JPH0488177A - ほうろう製品の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明はほうろう製品およびその製造方法に関する。

〔従来の技術〕

金属板の表面をほうろう層で被覆したほうろうパネルは
、建物の壁面や天井面を形成する内外装用の建築パネル
として、多く用いられるようになった。このほうろうパ
ネルは耐久性に富み色調や光沢の劣化褪色が少ないとい
う長所を有するものであるが、一般にその表面は光沢に
冨むグロス質であるため、太陽光線等を受けてまぶしく
光り、建物の外装パネルとして用いた場合は通行人やド
ライバーの目をくらませる危険性がある。また反射光の
差によりほうろうパネル面の筋状あるいはうねり状の焼
成歪がはっきり見え、さらに近づいて見ると表面のこま
かい波肌状の凹凸が目立ち、フラット感に欠けるという
問題もあった。そこでこのグロス質のものに代って、表
面が艶消し状態を？するマット質のほうろう層を有する
建築パネルの生産が試みられている。この場合は、通常
のほうろうフリットにＴｉＯ２，８１０２。

Ａｌ２Ｏ３等の高融点材料を多口に添加してこれらの材
料の融点以下で焼成するか、ＴｌＯ２系の結晶性マット
抛によって艶消し状に仕上げるのが一般的であるが、大
サイズのほうろうパネルでは焼成温度のばらつきにより
光沢むらが生じ、均質な艶消し状態に仕上げるのが困難
であり、さらにほうろう層の表面がざらつき、耐食性お
よび耐汚染性が劣るという問題がある。

〔発明が解決しようとする課題〕

この発明は上記従来の問題点を解決するもので、均質な
艶消し面を有し、耐食性および耐汚染性もすぐれている
ほうろう製品およびその製造方法を提供しようとするも
のである。

（課題を解決するための手段〕 しかしてこの発明のほうろう製品は、金属基板上にほう
ろう層を設けたほうろう製品において、前記ほうろう層
の少なくとも表Ｉｆ部を、透明フリットまたは半透明フ
リットを主剤とする釉薬から成るほうろう層で構成する
とともに、このほうろう層の表面をブラスト加工による
光沢度３０％以下の艶消し面としたことを特徴とする。

またこの発明のほうろう製品の製造方法は、透明フリッ
トまたは半透明フリットを主剤とする釉薬を、金属基板
上に、 （ａ）直接施釉するか （ｂ）乳白釉を施釉した上に施釉するか（Ｃ）乳白釉を
施釉後焼成した上に施釉するか（ｄ）乳白釉を施釉後焼
成し、この上にインク状色釉を所定の模様に印刷後焼成
した上にＭｉ励するか した後に焼成し、得られたほうろう層の表面に研磨材を
吹付けて好ましくは研削代２０μｍ以下のブラスト加工
を施し、光沢度３０％以下の艶消し面を形成することを
特徴とする。

この発明において金属基板としては、鉄板、鋼板、アル
ミ板などの金属板をそのまま用いてもよいし、これらの
金属板上に下釉を施釉あるいは施釉後焼成したものを用
いてもよい。

この発明においてほうろう層を、透明フリットまたは半
透明フリットを主剤とする釉薬で形成するのは、良好な
耐食性を確保するためと、ブラスト加工によりスリガラ
ス状の半透明質の気泡の少ない艶消し面が得られやすい
からである。なお透明フリットまたは半透明フリットを
主剤とする釉薬は、顔料を含む色釉であってもよいし、
顔料を含まない透明釉あるいは半透明釉であってもよい
。

またこの発明においてほうろう層の表面の光沢度を３０
％以下とするのは、ほうろう表面が艶消し面状となつ−
【表面の焼成歪や凹凸が目立たなくなり、平坦で落着い
た外観が得られるためと、３０％を越えると太陽光等の
反射が強すぎて建物の外装材としては不適当な場合があ
るからである。

さらにこの発明の方法においてブラスト加工に用いる研
磨材としては、３０％以下の光沢度が得られるものであ
れば、各種材質および粒仔のものを用いることができる
が、特にたとえば＃２２０アランダム（商品名）のよう
に、粒径５０〜８０μｍ程度の微粒径の研磨材を用いる
と、ほうろう層に与える衝撃力が小さく、従って深い傷
や亀裂を生じることがなく、かつ表面粗さも４〜１０μ
ｍ程度に抑制できるので、ほうろう層の耐食性や耐汚染
性の低下を殆ど生じず、微小量の研削により小さい研削
代で低反射率の艶消し面を形成できるので、特に好まし
い。なお後述の実施例においては、表面粗さを４〜１０
μｍ程度としたが、一般に１４μＴｒＬ以下とするのが
好ましい。

またこの発明の方法においてブラスト加工の研削代を２
０μｍ以下にすることが好ましいが、その理由は、ほう
ろう層の表面を２０μｍを越える深さまで研削すると、
表皮部分には少なかったこまかい気泡が研削面に多数露
出するようになり、仕上面の外観がわるくなると共に、
耐汚染性も低下するからである。

〔作用〕

この発明のほうろう製品においては、透明フリットまた
は半透明フリットを主剤とする釉薬から成るほうろう層
の表面が艶消し面であるため、太陽光などを受けてもま
ぶしくな（、また表面の焼成歪や波肌状の凹凸が殆ど目
立たなくなり、平坦で落着いた外観を有するほうろう製
品が得られる。

またこの発明の方法によれば、ほうろう層の表面に研磨
材を吹付けてブラスト加工をおこなうという簡潔な工程
により、経済的にかつ能率よく艶消し面を有するほうろ
う製品を得ることができ、またブラスト加工により大サ
イズのパネルでも均質な低光沢面に仕上げることができ
る。またほうろう層は透明フリットまたは半乳濁フリッ
トを主剤とするうえ、ブラスト加工による研削表面は緻
密で気泡も少なく、耐食性や耐汚染性のすぐれたほうろ
う製品が得られる。

〔実施例〕

以下この発明の実施例および比較例を説明する。

先ず金属板として厚さ１．６履のほうろう用鋼板を１５
αＸ３０ａ＋の角板状に切断したものを用い、前処理と
して常法のアルカリ脱脂、酸洗、ニッケルデイツプ、中
和処理を施し、この上に一般的な黒糸下釉を厚さ１００
μｍ前後に施釉後焼成し、金属基板のテストピースとし
た。

次にほうろう用フリットとしては、第１表に示す組成と
成るように調合した原料を、１Ｋｇ用シャモット質ルツ
ボに投入し、１２５０℃の電気炉雰囲気中で６０分溶融
し、これを水槽に投入して急冷・乾燥したものを用いた
。このフリットを用いて、第２表に示す×３釉を除く弛
の釉薬は、同表に示す調合割合で原料の調合をおこない
、同表の調合量の２倍Ｍ（ｇ）を３００ｇポットミルに
投入し、ミル架台で１．５時間粉砕し、６０メツシユ篩
をオールパスしたものを、使用釉薬とした。また×３釉
は、フリット１００部と顔料５部とエタノール６０部を
３００９ボツトミルに入れて２時間粉砕し、２００メツ
シユ篩をオールパスしたものを、さらに乾燥してエタノ
ールを揮発させたのち、その乾粉５部とスクリーンオイ
ル１０部を混練したものを、スクリーンプロセス用ほう
ろうインクとして使用した。

上記の金属基板と釉薬を用いて、以下に示す組合せおよ
び工程によりほうろう製品の試料を得た。

以下その内容を説明する。なお各試料についておこなっ
た特性試験については後述する。

［実施例１］ 第１図に示すように、ほうろう用鋼板から成る金属板１
の両面に黒色の下釉ほうろう層２を設けた金属基板３の
一方の下釉ほうろう層２の上に、×１釉を約１００μｍ
の厚さに施釉し、８００℃で３分間焼成（以下他の実施
例も同じ）してほうろう層４を形成したのち、その表面
全面を下記条件でブラスト（サンドブラスト）加工し、
表面４ａから約２０！ｉｍの深さまでを研削除去し、そ
の後エア吹きにより清掃して、スリガラス状の均質な艶
消し面を有するほうろう製品を得た。

ブラスト加工条件（他の実施例も同じ）使用研磨材：＃
２２０微粒アランダム （商品名） 吹付圧カニ３に９／ｌ：ｉ 吹付距離：３０ｃｍ ［実施例２］ 第１図に示す金属基板３の一方の下釉ほうろう［１２の
上に、×２釉を約１００μｍの厚さに施釉後焼成してほ
うろう＠４を形成したのち、その表面全面をブラスト加
工し、表面４ａから約５μｍの深さまでを研削除去しエ
ア吹き清掃したところ、淡茶色のスリガラス状の均質な
艶消し面を有するほうろう製品が得られた。またこの艶
消し面に水打ちしたところ、ブラスト加工前の光沢に富
む茶色に近い色を呈した。

［実施例３１ 実施例１において、Ｘ１釉のかわりにＹ１釉を用い、そ
の他は実施例１と同条件で施釉焼成およびブラスト加工
をおこなったところ、実施例１と同様な艶消し面を有す
るほうろう製品が得られた。

［実施例４］ 実施例２において、Ｘ２釉のかわりにＹ２釉を用い、そ
の他は実施例２と同条件で施釉焼成およびブラスト加工
をおこなったところ、淡緑色のスリガラス状の均質なＬ
！消し面を有するほうろう製品が得られた。またこの艶
消し面上に水打ちしたところ、ブラスト加工前の光沢に
富む緑色に近い色を呈した。

［実施例５］ 第２図に示すように、金属基板３の一方の下釉ほうろう
層２の上に７釉を約１００μｍの厚さに施釉したのち、
その上にさらにＸ１釉を、約５０μｍの厚さに施釉後焼
成して、中間ほうろう層５とほうろう層６の２層のほう
ろう層を形成したのち、ブラスト加工によりほうろうＨ
６の表面６ａから約２０μｍの深さまでを研削除去し、
エア吹き清掃したところ、乳白質のスリガラス状の均質
な艶消し面を有するほうろう製品が得られた。

［実施例６］ 第３図に示すように、金属基板３の一方の下釉ほうろう
層２の上に、Ｚ釉を約１００μｍの厚さに施釉後焼成し
て中間ほうろう層７を形成し、次に予め幾何学的パター
ンにより製版化されたテトロン（商品名）類スクリーン
版とＸ３釉ほうろうインクを用いてスクリーン印刷によ
る施釉をおこない、焼成して厚さ約３０μｍの模様状ほ
うろう層８を形成した。さらにこの上にＸＩＮを約５０
μｍの厚さに施釉後焼成して、ほうろう層９を形成し、
このほうろう層９の表面９ａから約２０μｍの深さまで
をブラスト加工により研削除去し、エア吹き清掃したと
ころ、表面がスリガラス状を呈するほうろう層９の下に
幾何学的パターンをあられす模様状ほうろう層８が沈ん
でかつ透けて見える、趣向あるデザインのほうろう製品
が得られた。

［比較例１１ 金属基板３の下釉ほうろう層２の上に７釉を約１１００
Ｌ１の厚さに施釉後焼成してほうろう層を形成し、この
ほうろう層の表面全面をブラスト加工し、表面から約３
０μ扉の深さまで研削除去し、エア吹き清掃したところ
、はぼ均質な艶消し面を有するほうろう製品が得られた
が、後述のように耐酸性や耐汚染性など表面の物理的性
能の劣るものであった。

［比較例２］ 第４図に示すように、金属基板３の一方の下釉ほうろう
層２の上にＭ釉を約１００μｍの厚さに施釉後焼成して
、マット質ほうろう層１０をそなえた従来法による艶消
しほうろう製品を得、比較試料とした。艶消し状の表面
はざらつきがあり、端部に光沢むらがあるなど外観が劣
るうえ、後述のように耐酸性や耐汚染性などに欠点を有
するものであった。

［比較例３コ 実施例１において、Ｘ１釉の施釉焼成後にブラスト加工
をおこなわない、従来法による表面光沢に富むほうろう
製品を比較試料とした。

［比較例４］ 実施例６において、２釉の施釉焼成後にブラスト加工を
おこなわない、従来法による表面光沢に富むほうろう製
品を比較試料とした。

以上のようにして得られた各ほうろう製品試料に対して
、特性試験をおこなった結果を第３表にに示す。各特性
試験の内容は下記の通りであり、また◎印等の記号によ
る評価基準は第４表に示す通りである。なお比較例３お
よび４はグロス質のほうろう製品であるため、低光沢ほ
うろう製品としての総合評価の対象外としである。

（ａ）光沢度 ＪＩＳＺ−８７４１ｒ光沢度測定方法」により７５°鏡
面光沢測定法にて測定した。

（ｂ）表面粗さ Ｊ　ｌ５Ｂ−０６０１ｒ表面あらさ」により測定したＲ
ｍａｘ　　（単位：μｍ）を示す。

（Ｃ）表面外観 目視により光沢のむらを観察した。

（ｄ）腐食度 第５図に示すようにシリンダー型腐食度試験機１１のガ
ラス管１２の上下部に、ほうろう製品の試料１３と押え
板１４を、ゴムパツキン（内径＝８０ｍｓ＋＞１５を介
して積層して締め具１６により締付け、内部に供給した
水１７をヒータ１８により加熱して沸騰させ、約１００
℃の水蒸気に連続１５０時間接触させた上側の試料１３
について、試験前後の試料重量秤量値から、上記試験に
よる重最減量値（水蒸気との接触面１＊５０ｍに対する
重滲減暴の絶対値で、単位：ｍ９）を算出し、腐食度と
して評価した。

（ｅ）耐酸性 ＪＩｓＲ−４３０１Ｆほうろう製品の品質基準」により
判定した。（１０％クエンＨ１５分スポットテスト） （ｆ）耐候性 カーボンアーク式のウェザ−メータ試ｓｉを用いて１０
００時間照射し、東京地区で５年に相当する促進試験を
おこない、表面を目視観察した。

（ｇ＞耐汚染性 ほうろう白板（ホワイトボード）用の黒色のマーカーで
線書きしたものを乾布、湿布でこすって消去性を判定し
た。

（以下余白） 第３表および第４表から明らかなように、比較例のもの
は腐食度、耐酸性、耐候性、耐汚染性の点で問題があり
、さらに比較例２は表面外観も劣るものであるが、実施
例のものはこれらの点においてグロス質ほうろう製品に
近いすぐれた特性を示し、耐汚染性が若干低下する点を
除いては、本件発明におけるブラスト加工によっても特
性の低下がないことが確認された。

この発明は上記実施例に限定されるものではなく、たと
えばブラスト加工はほうろう層の全表面に対しておこな
わずに、たとえば帯状あるいは図形状等ほうろう層表面
の一部におこなうようにしてもよい。また上記実施例に
おいては金属板１上に下釉ほうろう層２を設けたが、こ
の下釉ほうろう層は省略してもよい。

〔発明の効果〕

以上説明したようにこの発明によれば、上釉ほうろう層
の上にブラスト加工を施すという簡潔な工程により、均
質な艶消し面を有し、平坦で落着いた外観を呈し耐食性
および耐汚染性もすぐれたほうろう製品を得ることがで
きる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の実施例１〜４および比較例１を示す
ほうろう製品の部分拡大模式断面図、第２図は同じ〈実
施例５を示す第１図相当図、第３図は同じ〈実施例６を
示す第１図相当図、第４図は比較例２を示す第１図相当
図、第５図は腐食度試験機の縦断面図である。 １・・・金属板、２・・・下釉ほうろう層、３・・・金
属基板、４・・・ほうろう層、４ａ・・・表面、５・・
・中間ほうろう層、６・・・ほうろう層、６ａ・・・表
面、７・・・中間ほうろう層、８・・・模様状ほうろう
層、９・・・ほうろう層、９ａ・・・表面。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. １．金属基板上にほうろう層を設けたほうろう製品にお
   いて、前記ほうろう層の少なくとも表層部を、透明フリ
   ットまたは半透明フリットを主剤とする釉薬から成るほ
   うろう層で構成するとともに、このほうろう層の表面を
   ブラスト加工による光沢度３０％以下の艶消し面とした
   ことを特徴とするほうろう製品。
2. ２．金属基板上に、透明フリットまたは半透明フリット
   を主剤とする釉薬を施釉後焼成し、得られたほうろう層
   の表面に研磨材を吹付けてブラスト加工を施し、光沢度
   ３０％以下の艶消し面を形成することを特徴とするほう
   ろう製品の製造方法。
3. ３．金属基板上に乳白釉を施釉し、この上に透明フリッ
   トまたは半透明フリットを主剤とする釉薬を施釉後焼成
   し、得られたほうろう層の表面に研磨材を吹付けてブラ
   スト加工を施し、光沢度３０％以下の艶消し面を形成す
   ることを特徴とするほうろう製品の製造方法。
4. ４．金属基板上に乳白釉を施釉後焼成し、この上に透明
   フリットまたは半透明フリットを主剤とする釉薬を施釉
   後焼成し、得られたほうろう層の表面に研磨材を吹付け
   てブラスト加工を施し、光沢度３０％以下の艶消し面を
   形成することを特徴とするほうろう製品の製造方法。
5. ５．金属基板上に乳白釉を施釉後焼成し、この上にイン
   ク状色釉を所定の模様に印刷後焼成し、この上に透明フ
   リットまたは半透明フリットを主剤とする釉薬を施釉後
   焼成し、得られたほうろう層の表面に研磨材を吹付けて
   ブラスト加工を施し、光沢度３０％以下の艶消し面を形
   成することを特徴とするほうろう製品の製造方法。