JPH0493056A - 樹脂封止型半導体装置 - Google Patents

樹脂封止型半導体装置

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JPH0493056A
JPH0493056A JP21070090A JP21070090A JPH0493056A JP H0493056 A JPH0493056 A JP H0493056A JP 21070090 A JP21070090 A JP 21070090A JP 21070090 A JP21070090 A JP 21070090A JP H0493056 A JPH0493056 A JP H0493056A
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JP
Japan
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lead
semiconductor device
resin
pitch
sealing
Prior art date
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Pending
Application number
JP21070090A
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English (en)
Inventor
Hiroaki Kishi
博明 岸
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Toshiba Corp
Toshiba Electronic Device Solutions Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba Microelectronics Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPH0493056A publication Critical patent/JPH0493056A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的コ (産業上の利用分野) 本発明は樹脂封止型半導体装置に係わり特に、0.8〜
0.5ピツチ(Pitch)以下の多ピン構造のものに
好適するものである。
(従来の技術) 従来から樹脂封止型半導体装置はリードフレーム(Le
ad  Frame)を利用した組立工程後、マウント
(Mount)された半導体素子を保護するためにいわ
ゆるトランスファーモールド(Transfer  M
oQd)方式による樹脂封止工程を施して製造されるの
が一般的である。
封止樹脂により保護される半導体素子は例えばシリコン
(SiQicon)からなり所定の導電型を示す半導体
ウェーハ(Wafer)に反対導電型もしくは高濃度の
不純物を導入・拡散して能動素子、受動素子及び抵抗な
どの回路成分からなる群から選定した一種または複数種
で構成するもので、本発明における半導体素子も同様で
ある。
このような各素子や回路成分には電気的に接続した電極
や配線層を形成し、各素子を設置した各半導体チップ(
Chip半導体ウェーハをスクライブライン:5cri
be  Lineにより区分けされた領域を指す)の頂
面にこれを導いて導電性金属層で構成するパッド(P 
a d)層と連結して半導体素子の出力端子として機能
させる。
とりわけ出力端子数の多い即ち多ピン半導体素子用のリ
ードフレームはこれに対応するリードが必要となるが、
その概略を以下に説明する。
Fe−Ni、FeやFe合金、銅または銅合金からなる
板体をエツチング(Etching)工程もしくはプレ
ス(Press)工程により所定のパターン(Patt
ern)を形成してリードフレームが完成する。リード
フレームの構造としては周囲を金属製枠体により構成し
かつ、必要数を連続して形成し、この金属製枠体のほぼ
中心に板状アイランド(IsQand)部を配置する。
更に金属製枠体を起点とするインナーリード(Inne
r  Lead樹脂封樹脂程後樹脂層外に導出したもの
はアウターリード(Quter  Leadとして機能
して名称が変更されるので、以後リードと総称する)を
設け、板状アイランド部の周囲を終端としていわゆる遊
端とする(図示せず)。また、板状アイランド部はこの
リードの一部と接続することにより金属製枠体に固定し
て機械的強度を確保している。このようなリードフレー
ムとしてはQFP(Quad  FQat  Pa c
 k a g e )やSOP (SmaQQ  0u
tQ ine  Package)などが利用されてお
り、板状アイランドにマウント(Mount)された半
導体チップをトランスファーモールド(Transfe
r  MoQd)法により樹脂封止した後の状態を第1
図及び第2図の上面図により示したが、第1図より第2
図の方が縦方向即ち紙面の上下方向が大きいものである
半導体チップに前記のように不純物を導入・拡散して得
られる半導体素子ではいわゆるパッド部とリードを公知
のワイヤーボンディング(Wi −re  Bondi
ng)工程により金属細線を接続して電気的導通を得る
手法も採用されており、金属細線としてはAu5AQ及
び銅や同合金からなる群からリードフレームの材質に応
じて選定する。即ぢ、銅または調合金製のリードフレー
ムには銅または同合金からなる金属細線が利用され、他
の材質のリードフレーム用にはAuかAΩが利用される
ところで、第1図及び第2図に明らかにされたリードフ
レーム1.2は多ピン構造用のものであり、各リード3
・・・に対応する場所(図示せず)とコーナー(Con
er)部に孔部4を設置して変形を防止している。孔部
4は図示した位置ばかりでなくリード3に対応する場所
にも形成されている。またリード3・・・の中央部は封
止樹脂層5であり、その周囲か金属製枠体6である。第
1図及び第2図のリードフレーム1.2にカット(Cu
t)工程を施した後の上面図を第3図に示しており、リ
ード3・・・の中央部に書かれた2本の線はり−ドフォ
ーミング(Forming)工程後を示すもので本発明
に直接の関係がない。第4図には前記樹脂封止工程更に
トリム&フォーミング(Trirnt&Forming
)工程を終えた樹脂層1に型半導体装置の断面図を明ら
かにした。この図によれば、板状アイランド部7、半導
体チップ8及び金属細線9が明示されている。
(発明が解決しようとする課題) 最近の半導体素子はD (Dynami c)RAM(
Ramdum  Acess  Mem。
ry)に代表されるように高集積化及び多機能化が進ん
でいるために、これに対応するリードフレームも多ピン
及び狭いピッチのリードが設置される傾向に進んでいる
。これに対して半導体素子を造り込む半導体チップはコ
スト(Cost)削減のためにシュリンク(Shrin
k)の方向にあり、多ピン及び狭いピッチのリードの要
求に対応してリード先端と板状アイランド部間の距離を
大きめにすると共に外側に広げる方向を採っている。
従って金属細線により形成されるループ(L。
op)が大きくなり極端な場合には4mm以上にも達す
る場合がある。
ところで、リードフレームの熱膨脹係数はFeN i 
系即チ427oイテ0.46 X 10−”/’C銅系
合金系では1. 7 x 10−”/℃なのに対して、
封止樹脂の熱膨脹係数はガラス(GQass)転移点以
内のα が1.2〜1..7X10’/’C1ガラス転
移点以上におけるα1が5,4〜7,1×105/℃で
あるので硬化収縮は避けられない。
従って封止樹脂外に平行に配列されたリードはその根元
と先端のピッチに差が生じることになる。
この狂いはリードカット(Cut)工程とリードフォー
ミング工程時にリード平坦性やリード曲りに大きな悪影
響を与える。本発明はこのような事情により成されたも
ので、リード平坦性やリード曲りなとを向上することを
目的とするものである。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 半導体素子に形成する電極に電気的に接続するリードと
、前記半導体素子を埋込む封止樹脂層と、前記封止樹脂
層から導出する前記リードの先端と付根のピッチを可変
にする点に本発明に係わる樹脂封止型半導体装置の特徴
がある。
(作用) 本発明に係わる樹脂封止型半導体装置ではリードフレー
ムの設計の段階でリードの先端と付根のピッチを変更し
ておき、樹脂封止後のピッチを揃えてリードの平坦性や
リード曲りなどを防止して品質を向上したものである。
(実施例) 本発明に係わる実施例を第5図乃至第7図を参照して説
明するが、理解を助けるために従来従来技術側に示した
ものと同一の部品にも新番号を184.208.232
.240.256及び304などのようにいわゆる多ピ
ン構造の半導体素子に特に好適する。しかもリード(ア
ウターリード)10長は5mm程度が標準であり、ピッ
チ(Pitch)は144.160ピンで0. 65゜
144.176.208ピンで0.5(第1図参照)、
184.232ピンで0.65,240.256.30
4ピンで0.5(第2図参照)のように成型されている
。第6図には本発明に係わる樹脂封止型半導体装置にお
けるリード10の平面図を第5図に示した従来のリード
10の平面図と対比して説明する。
ところで樹脂封止型半導体装置として利用する半導体素
子は従来技術側に記載した通りであり、封止樹脂として
は低応力樹脂と一般的なものがあり、その熱膨脹率α1
は前者が1.2〜1.7×10−5/’Cであり、後者
が1.7X10−”/’Cでこの樹脂の封止工程として
はいわゆるトランスファーモールド法により専用の機器
と金型により施され、第1図及び第2図における孔部4
が設置されていない部分Aからは専用の機器と金型の稼
働に伴って溶融封止樹脂が流入する。即ち、金型に形成
されるいわゆるキャビティ (Cav i t y)に
は被封止半導体素子か設置され、ここに連続して設置さ
れるゲート(Gate)を介して専用機器ポット(Po
t)−カル(CaQ)−ゲート−Aのパス(Path)
を経て溶融封止樹脂が流入後、キュアー(Cure)工
程を終えて所定の封止工程が完了する。
なお、リードフレームの材質としては鉄または鉄合金、
鉄ニツケル合金例えば42アロイ更に銅または同合金が
利用され、これらの材質のクラッド(CQad)製品も
当然使用可能である。
このような一連の封止工程では前記封止樹脂の膨脹収縮
が起こるので、第5図にあるように封止樹脂層11の根
元Bとリードの先端Cにおけるピッチに違いが発生する
ことになるのは前記の通りであり、この状態を示した平
面図を第5図に示した。図における封止樹脂層1−1に
近いリード10部分に見られる凸状部12は図示しない
ダム(D u m)部の除去工程の残りしろである。
しかし、本発明では第6図に明らかなように予めリード
フレーム13に形成するリード10の根元部Cと先端部
Bのピッチを封止樹脂層11の膨脹収縮に合せて補正す
る。即 ち、封止樹脂層11の収縮の方が大きい場合に
は根元部Cのピッチを先端部Bのそれより広げてしかも
所定のピッチとなるようにしておく。逆のリードフレー
ム13の収縮が大きい時には先端部Bのピッチが大きく
成型しておくことになる。補正量としては1ピツチ1μ
m程度であり、全体としては当然所定のピッチ数倍の調
整量が必要となる。
ところで図示しない被処理半導体素子は第4図に示した
ようにリードフレームに形成したリード10間を金属細
線をボンディング法により固定して電気的に接続してお
り、金属細線もリードフレームの材質に応じてAu、A
QまたはCuやCu合金を選定し、CuやCu合金製金
属細線のボンディングは、他のものより硬いために大き
な荷重により一体とする。第7図には樹脂封止後金型が
ら取出したリードフレームの一部を拡大して示した。
[発明の効果] このような処理を終えて狭ピッチ、多ピンかつ大型の外
囲器を利用した樹脂封止型半導体装置ではリードのピッ
チが一定となるので、リードカット、フォーミング工程
時に安定したリード平坦性や曲りが得られるので、実装
工程例えば表面実装工程が容易になり、量産上の効果が
大きいものである。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は従来のリードフレームの上面図、第
3図は第1図または第2図のリードフレームにマウント
した半導体素子に樹脂封止工程を施した後所定の工程を
経た樹脂封止型半導体素子の」二面図、第4図は第3図
に示した樹脂封止型半導体素子の断面図、第5図は従来
方法により樹脂封止したリードフレームの要部を示す図
、第6図は本発明により樹脂封止したリードフレームの
要部を示す図、第7図は第6図の一部を取出して示した
図である。 1.2.13:リードフレーム、 3.10:リード、    4:孔部、5.11:封止
樹脂層、 8:半導体素子、9:金属細線。 代理人  弁理士  大 胡 典 夫 ] 1 ] 2

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  半導体素子に形成する電極に電気的に接続するリード
    と、前記半導体素子を埋込む封止樹脂層と、前記封止樹
    脂層から導出する前記リードの先端と付根のピッチを樹
    脂の収縮に合せて補正ずみであることを特徴とする樹脂
    封止型半導体装置
JP21070090A 1990-08-09 1990-08-09 樹脂封止型半導体装置 Pending JPH0493056A (ja)

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JPH0493056A true JPH0493056A (ja) 1992-03-25

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