体で、これを150°Cに加
熱し、更にエポキシ化合物とト1ノフェニル示スフィン
を加え、融点が50〜100“Cになるよう反応させた
。生成した樹脂は、均質で、融点を第2表に示した。
実施例3 撹拌装置、減圧蒸留装置及び温度計を付けた反応容器に
、合成例3のグロバルギルエーテル化合物とジアミノポ
リシロキサンとを第2表の処方に従って入れ、減圧下(
約20mmHg) 180°Cで6時間反応させた。得
られたポリシロキサン変性プロパルギルエーテル化合物
は、粘稠な液体で、これを150°Cに加熱し、更にエ
ポキシ化合物と2−フェニル″″4−メチルイミダゾー
ルを加え、融点が50〜100°Cになるよう反応させ
た。生成した樹脂は、均質で、融点を第2表に示した。
実施例4〜6 第3表に示す配合に従って、実施例1〜3のポリシロキ
サン変性プロパルギルエーテル化合物とエポキシ化合物
とを反応させて得られた樹脂に、硬化促進剤、シリカ粉
末、アミノシラン、着色剤および離型剤を加え、熱ロー
ルで混練して成形材料を得た。得られた成形材料をトラ
ンスファー成形(こより180℃、3分で成形しフクレ
の無い光沢の有る成形品が得られた。この成形品をさら
に180°C18時間後硬化を行い特性を評価した。結
果を第3表に示す。
実施例1〜3の樹脂を用いた実施例4〜6の成形材料は
、シリコーンを含まない比較例1に比べ常温での曲げ弾
性率が小さく、低応力で、内部応力も小さい。しかも、
ガラス転移温度が高く、260°Cでの曲げ強度も大き
く、耐熱性、耐半田クラック性に優れ、吸水率も小さい
比較例1 ポリシロキサンを含まない合成例1のグロバルギルエー
テル化合物とエポキシ化合物とを用い、実施例4と同様
に行った。成形品の外観、曲げ強度、耐熱性は良好であ
るが、曲げ弾性率が大きく、耐半田クラック性は充分で
ない。
比較例2 エポキシ化合物を用い、実施例4と同様に行った。耐熱
性が劣るため、耐半田クラック性が非常に悪い。
比較例3 マレイミド化合物を用い、実施例4と同様に行った。耐
熱性は憬れているが、曲げ弾性率と吸水率が大きく、耐
半田クラック性は充分でない。
比較例4 マレイミド化合物にポリシロキサンを配合して、実施例
4と同様に行った。マレイミド化合物とポリシロキサン
の相溶性が悪く、成形品の外観は良くなかった。吸水率
は大きく、耐半田クラック性も不良であった。
(発明の効果) 本発明による半導体封止用樹脂を用いた組成物の硬化物
は高Tgであり、耐湿性及び熱時の強度に優れているた
め封止体の耐半田クラック性が良く、かつ低応力であり
耐ヒートサイクル性にも優れており、半導体封止用樹脂
組成物として非常に信頼性の高い優れたものである。
第 表

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(A)下記式〔 I 〕又は〔II〕で示されるポリ
    フェノール類の単独又は共縮合物又は混合物のプロパル
    ギルエーテル化合物と、 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 (R_1:−H、−CH_3、−CF_3、▲数式、化
    学式、表等があります▼、又は▲数式、化学式、表等が
    あります▼R_2:−H、−CH_3、又は−CF_3
    0≦n<30)▲数式、化学式、表等があります▼・・
    ・〔II〕 (0≦m<30) (B)下記式〔III〕で示されるポリシロキサンと、▲
    数式、化学式、表等があります▼・・・・・・〔III〕 (X:−H、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数
    式、化学式、表等があります▼、 −CH=CH_2又は−CH_2−CH=CH_2R_
    3:−CH_3、−CF_3、▲数式、化学式、表等が
    あります▼、又はXの中からそれぞれ独立に選択された
    基 j:1〜100) (C)エポキシ化合物とを含有することを特徴とする半
    導体封止用樹脂組成物。
  2. (2)プロパルギルエーテル化合物(A)とポリシロキ
    サン(B)とを予め反応させた特許請求の範囲第1項記
    載の半導体封止用樹脂組成物。
  3. (3)プロパルギルエーテル化合物(A)とポリシロキ
    サン(B)とを予め反応させ、次いでエポキシ化合物(
    C)を反応させてプレポリマーとした特許請求の範囲第
    1項記載の半導体封止用樹脂組成物。
JP21019290A 1990-08-10 1990-08-10 半導体封止用樹脂組成物 Pending JPH0493313A (ja)

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