JPH0413754A - 半導体封止用樹脂組成物 - Google Patents

半導体封止用樹脂組成物

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JPH0413754A
JPH0413754A JP11506390A JP11506390A JPH0413754A JP H0413754 A JPH0413754 A JP H0413754A JP 11506390 A JP11506390 A JP 11506390A JP 11506390 A JP11506390 A JP 11506390A JP H0413754 A JPH0413754 A JP H0413754A
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JP
Japan
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resin
formula
formulas
tables
propargyl
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JP11506390A
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English (en)
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Hisafumi Enoki
尚史 榎
Kenichi Suzuki
憲一 鈴木
Hikari Okubo
光 大久保
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はガラス転移点(以下Tgという)が高く、耐湿
性、相溶性に優れ、かつ低応力特性に優れた半導体封止
用樹脂組成物に関するものである。
(従来技術) 近年IC,LSI、トランジスター、ダイオードなどの
半導体素子や電子回路等の封止には特性、コスト等の点
からエポキシ樹脂組成物が一般的に用いられている。
しかし、電子部品の量産性指向、高集積化や表面実装化
の方向に進んで来ておりこれに伴い封止樹脂に対する要
求は厳しくなってきている。
特に高集積化に伴うチップの大型化、パッケージの薄肉
化や表面実装時における半田浸漬(200〜300°C
)によって装置にクラックが発生し易くなっており、信
頼性向上のために半導体封止用樹脂としては低応力特性
と耐熱性が強く望まれている。
半導体封止用樹脂としては現在エポキシ樹脂が主流であ
るが、耐熱性という点ではエポキシ樹脂を用いている限
り改良に限界があり、表面実装時の半田浸漬後の信頼性
の高いものが得られていない。
これらの半田耐熱性に対処するには樹脂特性として低応
力であり、かつTgが高く半田浴温度以上であることが
望まれている。
エポキシ樹脂に代わる高耐熱性を有する樹脂としてはマ
レイミド樹脂が注目されてきているが、ビスマレイミド
と芳香族ジアミンとの反応によって得られるアミン変性
マレイミド樹脂は、乾燥時の耐熱性には優れているが、
吸水率が大きく、吸湿時の半田浸漬でクラックを発生し
、信頼性に乏しい欠点がある。
マレイミド樹脂としては、この他に、ポリマレイミドと
アルケニルフェノール類またはアルケニルフェニルエー
テル類などを重合触媒存在下で反応させる例(特開昭5
2−994.58−117219.61−95012.
62−11716.63−230728号公報)もある
が、アミン変性マレイミド樹脂と同様に硬化物は堅いた
め、低応力特性に劣る欠点がある。
低応力特性の改善策として各種シリコーン化合物の添加
が試みられているが、相溶性が著しく劣り、強度が低下
し、吸水率が大きくて、耐湿性、信頼性に欠け、実用上
問題点が多く残る。
(発明が解決しようとする課題) 本発明の目的とするところは相溶性が良く、−般の特性
を低下させることなく、耐湿性、低応力特性に優れ、か
つ高耐熱性を有し、半田浸漬後の信頼性に非常に優れた
半導体封止用樹脂組成物を提供することにある。
(課題を解決するための手段) 本発明は、 (1)(A)下記式〔I〕又は/及び下記式(II )
の組成で示されるプロパルギルエーテル化樹脂と、(R
,ニーH又は−C113の中からそれぞれ独立に選択さ
れた基 0< a < 100.0≦b、c<100かッa+b
+c==1(10a、b、cは各組成の百分率を示す。
)(0<d<100.0≦e、f<100かッd+e+
f=100 d、e、fは各組成の百分率を示す。)(B)下記式〔
川〕で示されるポリシロキサンと、(X ニーH,−(
−CH→丁→]42、)CH2h「(−CH= −CH
−CH2、\/ −CH=CH2又は −CH2−CH”CH20R2ニ
ーCH3、()、又はXの中からそれぞれ独立に選択さ
れた基 n:1〜100) を含有することを特徴とする半導体封止用樹脂組成物で
ある。
(作用) 本発明において用いられるプロパルギルエーテル化樹脂
は、フェノール性水酸基を有する樹脂、具体的にはフェ
ノール樹脂、フェノール・芳香族炭化水素樹脂、例えば
フェノール変性キシレン樹脂(三菱瓦斯化学■製二カノ
ールP−100など)やフェノールアラルキル樹脂(三
井東圧■製ミレックスX L−225など)、ビニルフ
ェノール樹脂(丸善石油化学■製マルカリン力−Mなど
)又はビニルフェノール・スチレン共重合樹脂(丸善石
油化学■製マルカリン力−C5Tなど)を、塩化プロパ
ルギル又は臭化プロパルギルと反応させ、プロパルギル
エーテル化したもので、下記式(I)又は〔III〕の
組成で示されるものである。
(R,ニーH又は−CH3の中からそれぞれ独立に選択
された基) a、b、c及びd、e、fは、それぞれ〔I〕及び(I
I )式における各組成の百分率(%)を示し、樹脂中
にそれぞれの構造をもつ部分が全体として〔I〕式では
a + b + C1(II )式ではd。
e、fの比で存在しているものである。そして、0< 
a < 100.0≦b、c<100かツa+b+c=
lOOO< d < 100.0≦e、f<100かツ
d+e+f:100である。好ましくは、30≦a、d
≦90.10≦c、f≦70が良い。
a又はd成分は、耐熱性、靭性、硬化性の向上に効果が
あり、少な過ぎると上記の特性が低下する。また多過ぎ
ると、逆にC又はf成分が少なくなるので、C又はf成
分の更に加算される特性効果が薄れる。
C又はf成分は、耐湿性、低吸水、信頼性などの特性を
更に向上させる効果がある。しかし多過ぎると、逆にa
又はd成分が少なくなり、耐熱性、靭性、硬化性が低下
する。
本発明において用いられるポリシロキサンは、分子内に
2個以上の反応性の基を有するもので、下記式(III
)で示され、その重合度nは1−100の範囲のもので
あ条。
−CH”CTo  又は −CH2−CI(”CH20
R2ニーCH3、(〕、又はXの中からそれぞれ独立に
選択された基 n 二 1〜100 ) 重合度が100より大きい場合、相溶性が低下してしま
う。
ポリシロキサンは、プロパルギルエーテル化樹脂100
重量部に対し、2〜100重量部が良い。少な過ぎると
、低応力特性が得られない。多過ぎると、機械強度、T
gが下がり、半田浸漬時にクラックを発生する。
プロパルギルエーテル化樹脂とポリシロキサンは予め必
要に応じて触媒を用い、融点が50〜120°Cの範囲
となるまで反応させておくことが望ましい。上記反応の
触媒は特に限定されるものではないが、−例を示すと、
(III)式におけるXが−Hの場合は、ヒドロシリル
基とオレフィンとの反応に使用される触媒である塩化白
金酸などを用いることができ、Xが フェノールとの反応に使用される触媒である3級アミン
類、イミダゾール類、ホスフィン類などを用いることが
でき、Xが −CIl”CH2、−CH2−CH=CH2の場合は、
有機化酸化物を用いることができる。Xが一+CH2)
r→H2の場合は、特に触媒を用いなくても加熱によっ
て反応させることができる。
本発明の半導体封止用樹脂組成物を用いて成形材料化す
るには硬化促進剤、エポキシ樹脂、無機充填材、滑剤、
難燃剤、離型剤、シランカップリング剤等を必要に応じ
て適宜配合添加し、加熱混練することによって材料化で
きる。
(実施例) [プロパルギルエーテル化物の合成] 合成例1〜3 撹拌装置、還流冷却器、温度計及び滴下ロートを付けた
反応容器に、第1表の処方に従って、水酸化カリウムと
、水/アセトン(1/1)の混合溶媒を入れて溶解させ
、これにフェノール・芳香族炭化水素樹脂、ビニルフェ
ノール・スチレン共重合樹脂又はフェノール樹脂を流加
し、溶解させた。
この溶液を加熱し、塩化プロパルギルを滴下して、還流
下3時間反応させた。その後、塩酸で中和して、アセト
ンと未反応の塩化プロパルギルを留去し、トルエン1リ
ツトルを添加した。分液ロートに移し、水洗を3回行い
、エバポレーターで溶媒を除去した。
得られた樹脂のプロパルギルエーテル化率(フェノール
性水酸基の反応率)を第1表に示した。
実施例1〜2 撹拌装置、還流冷却器及び温度計を付けた反応容器に、
合成例1又は合成例2のプロパルギルエーテル化樹脂と
トルエンを第2表の処方に従って入れ、均一に溶解して
から、塩化白金酸溶液を流加した。これにジヒドロボワ
シロキサンを加え、80°Cで2時間反応させた。その
後、還流冷却器を減圧蒸留装置に代えて溶媒を除去し、
更に減圧下(約20mmHg) 180°Cで4時間反
応させた。得られたポリシロキサン変性プロパルギルエ
ーテル化樹脂は、均質で、融点を第2表に示した。
実施例3 撹拌装置、減圧蒸留装置及び温度計を付けた反応容器に
、合成例3のプロパルギルエーテル化樹脂とジアミノポ
リシロキサンとを第2表の処方に従って入れ、減圧下(
約20a+mHg) 180°Cで6時間反応させた。
得られたポリシロキサン変性プロパルギルエーテル化樹
脂は、均質で、融点を第2表に示した。
実施例4〜6 第3表に示す配合に従って、実施例1〜3で得たポリシ
ロキサン変性プロパルギルエーテル化樹脂に、硬化促進
剤、シリカ粉末、アミノシラン、着色剤および離型剤を
加え、熱ロールで混練して成形材料を得た。得られた成
形材料をトランスファー成形により180°C,3分で
成形しフクレの無い光沢の有る成形品が得られた。この
成形品をさらに180°C18時間後硬化を行い特性を
評価した。
結果を第3表に示す。
実施例1〜3の樹脂を用いた実施例4〜6の成形材料は
、シリコーンを含まない比較例1に比べ常温での曲げ弾
性率が小さく、低応力で、内部応力も小さい。しかも、
ガラス転移温度が高く、260°Cでの曲げ強度も大き
く、耐熱性、耐半田クラック性に優れ、吸水率も小さい
比較例1 ポリシロキサンを含まない合成例1のプロパルギルエー
テル化樹脂を用い、実施例4と同様に行った。成形品の
外観、曲げ強度、耐熱性は良好であるが、曲げ弾性率が
大きく、耐半田クラック性は充分でない。
比較例2 エポキシ樹脂を用い、実施例4と同様に行った。
耐熱性が劣るため、耐半田クラック性が非常に悪い。
比較例3 マレイミド樹脂を用い、実施例4と同様に行った。耐熱
性は優れているが、曲げ弾性率と吸水率が大きく、耐半
田クラック性は充分でない。
比較例4 マレイミド樹脂にポリシロキサンを配合して、実施例4
と同様に行った。マレイミド樹脂とポリシロキサンの相
溶性が悪く、成形品の外観は良くなかった。吸水率は大
きく、耐半田クラック性も不良であった。
(発明の効果) 本発明による半導体封止用樹脂を用いた組成物の硬化物
は高Tgであり、耐湿性及び熱時の強度に優れているた
め封止体の耐半田クラック性が良く、かつ低応力であり
耐ヒートサイクル性にも優れており、半導体封止用樹脂
組成物として非常に信頼性の高い優れたものである。
第 ■ 表 (注)*l:l:三菱瓦斯化学 水製:丸首石油化学■製 *3:住友デュレズ@l製 二カノールP−100 マルカリンカーC6T70 PR−51470 手続補正書 特許請求の範囲を別紙の通りに補正する。
平成2年

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(A)下記式〔 I 〕又は/及び下記式〔III〕の
    組成で示されるプロパルギルエーテル化樹脂と、▲数式
    、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等が
    あります▼、▲数式、化学式、表等があります▼・・・
    〔 I 〕 (R_1:−H又は−CH_3の中からそれぞれ独立に
    選択された基 0<a<100、0≦b、c<100かつa+b+c=
    100a、b、cは各組成の百分率を示す。) ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
    ・・・(II) (0<d<100、0≦e、f<100 かっd+e+f=100 d、e、fは各組成の百分率を示す。) (B)下記式〔III〕で示されるポリシロキサンと、▲
    数式、化学式、表等があります▼・・・・・・〔III〕 (X:−H、−(CH_2)−_3NH_2、▲数式、
    化学式、表等があります▼、−CH=CH_2又は−C
    H_2−CH=CH_2R_2:−CH_3、▲数式、
    化学式、表等があります▼、又はXの中からそれぞれ独
    立に選択された基 n:1〜100) を含有することを特徴とする半導体封止用樹脂組成物。
JP11506390A 1990-05-02 1990-05-02 半導体封止用樹脂組成物 Pending JPH0413754A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05239365A (ja) * 1991-09-27 1993-09-17 Shin Etsu Chem Co Ltd 硬化性樹脂組成物及びその硬化物

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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