JPH0480585A - 真空加熱処理装置 - Google Patents

真空加熱処理装置

Info

Publication number
JPH0480585A
JPH0480585A JP19335790A JP19335790A JPH0480585A JP H0480585 A JPH0480585 A JP H0480585A JP 19335790 A JP19335790 A JP 19335790A JP 19335790 A JP19335790 A JP 19335790A JP H0480585 A JPH0480585 A JP H0480585A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
storage body
vacuum
container
processed
workpiece
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP19335790A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2659611B2 (ja
Inventor
Kenji Mitani
三谷 健司
Yuka Nakano
中野 由香
Tatsuhiro Nozue
辰裕 野末
Nobuo Hamano
浜野 亘男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP19335790A priority Critical patent/JP2659611B2/ja
Publication of JPH0480585A publication Critical patent/JPH0480585A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2659611B2 publication Critical patent/JP2659611B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、宇宙船・潜水艦・航空機などの有限の閉鎖空
間または家庭などから、排出される溶液中の有機物(食
料を含む)・無機物、生ゴミなどの被処理物を真空加熱
処理し、乾燥させ、その後に廃棄する真空加熱技術に関
し、特に、宇宙空間における無重力状態にも適用できる
真空加熱技術に関する。
[従来の技術] 真空加熱装置としては、特開昭61−197984号公
報、特開昭61−197985号公報;特開昭61.−
211202号公報、特開昭55−46332号公報に
記載の装置が知られている。
これらの従来技術に係る真空加熱装置は、地上の重力の
作用する環境において使用することを前提として製造さ
れている。
この真空加熱装置は、排出される被処理物を収納する容
器と、この容器内を減圧する真空ポンプと、ヒータまた
はマイクロ波などを用いて被処理物を加熱する加熱手段
と、を備えて構成されている。被処理物を収納し、真空
加熱処理する容器は可撓性ではなく、また、この容器は
繰返し使用される。
これらの従来技術のうち、特開昭61−197984号
公報、および特開昭61−197985号公報に記載の
装置は、被処理物を入れる容器(収納体という)と、そ
の収納体を収納する容器(外容器という)とを備え、少
なくともこの収納体を減圧し、被処理物を加熱処理して
いる。また、被処理物の出し入れは、同一の出し入れ口
から、手動で行なっている。
また、特開昭61−211202号公報記載の装置は、
真空容器であるマイクロ波遮蔽容器に、直接、被処理物
を入れるようになっている。
また、特開昭55−46332号公報に記載の真空乾燥
装置は、被処理物を入れる収納体と、その収納体を収納
する外容器とを備え、収納体内を真空排気し、被処理物
を加熱処理している。さらに、この収納体は、外容器か
ら自動着脱可能となっている。
[発明が解決しようとする課題] 上記従来技術に係る装置を、無重力状態において使用し
た場合においては、被処理物が収納されている容器内を
真空排気するとき、被処理物、特に、液体状の被処理物
が、無重力なので、真空排気のための配管に流入すると
いう問題がある。
また、被処理物を収納し、真空加熱処理を行なう容器の
容積に比へ、被処理物の容積が小さいときは、本来の真
空排気す尺き容積に比べ、実際に真空排気される容積が
大きくなるので、必要以上に能力の大きい排気手段が必
要であるという間厘がある。
また、被処理物を収納し、真空加熱処理を行なう容器は
繰返し使用され、この容器に真空加熱処理後の被処理物
が付着する場合があるので、非衛生的である。また、頻
繁に使用する場合においては、その容器を衛生的に保つ
ための清掃時間は、膨大なものであり、−回の使用ごと
に、この容器を廃棄処分することは不経済である。
さらに、真空加熱処理後の被処理物が、そのままの状態
で廃棄できないときは、他の廃棄可能な容器に移しかえ
た後に廃棄しなければならず、手間がかかる。
本発明の目的は、無重力状態においても、真空排気のた
めの配管に、被処理物が流入することなく、また、真空
排気手段に不必要な負荷をかけることなく真空加熱処理
が可能であり、また、繰返し使用される容器を汚すこと
のない衛生的てあり、自動操作可能な真空加熱処理装置
を堤供する二とにある。
[課題を解決するための手段] 上記目的は、高周波遮蔽容器内に設置される被処理物を
収納するための収納体を支持する手段と、この収納体の
中を真空排気する真空排気手段と、この収納体と真空排
気手段との間に配置される疎水性体とを備えて構成され
、被処理物は上記収納体の中において真空加熱処理され
る真空加熱処理装置により達成できる。
また、高周波遮蔽容器の中に配置された非可撓性材料を
用いて造られる非可撓性の収納体と、この非可撓性収納
体の中を真空排気する手段と、この非可撓性収納体の中
に配置される疎水性体を材料として造られる1以上の容
器と、この疎水性体を材料として造られる1以上の容器
の中に被処理物を搬入する被処理物搬入通路と、真空加
熱処理後の被処理物を排出する被処理物排出通路とを備
えと構成される真空加熱処理装置により達成できる。
[作 用] 本発明に係る真空加熱装置の作用について説明する。
この真空加熱装置は、地上において使用することもでき
るが、特に、宇宙船内などの無重力環境において使用す
るに適する。
まず、廃棄したい被処理物を収納体に収納後、高周波を
利用した被処理物加熱手段を用いて被処理物を加熱する
とともに、真空排気手段を用いて収納体内を減圧する。
この減圧の結果、被処理物に含まれる水分の沸点は低下
し、さらに、加熱により、水分の蒸発は起こりやすくな
る。その結果、被処理物は充分に乾燥する。
その後、この乾燥した被処理物を廃棄することにより、
真空加熱処理は終了する。
なお、収納体が収納されている外容器の内側は、被処理
物が収納されている可撓性の収納体内を除いて、はぼ大
気圧であるので、収納体の内部の圧力が低下するにとも
なって1分圧のために、被処理物の容積に応して収納体
の容積は小さくなる。
その結果、真空排気すべき容積は小さくなるので、真空
排気手段の負荷は減少する。
また、外容器は、高周波遮蔽材を使用して造っているの
で、高周波発振器から発生した高周波を遮蔽し、人間の
いる空間に高周波が漏洩することを防止でき、安全を確
保する。
また、収納体と真空排気管の接続部近傍に、疎水性体を
配置しているので、無重力状態においても、被処理物、
特に、液体が真空排気管に流入することを防止でき、真
空排気手段の故障発生を未然に防ぐ。
(以下 余白) [実施例] 次に、図面を用いて、本発明の実施例について説明する
第1図は1本発明の第1実施例である真空加熱装置を説
明するための説明図である。
この真空加熱装置は、同図に示すように、高周波、例え
ば、マイクロ波を遮蔽するマイクロ波遮蔽容器1である
外容器と、マイクロ波遮蔽容器1の側面に取り付けたマ
イクロ波発生器2などの高周波発振器と、マイクロ波遮
蔽容器1の一部に孔を開けて取付けたマイクロ波を伝え
る導波管3と。
マイクロ波遮蔽容器1の上部に取り付けた、被処理物2
0を収納している収納体1oを密閉するための蓋8と、
蓋8の一部に設けた真空排気ロアと、真空排気管6を介
して真空排気ロアと接続する真空ポンプ4などの真空排
気手段と5真空ポンプ4の排気口に接続した排気処理装
置5とを備えて構成されている。
また、マイクロ波遮蔽容器1の上部に、被処理物を収納
する収納体10を支持する支持部9を設け、可撓性の収
納体10として、例えば、樹脂または高分子化合物製の
ものを用いる。
さらに、蓋8には支持部9と同し形をしたリング状の溝
21を設け、蓋8を抑えつけることにより密閉する構造
とする。
なお、リング状の溝21を設ける代わりに、蓋8の一部
を分離し、その分離した部分を押さえ部8aとし、予め
破線22で示す位置に押さえ部8aを配置しておき、蓋
8を抑えつけることにより密閉する構造とすることもで
きる。
また、疎水性体8bを、蓋8の収納体10側表面に配置
する。この疎水性体8bは、少なくとも、真空排気ロア
付近には設けておく必要がある。
さらに、収納体10の上部周辺には、この収納体10を
密封するための密封手段11を設け、この密封手段11
を駆動するための密封手段駆動手段13を収納体10の
底部付近に設け、密封手段11と密封手段駆動手段13
からの駆動力を密封手段11に伝達する駆動力伝達手段
12を設置する。この密閉手段11については、第2〜
4図を用いて、後述する。
ここで、密封とは、真空加熱処理後に収納体の開口部を
加熱・溶融することにより閉じ、収納体の内部にある被
処理物が、外部に漏れないようにすることをいい、また
、密閉とは、収納体の内部を真空にするために、収納体
の開口部に蓋などをすることをいう。
収納体10の下方には、真空加熱処理後の被処理物2o
を真空加熱装置30の外部に取り出すための被処理物取
出手段14が設けられており、この被処理物取出手段1
4は、マイクロ波遮蔽容器1の一部を開閉可能にするこ
とにより、外部に運ばれる。
次に、本実施例に係る真空加熱装置30の作用について
説明する。
まず、真空加熱処理開始前に、収納体10を支持部9に
装着し、押さえ部8aを閉じて収納体10を固定する。
次に、被処理物20を収納体10に収納する。
被処理物20を収納後は、蓋8を閉じて収納体10の内
部を密閉する。
次に、真空ポンプ4を作動し収納体10の内部を真空排
気する。これにより、収納体10内の空気などは、真空
排気ロアから真空排気管6を通して排出される。また、
可撓性の収納体10は外圧により、被処理物20の体積
と同程度にまで収縮し、被処理物20は真空排気ロアの
近くまで引き上げられる。
上記の状態でマイクロ波発生装置2を作動し、導波管3
から被処理物20にマイクロ波を照射する。マイクロ波
を照射された被処理物20に含まれる水分は、周囲が減
圧されており、沸点が低下しているので低い温度で蒸発
を始める。
また、真空排気ロアに疎水性体8bを設置しているので
、水蒸気に混じって飛散する液滴(飛沫)などを捕える
ことができ、液滴などが真空排気ロアを通って真空排気
管6内に入り、さらに、真空ポンプ4にまで到達し、こ
れらの機器に故障が発生するのを防止でき、また、排気
を清浄化できる。
次に、発生した揮発性気体は、排気処理装置5を用いて
処理する。
排気処理装置5としては、活性炭などの吸着物質による
吸着、水槽や薬液槽の透過または水や薬液の噴霧等によ
る洗浄、触媒による物理化学的処理、熱や紫外線による
分解などが考えられる、次に、真空加熱処理が終了した
後の被処理物に取扱いについて説明する。
被処理物20が真空加熱により充分に乾燥した後、被処
理物20の温度が充分低下した段階で真空ポンプ4を止
めて、収納体10の内部を大気圧に戻す。
この操作により、被処理物20は真空排気ロアから遠ざ
かる。この状態で、密封手段駆動手段13を駆動するこ
とにより、駆動力伝達手段12を介して密封手段11は
駆動され、収納体10は密封される。
密封が完了した収納体10は、密封手段11およ支持部
9による支持を解除し、落下させ、被処理物取出機構1
4に収納した後、外部へ取り出し、廃棄する。
本実施例では、真空排気すべき容積を小さくし、だので
、真空ポンプ4の負荷を軽減でき、省電力が可能となる
という効果がある。
また、被処理物20を密封して廃棄するので、真空加熱
装置30内は汚れず、衛生的である。
また、被処理物20の畠し入れ口を、別個の物としたの
で、真空加熱処理後の被処理物20は自動的に落下させ
ることができ、自動化が可能になる。
次に、第1図に示す密封手段11のいくつかの具体的構
造および動作について、第2〜4図を用いて説明する。
同図は、第1図に示す真空加熱装置30を、図面におけ
る上からみた図の一部であり、収納体10の密封手段1
1の一例を説明するための説明図である。
収納体10の上部両側に棒状の2本の密封用シャフト3
1が配置されている。それぞれの密封用シャフト31は
、ヒータを内蔵しており、弾力性がある。
また、密封用シャフト端部111には、第1図に示す駆
動力伝達手段12が接続されており、密封用シャフト3
1は、この駆動力伝達手段12によって、互いに向かっ
て移動し、その結果、第2図の破線で示すように、2本
の密封用シャフトは収納体10をはさんで接触する。こ
の接触した状態において、密封用シャフト31に内臓し
たヒータで、収納体10の開口部付近を加熱・溶融し、
収納体10を密封する。
また、駆動力伝達手段12としては、4つの密封用シャ
フト端部111に、ひも状の物質32(例えば、ワイヤ
ロープ、ひもなど)を接続し、このひも状物質32を、
それぞれの密封用シャフト端部111の位置から、収納
体10をはさんで、マイクロ波遮蔽容器1側壁に設置し
た滑車33などの駆動力伝達手段を経由させ、密封手段
駆動手段13に接続したもの、および、密封用シャフト
端部111の各部に上記と逆方向にひも状の物質を配置
し、密封時には収納体10側にある密封用シャフト31
をひっばることにより密封させ、終了したら反対側をひ
っばることにより放した後、固定するものなどが考えら
れる。
また、ひも状の物質に代えて、バネなどの弾性圧着・引
張部材を用いて、収納体の開口部を密封することもでき
る。
さらに、他の駆動力伝達手段12の例としては。
密封時には、2本の密封用シャフト31を、互いに他の
密封用シャフトに向かって押しつけることができ、密封
が完了後は、2本の密封用シャフト31を、互い離して
固定するタイプのものがある。
上記の例によれば、収納体10の密封手段11の自動化
が可能である。
次に、他の密封手段11の構造及び動作の一例について
、第3図を用いて説明する。
第3図は、第1図における密封手段11の一例であり、
第1図に示す真空加熱装置30を、図面における上から
みた図の一部であり、収納体10の密封手段11を説明
するための説明図である。
同図に示すように、収納体10の両側にわん曲した2本
の密封用シャフト411が配置されている。
密封用シャフト411は、弾力性物質から造られ、ヒー
タを内臓しており、力がかからない状態では、同図の破
線412で示すように、−直線になり、力を加えたとき
は、弧状になるような構造である。
また、固定端112は、2本の密封用シャフト411の
両端を一体に固定するものであり、固定方法としては、
蝶番などのような固定角度を自在に変化する固定物また
は、溶着、圧着、接着、密着等の方法で、両端を固定し
、固定端付近を弾性変形させることにより開閉する方法
などがある。
また、被処理物を収納体10に収納するときは。
密封用シャフト411の中央部に接続した駆動力伝達手
段12(図示せず)により密封用シャフト411を引っ
張ることにより、2本の密封用シャフト411が第3図
に示す実線状ととなるようにする。
逆に、収納体10を密封する時には、能動力伝達手段1
2をゆるめ、収納体10をはさんで接触するようにする
。この接触した状態で、密封用シャフト411に内臓し
たヒータを用いて、収納体10の上部を加熱・溶融し、
収納体10を密封する。
能動力伝達手段12としては、2つの固定部112を、
互いに他の方へ押しつけることにより密封用シャフト4
11を開き、密封するときには、能動力伝達手段12を
ゆるめるようにする構造もある。
一方、密封用シャフト411は、上記の構造とは逆に、
力がかからない状態で弧状になり、力を加えたとき一直
線になる構造にものもある。
このような構造では、密封時には密封用シャフト411
の中央部に能動力伝達手段12(図示せず)が接続し、
密封用シャフト411を押しつけて、収納体10をはさ
んで接触するようにする。
また、被処理物を収納体10に収納するときは、駆動力
伝達手段12をゆるめ、2本の密封用シャフトは、第3
図に示す実線状になるようにする。
また、密封用シャフトを加熱し、収納体10を溶融する
方法として、ヒータ以外に、渦電流に上る加熱、マイク
ロ波加熱、高周波加熱、超音波加熱等が考えられる。
上記の例によれば、収納体10の密封手段11が自動化
可能になるだけでなく、原動力伝達手段12の機構が簡
略でき、また小型にすることが可能となる。
次に、第1図に示す密封手段11の他の構造および動作
の一例を、第4図を用いて説明する。
第4図は、第1図に示す密封手段11の他の一例であり
、収納体10の周囲に密封手段11であるひも状の物質
210が配置されている。
このひも状の物質210の一端は、移動端202とつな
がっており、収納体10の周囲に設けられたガイド22
0に沿って移動する。
ひも状の物質210はひも状物質の供給部201から供
給されると同時に、移動端202が収納体1oの周囲を
ガイド220に沿って、−周または複数局する。
次に、ひも状の物質の一端を供給部201から切り離し
、収納体の上部10aを閉した状態で、ひも状の物質を
結合する。この結合の方法としては、溶着、圧着、粘着
、接着、締結等が考えられる。
こ二で、第4図に示す手段を用いて収納体の上部10a
を密封する方法として、ひも状の物質に加熱手段を設け
、収納体10を、−8融して密封することもできる。
上記の例によれば、収納体10を密封するための部分を
小さくすることができるので、被処理物20の取扱いが
容易になる。
次に、第1図に示す支持部9の支持を解除する方法の一
例を、第5図を用いて示す。
第5図は、支持部9の支持を解除する手段の一例であり
、処理中は、マイクロ波遮蔽容器1の上部開口部付近に
、リング状に支持部9を取り付けており、収納体10の
上の部分をはさんで、蓋8の円周状の溝と密着し、収納
体10を支持している。
真空加熱処理が終了後、収納体1oは上記したように密
封され、その後に、支持部9は鎖線で示す9aの位置に
移動する。
これにより収納体10の支持が開放されるので、収納体
10は自重で下方に落下する。
上記の例によれば、収納体10の着脱が容易になり、ま
た、自動化が可能となる。
また、被処理物数比手段を、例えば、真空状態にして送
るゴミ収集システムの端末として使うこともてきる。
次に本発明の第2実施例を、第6図を用いて説明する。
第6図は、本発明の第2実施例である真空加熱装置を説
明するための説明図である。
本実施例に係る真空加熱装置550の基本的構成は、第
1実施例に係る真空加熱装置30の構成と同じであるの
で、その説明は省略する。
本実施例の特徴的な構造について、第6図を用いて説明
する。
本実施例においては、真空排気口507を蓋8を貫通さ
せ、収納体10の中にまで挿入している二とか特徴であ
り、真空排気のために、収納体10の口を密閉する手段
は、密閉手段530を用いている。
上記の構成としたことにより、第1図の実施例における
支持部9は必ずしも必要ではない。
また、真空排気ロアに疎水性体551を設置しておけば
、水蒸気に混じって飛散する液滴(飛沫)などを捕らえ
ることができ、排気を清浄化できる。
本実施例において、被処理物を処理する場合は、収納体
10を密閉手段530に装着し、被処理物20を収納す
る。被処理物20収納後は、密閉手段530により収納
体10の開口部を密閉する。
密閉後の真空加熱処理は、第1実施例と同様であるので
、その説明は省略する。
本実施例は、収納体10の奥まで真空排気口507が入
りこむので、被処理物20を均一に乾燥できる。
次に、密閉手段530の例を、第7図を用いて説明する
同図は、第6図に示す真空加熱装置550を、図面にお
ける上からみた図の一部であり、収納体10の密閉手段
530を説明するための説明図である。
この密閉手段530の基本的構成は、第3図に示す密封
手段の構成と同じであるので、その説明は省略する。
この密閉手段530の特徴は、真空排気口507が収納
体10の奥まで入り込んでいるので、密閉時には、その
真空排気管6を挾むことができる形状になっていること
に特徴がある。
すなわち、2本の密閉用シャフト531により。
収納体10の上部を密閉した状態において、真空排気口
507を挾むことができるように、真空排気口507の
外径と同じ径の半円状のくぼみを2本の密閉用シャフト
530にそれぞれ設けたことが特徴である。
なお、この2本の密閉用シャフト531の材料および作
用などは、第3図に示す例と同じなので、その説明は省
略する。
この例の密閉手段によれば、収納体10の密閉が容易で
あり、また、自動化が可能である。
次に、第6図の密閉手段530の他の例について、第8
図を用いて説明する。
第8図は、第6図に示す真空加熱装置550を、図面に
おける上からみた図の一部であり、収納体10の密閉手
段530の一例を説明するための説明図である。
この密閉手段530は、2本の密閉用シャフト630と
、この密閉用シャフト630を互いに向かって移動させ
る能動力伝達手段(図示せず)を備えて構成されている
被処理物20を収納するときは、第6図に示すように、
収納体10の上端部付近を、2本の密閉用シャフト63
0の外周に巻いてこの収納体10を支持する。
なお、収納体10の上部を密閉した状態において、真空
排気口507を挾むことができるように。
真空排気口507の外径と同じ径の半円状のくぼみを2
本の密閉用シャフト630にそれぞれ設けている。
また、密閉用シャフト630は2本の弾力性物質を材料
とする。
また、4つの密閉用シャフト端部612には駆動力伝達
手段が接続され、これにより、2本の密閉用シャフト6
30は移動され、収納体10をはさんで接触する。この
状態で、収納体10の口を真空排気ロアの周囲で密閉す
る。
上記の駆動力伝達手段とその作用とは第2図に示すもの
と同様であるので、その説明は省略する。
この例による密閉手段によれば、収納体10の上部付近
を真空排気口507の周辺に巻きつけるので、密閉性が
向上する。
次に、密閉手段30他の例を、第9図を用いて説明する
同図は、第6図に示す真空加熱装置550を、図面にお
ける上からみた図の一部であり、収納体10の密閉手段
530の一例を説明するための説明図である。
この密閉手段530の一例の基本構成は、第4図に示す
密封手段の構成と同じであるので、その説明は省略する
本実施例の特徴は1直空排気口507が収納体10の奥
まで入り込んでいるので、密閉時には、ひも状物質71
0を真空排気管6の周囲を取り巻くようにして密閉する
本例のその他の作用は第4図に示す作用とほぼ同しであ
るので、その説明は省略する。
被処理物20を真空加熱処理し、乾燥後は、第1実施例
で説明した密封手段を用いて密封することができる。
また1本実施例で説明した密閉手段に、ヒータなどを内
蔵して、第1実施例で説明した各種密封手段と同じにす
ることができ、密閉手段と密封手段とを兼用にすること
ができる。
(以下 余白) 次に本発明の第3実施例について、第10図を用いて説
明する。
第10図は、本発明の第3実施例である真空加熱装置9
00を説明するための説明図である。
この真空加熱装置900の基本的構成は、第1図に示し
た真空加熱装置30と同しであるので、その説明は省略
する。
本実施例の特徴は、収納体10と真空排気口907の位
置とにあるので、それらについて説明する6 同図に示すように、真空排気口907は収納体10の上
部側面に接続される。この接続は、例えば、ジャバラ式
配管などにより行なう。
また、真空加熱処理中は、密閉手段930により収納体
10の口を密閉する。
この密閉手段930は、第2実施例の密閉手段とほぼ同
じものを用いるが、第2実施例のように真空排気管が収
納体910の奥まで入り込まないので、真空排気管の外
径と同じ径の半円状のくぼみは必要ない。
また、収納体910の下部に、被処理物初出手段931
を設け、処理中は、この被処理物排出手段931を密閉
して、密閉性を保つようにする。
また、真空排気口907に疎水性体901を設置し、水
蒸気に混じって飛散する液滴(飛沫)などを捕らえ、排
気を清浄化する。
また、真空排気中に真空排気ロアの周辺だけが局所的に
真空となることを避けるため、収納体910の内側に空
気流通用の突起5Xを設ける。
被処理物20を供給する場合、蓋908と連動させた密
閉手段930を開は供給する。
次に、本実施例の作用について説明する。
被処理物20投入後は、蓋908および密閉手段930
を閉じ、収納体10の内部を密閉する。
次に、この状態で真空加熱処理を行なう。
被処理物20が充分に乾燥したら、被処理物20の温度
が充分低下した段階で、真空ポンプ4を止めて、収納体
910の内部を大気圧に戻す。
次に、被処理物排出手段931を開気、被処理物20を
被処理物取出手段14に入れ、外部に取り出す。
本実施例によれば、被処理物だけを、直接、出し入れで
きるので、密封手段が不要となり、装置を簡略化するこ
とができる。
次に、本発明の第4実施例について、第11図を用いて
説明する。
第11図は、本実施例に係る真空加熱装置100’Oを
説明するための説明図である。
本実施例に係る装置は、被処理物が液体である場合に、
特に、有効な装置である。
この装置の基本的構成は第1図に示す第1実施例の真空
加熱装置の構成と同じであるので、その説明は省略する
次に、本実施例の装置の特徴的な部分について第11図
を用いて説明する。
同図に示すように、真空排気口1007を収納体101
0の上部側面に接続し、密閉手段1030を用いて、収
納体1010の口を密閉する構成とする。
また、収納体1010の下部には、被処理物排出手段1
031を設け、この排出手段L O:’31は真空加熱
処理中は閉じておき、収納体↓010の密閉性を保つよ
うにする。
また、蓋1008の一部を貫通して、被処理物搬入管1
063を収納体101oの中に入れる。
被処理物搬入管1063の収納体1010内の先端の接
合部1061には、疎水性体を用いて造られた内装1o
62が装着される。
なお、密閉手段30には、被処理物搬入管1063の外
径とほぼ同じ径の半円状のくぼみが必要である。
さらに、真空排気中に真空排気口1007の周辺だけが
真空となることを避けるため、収納体1010の内側に
空気流通用の突起1051を設ける。
次に、この装置を使用して、被処理物を真空加熱処理す
る場合について説明する。
まず、接合部1061に内装1062を装着した後、蓋
1008および密閉手段1030を閉じる。
次に、被処理物を被処理物搬入管1063から搬入し、
被処理物搬入管1063の内装1062側の先端付近を
閉鎖する。
次に、マイクロ波を発生させ、加熱乾燥処理を行う。
被処理物が充分に乾燥したら、内装1062の温度が充
分低下した段階で、真空ポンプ4を止めて収納体10の
内部を大気圧に戻す。
被処理物排出手段1031を開くと同時に、接合部10
61を切離し、内装1062を被処理物取出手段1o1
4に排出する。
本実施例に係る装置によれば、疎水性体の内装1062
を用いているので、液体状のものを効率良く加熱乾燥処
理し、廃棄することができる。
次に1本発明の第5実施例について、第12図を用いて
説明する。
第12図は、本実施例に係る真空加熱装置2000を説
明するための説明図である。
この装置の基本構成は第1図に示した真空加熱装置の構
成と同じであるので、その説明は省略する。
本実施例の装置の特徴は、収納体が非可撓性であるとい
う点である。
次に、この非可撓性収納体2101に関連する部分につ
いて説明する。
真空排気管6は、第1図に示した第1実施例と同様に、
蓋2008の一部を貫通させて、非可撓性収納体210
1の内部を真空排気可能になるように接続する。
また、非可撓性収納体2101の底部は、密封とするこ
ともできるが、第12図に示すように。
バネ2001などの復元手段を用いて開閉可能な開閉底
70とすることもできる。
また、収納体2101内の被処理物(図示せず)を無重
力状態において、被処理物取出手段2014内へ落下さ
せるため、同図に示すように、真空排気管6には、バル
ブ2200を介して、コンプレッサ2o10が接続され
ている。
真空排気口2007には、疎水性体2400が設けられ
ている。
次に、この装置2000を使用して、被処理物を真空加
熱処理する場合について説明する。
非可撓性収納体2101に被処理物を投入し、M2O0
8を閉し、真空加熱処理を行なう。
真空加熱処理中においては、真空排気管6は、バルブ2
300を介して、真空ポンプ4とだけ、接続しており、
コンプレッサ2010と真空排気管6との接続は、バル
ブ2200により、閉じた状態となっている。
被処理物が充分に乾燥し、被処理物の温度が充分低下し
た段階で、真空ポンプ4を止めて非可撓性収納体210
1内の圧力を大気圧に戻す。
次に、真空ポンプ4と真空排気管6との接続は、バルブ
2300を閉じて、閉じた状態とする。
次に、コンプレッサ2010を作動し、バルブ2200
を開け、真空排気管6をコンプレッサ2010と接続し
、収納体2101内の圧力を上げる。
この圧力の作用により、開閉底2070を、バネ200
1の作用に逆らって開き、被処理物を被処理物取出手段
14に収納し、外部に廃棄する。
その後、コンプレッサ2010の作動を停止し、開閉底
2070を閉しる。
本実施例に係る装置2000によれば、収納体を非可撓
性のものとしたので、可撓性収納体の場合に生しる可能
性があるピンホールによる真空度の低下を避けることが
できる。
また、被処理物を、直接、出し入れできるので、装置が
簡略にできる。
疎水性体2400を設けた効果は、他の実施例と同じで
あるので、説明は省略する。
次に1本発明の第6実施例について、第13図を用いて
説明する。
第13図は、本実施例に係る真空加熱装置3000を説
明するための説明図である。
本実施例の特徴は、非可撓性収納体3101と可撓性収
納体3010とを組合せたところにある。
本実施例の構成は、上記のように、非可撓性収納体31
01と可撓性収納体301oとを組合せた以外は、第5
実施例に係る装置の構成と同じであるので、その説明は
省略する。
また、真空加熱処理の手順も、第5実施例に係る装置の
場合と同様なので、その説明は省略する。
次に、非可撓性収納体3101と可撓性収納体3010
とを組合せた効果を示す。
本実施例によれば、可撓性収納体を使用するので、真空
吸引の範囲を小さくすることができ、また、もし、可撓
性収納体にピンホールなどが生じた場合でも、非可撓性
収納体を備えているので、ピンホールなどによる真空度
の低下を防止することができる。
次に、本発明の第7実施例について、第14.15図を
用いて説明する。
第14図は、本実施例に係る真空加熱処理装置4000
を説明するための説明図である。
この装置は、特に、被処理物が液体状である場合に有効
である。
本実施例に係る装置400oの構造について説明する。
この装置4000の基本的構成は、被処理物を収納する
容器以外は、第1図に示す装置の構成とほぼ同しである
ので、その説明は省略する。
次に、被処理物を収納する容器について説明する。
同図に示すように、被処理物を収納する容器は、非可撓
性収納体4105と、その中に設けられた疎水性多孔質
チューブ4106などの疎水性体を用いて造られる容器
とから構成される。
管状の疎水性体チューブ4106の下方端は、被処理物
は搬入されるときは開かれ、搬入後は閉じるようなって
おり、また、上方の端は、後述するブラシ駆動部408
1に接触している。
また、被処理物は、非可撓性収納体4105の下の部分
に、搬入弁4631を介して設けられた被処理物搬入管
4063などの被処理物搬入通路から、疎水性体チュー
ブ4106内へ搬入される。
また、真空排気管6は、真空排気ロアを介して、非可撓
性収納体4105に接続される。
また、非可撓性収納体4105の下の部分には、真空加
熱処理が終了した被処理物を排出する被処理物排出管4
064などの被処理物排出通路が設けられており、排出
弁4641を介して、被処理物取り出し手段14の中に
、被処理物を排出するようになっている− また、疎水性体チューブ4106の上方端には。
管の軸に沿った方向に回転しながら移動するチューブ内
面清掃用のブラシ4080があり、このブラシ4080
は、ブラシ駆動部4081と接続している。
次に、この装置を用いて被処理物を真空加熱処理する場
合について説明する。
真空加熱処理を行なう場合には、まず、排出弁4641
を閉じ、搬入弁4631を開く。
次に、被処理物を被処理物搬入管4063から搬入し、
搬入弁4631を閉鎖する。
次に、真空加熱処理を行なう。この処理は、上記の他の
実施例と同じなので、その説明は省略する。
また、真空加熱処理中は、ブラシ408oは上方端に押
しつけられており、容器内の密封性は保たれている。
被処理物か充分に乾燥し、被処理物の温度か充分低下し
た段階で、真空ボシプ4を止めて非可撓性収納体410
5の内部を大気圧に戻す。
次に、排出弁4641を開くと同時に、ブラシ4080
を回転させながら疎水性体チューフ4106の軸に沿っ
た方向に移動させ、疎水性体チューブ4106内部に付
着した乾燥している被処理物を被処理物排出管4064
から、被処理物取出手段14に排出する。
なお、疎水性体チューブ4106の上方端から、空気を
吹き出すことによって、被処理物はより早く排出される
次に、第15図を用いて、ブラシ踵動部4081の詳細
について説明する。
第15図は、ブラシ駆動部4081の詳細を説明するた
めの説明図である。
このブラシ配動部4081は、ブラシ即動軸813を介
してブラシ4080を上下・回転させるブラシ駆動モー
タ811と、疎水性体チューブ4106内に風を送る送
風機812とを備えて構成されており、ブラシ4080
は使用されないときは、端板815とシール814など
を介して接している。
ブラシ4080は、乾燥処理中は端板815に押しつけ
られ、シール814により密封を保つ。
真空加熱処理が終了した場合は、ブラシ駆動モータ81
1によって、ブラシ4o80は回転し、ブラシ即動軸8
13が伸縮するか、または、軸方向に移動することによ
って、同図に破線4090で示すように、軸方向に移動
する。
この間、送風機812にから、空気をシール814の穴
を通して、チューブ内に送風することにより被処理物を
排出する。
本実施例の装置によれば、液体状の被処理物を無重力環
境でも、効率良く加熱乾燥することができる。
また、疎水性体チューブ4106を使用するので、液体
を連続的に加熱乾燥処理でき、自動化が可能となる。
また、ブラシ4080およびブラシ呼動部4081によ
って、疎水性体チューブ、4106内の汚れを自動的に
清掃することができる。
[発明の効果] 以上に説明したように、本発明によれば、真空排気すべ
き容積を小さくすることが可能なので、真空ポンプの負
荷を軽減できる。このため省電力化が可能となる。
また、被処理物を密封して出し入れすることにより被処
理物を容器に付着させること無く出し入れすることがで
き、このため衛生が保たれる。
さらに、被処理物を入れた容器を二重化することにより
、一方の容器が破損しても真空度が低下しない。このた
め、信頼性が向上する。
さらに、被処理物の出し入れを別の口から行なうことに
より被処理物を自動的に落下させることができので、装
置を自動化することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1実施例である真空加熱装置を説明
するための説明図、第2図は第1図に示す密封手段の一
例を示す説明図、第3図は第1図に示す密封手段の一例
を示す説明図、第4図は第1図に示す密封手段の一例を
示す説明図、第5図は第1図に示す支持部を解除する装
置を説明するための説明図、第6図は本発明の第2実施
例である真空加熱装置を説明するための説明図、第7図
は第6図に示す密閉手段の一例を示す説明図、第8図は
第6図に示す密閉手段の一例を示す説明図、第9図は第
6図に示す密閉手段の一例を示す説明図、第10図は本
発明の第3実施例である真空加熱装置を説明するための
説明図、第11図は本発明の第4実施例である真空加熱
装置を説明するための説明図、第12図は本発明の第5
実施例である真空加熱装置を説明するための説明図、第
13図は本発明の第6実施例である真空加熱装置を説明
するための説明図、第14図は本発明の第7実施例であ
る真空加熱装置を説明するための説明図、第15図は第
7実施例のブラシ駆動部を説明するための説明図である
。 1 マイクロ波遮蔽容器、2 マイクロ波発生装置、3
・導波管、4・真空ポンプ、5・排気処理装置、6 真
空排気管、7・・真空排気口、8・蓋、8a・・押さえ
部、8b・・疎水性体、9 支持部、10・・収納体、
11・密封手段、12・倣動力伝達手段、13・・・密
封手段能動手段、1.4 被処理物取出手段、20・・
被処理物、111・密封用シャフト端部、112・・・
固定端、201・・ひも状物質の供給部、202・・移
動端、210・ひも状の物質、220・・・ガイド、9
51・・・空気抜き用突起、4106・・疎水性体チュ
ーブ、4064被処理物排出管、4631・・・搬入弁
、4641・排出弁、4080・・ブラシ、4081・
・・ブラシ駆動部、4811・・・ブラシ駆動モータ、
4812送風機、4813・・・ブラシ駆動軸、814
・・・シール、815・・・端板。 呂願人 株式会社 日立製作所

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、高周波遮蔽容器と、この高周波遮蔽容器内に収納し
    た被処理物を加熱するための高周波発振器とを備えて構
    成される真空加熱処理装置において、 上記高周波遮蔽容器内に被処理物を収納するための収納
    体を取付け可能な手段と、この収納体の中を真空排気す
    る真空排気手段と、この収納体と真空排気手段との間に
    配置される疎水性体とを備えて構成され、この収納体を
    取付けたときは、2重構造となることを特徴とする真空
    加熱処理装置。 2、上記収納体は、非導電性かつ高周波透過性を有する
    可撓性材料を用いて造られることを特徴とする請求項1
    記載の真空加熱処理装置。 3、被処理物を投入する上記収納体の開口部を、真空加
    熱処理中には密閉する密閉手段を備えて構成されること
    を特徴とする請求項1または2記載の真空加熱処理装置
    。 4、上記真空排気手段と上記収納体とは、真空排気管を
    介して、連通されていることを特徴とする請求項1、2
    または3記載の真空加熱処理装置。 5、被処理物を投入する上記収納体の開口部を、真空加
    熱処理後には密封処理する密封手段を備えて構成される
    ことを特徴とする請求項1、2、3または4記載の真空
    加熱処理装置。 6、高周波遮蔽容器と、この高周波遮蔽容器内に収納し
    た被処理物を加熱するための高周波発振器とを備えて構
    成される真空加熱処理装置において、 上記高周波遮蔽容器内に被処理物を収納するための疎水
    性体からなる内装を設ける手段と、この内装に直結され
    る被処理物を搬入するための被処理物搬入手段と、高周
    波遮蔽容器内に配置されるこの内装を収納する収納体と
    、この収納体の中を真空排気する真空排気手段とを備え
    て構成され、この内装を取付けたときは3重構造となる
    ことを特徴とする真空加熱処理装置。 7、高周波遮蔽容器と、この高周波遮蔽容器内に収納し
    た被処理物を加熱するための高周波発振器とを備えて構
    成される真空加熱処理置において、 高周波遮蔽容器内に配置した被処理物を収納し、真空加
    熱処理するための収納体と、この収納体の中を真空排気
    する手段と、この収納体の外部に配置した加圧装置から
    の圧力により、この収納体の底は開閉自在であることを
    特徴とする真空加熱処理装置。 8、上記収納体の中に、可撓性材料を用いて造られる収
    納体を備え、真空加熱装置を3重構造とし、この収納体
    の中において被処理物を真空加熱処理することを特徴と
    する請求項7記載の真空加熱装置。 9、高周波遮蔽容器と、この高周波遮蔽容器内に収納し
    た被処理物を加熱するための高周波発振器とを備えて構
    成される真空加熱処理置において、 上記高周波遮蔽容器の中に配置された被処理物を収納す
    る収納体と、この収納体の中を真空排気する手段と、こ
    の収納体の中に配置される疎水性体を材料として造られ
    る1以上の容器と、この疎水性体を材料として造られる
    1以上の容器の中に被処理物を搬入する被処理物搬入通
    路と、真空加熱処理後の被処理物を排出する被処理物排
    出通路とを、備えて構成されることを特徴とする真空加
    熱処理装置。 10、上記疎水性体を材料として造られる1以上の容器
    の中には、その容器の内壁をクリーニングする手段を備
    えていることを特徴とする請求項9記載の真空加熱装置
JP19335790A 1990-07-20 1990-07-20 真空加熱処理装置 Expired - Lifetime JP2659611B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19335790A JP2659611B2 (ja) 1990-07-20 1990-07-20 真空加熱処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19335790A JP2659611B2 (ja) 1990-07-20 1990-07-20 真空加熱処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0480585A true JPH0480585A (ja) 1992-03-13
JP2659611B2 JP2659611B2 (ja) 1997-09-30

Family

ID=16306568

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19335790A Expired - Lifetime JP2659611B2 (ja) 1990-07-20 1990-07-20 真空加熱処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2659611B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008292102A (ja) * 2007-05-28 2008-12-04 Kobelco Eco-Solutions Co Ltd 容器回転型混合乾燥機

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008292102A (ja) * 2007-05-28 2008-12-04 Kobelco Eco-Solutions Co Ltd 容器回転型混合乾燥機

Also Published As

Publication number Publication date
JP2659611B2 (ja) 1997-09-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1211087A (en) Method and apparatus for the packaging of contaminated waste materials
KR100452178B1 (ko) 분사시스템,가스또는증기방출방법,패키지이송시스템과이송방법,및살균시스템과물품살균방법
US5236512A (en) Method and apparatus for cleaning surfaces with plasma
KR0131171B1 (ko) 기판의 세정 및 건조장치
JP4097717B2 (ja) プラズマエンハンスド真空殺菌法、プラズマエンハンスド真空排気法、及びプラズマエンハンスド真空乾燥法
US5509956A (en) Regenerative apparatus for recovery of volatiles
US20050224493A1 (en) Microwave-assisted steam sterilization of dental and surgical instruments
JPH10192375A (ja) 滅菌容器システム及び滅菌方法
JP4623715B2 (ja) 基板搬送機構及び該基板搬送機構を備える基板搬送装置
JPH0480585A (ja) 真空加熱処理装置
JP4060172B2 (ja) 医療廃棄物処理装置
US6348174B1 (en) Biohazardous waste source sterilizer system and processing method
US20080083749A1 (en) Method and apparatus for the dehydration and/or sterilization of organic materials
JPH08503864A (ja) 好ましくは廃棄物のような固形の材料、特に汚染除去を行うための処理装置
EP1391253A1 (en) Device and method for removal of harmful substance
WO2008025134A1 (en) Method and apparatus for the dehydration and/or sterilization of organic materials
JP4031260B2 (ja) 固形物の殺菌方法及び殺菌装置
CN115432704A (zh) 无客体硅包合物的制造方法和无客体硅包合物的制造装置
JP6809745B1 (ja) プラズマ処理装置
RU2116680C1 (ru) Установка для дезактивации жидких радиоактивных отходов
GB2320247A (en) Treating materials, especially medical wastes
JP3448315B2 (ja) 放射性汚染廃棄物用マイクロ波乾燥方法及び装置
JPH0787897B2 (ja) ベーキング方法及び装置
JPH11267185A (ja) 蒸気滅菌装置の運転制御方法およびその装置
JP2004160350A (ja) Pcb汚染物の除染装置