JP2659611B2 - 真空加熱処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、宇宙船・潜水艦・航空機などの有限の閉鎖
空間または家庭などから、排出される溶液中の有機物
（食料を含む）・無機物・生ゴミなどの被処理物を真空
加熱処理し、乾燥させ、その後に廃棄する真空加熱技術
に関し、特に、宇宙空間における無重力状態にも適用で
きる真空加熱技術に関する。

［従来の技術］ 真空加熱装置としては、特開昭61−197984号公報、特
開昭61−197985号公報、特開昭61−211202号公報、特開
昭55−46332号公報に記載の装置が知られている。

これらの従来技術に係る真空加熱装置は、地上の重力
の作用する環境において使用することを前提として製造
されている。

この真空加熱装置は、排出される被処理物を収納する
容器と、この容器内を減圧する真空ポンプと、ヒータま
たはマイクロ波などを用いて被処理物を加熱する加熱手
段と、を備えて構成されている。被処理物を収納し、真
空加熱処理する容器は可撓性ではなく、また、この容器
は繰返し使用される。

これらの従来技術のうち、特開昭61−197984号公報、
および特開昭61−197985号公報に記載の装置は、被処理
物を入れる容器（収納体という）と、その収納体を収納
する容器（外容器という）とを備え、少なくともこの収
納体を減圧し、被処理物を加熱処理している。また、被
処理物の出し入れは、同一の出し入れ口から、手動で行
なっている。

また、特開昭61−211202号公報記載の装置は、真空容
器であるマイクロ波遮蔽容器に、直接、被処理物を入れ
るようになっている。

また、特開昭55−46332号公報に記載の真空乾燥装置
は、被処理物を入れる収納体と、その収納体を収納する
外容器とを備え、収納体内を真空排気し、被処理物を加
熱処理している。さらに、この収納体は、外容器から自
動着脱可能となっている。

［発明が解決しようとする課題］ 上記従来技術に係る装置を、無重力状態において使用
した場合においては、被処理物が収納されている容器内
を真空排気するとき、被処理物、特に、液体状の被処理
物が、無重力なので、真空排気のための配管に流入する
という問題がある。

また、被処理物を収納し、真空加熱処理を行なう容器
の容積に比べ、被処理物の容積が小さいときは、本来の
真空排気すべき容積に比べ、実際に真空排気される容積
が大きくなるので、必要以上に能力の大きい排気手段が
必要であるという問題がある。

また、被処理物を収納し、真空加熱処理を行なう容器
は繰返し使用され、この容器に真空加熱処理後の被処理
物が付着する場合があるので、非衛生的である。また、
頻繁に使用する場合においては、その容器を衛生的に保
つための清掃時間は、膨大なものであり、一回の使用ご
とに、この容器を廃棄処分することは不経済である。

さらに、真空加熱処理後の被処理物が、そのままの状
態で廃棄できないときは、他の廃棄可能な容器に移しか
えた後に廃棄しなければならず、手間がかかる。

本発明の目的は、無重力状態においても、真空排気の
ための配管に、被処理物が流入することなく、また、真
空排気手段に不必要な負荷をかけることなく真空加熱処
理が可能であり、また、繰返し使用される容器を汚すこ
とのない衛生的であり、自動操作可能な真空加熱処理装
置を提供することにある。

［課題を解決するための手段］ 上記目的は、高周波遮蔽容器内に設置される被処理物
を収納するための収納体を支持する手段と、この収納体
の中を真空排気する真空排気手段と、この収納体と真空
排気手段との間に配置される疎水性体とを備えて構成さ
れ、被処理物は上記収納体の中において真空加熱処理さ
れる真空加熱処理装置により達成できる。

また、高周波遮蔽容器の中に配置された非可撓性材料
を用いて造られる非可撓性の収納体と、この非可撓性収
納体の中を真空排気する手段と、この非可撓性収納体の
中に配置される疎水性体を材料として造られる１以上の
容器と、この疎水性体を材料として造られる１以上の容
器の中に被処理物を搬入する被処理物搬入通路と、真空
加熱処理後の被処理物を排出する被処理物排出通路とを
備えと構成される真空加熱処理装置により達成できる。

［作 用］ 本発明に係る真空加熱装置の作用について説明する。

この真空加熱装置は、地上において使用することもで
きるが、特に、宇宙船内などの無重力環境において使用
するに適する。

まず、廃棄したい被処理物を収納体に収納後、高周波
を利用した被処理物加熱手段を用いて被処理物を加熱す
るとともに、真空排気手段を用いて収納体内を減圧す
る。

この減圧の結果、被処理物に含まれる水分の沸点は低
下し、さらに、加熱により、水分の蒸発は起こりやすく
なる。その結果、被処理物は充分に乾燥する。

その後、この乾燥した被処理物を廃棄することによ
り、真空加熱処理は終了する。

なお、収納体が収納されている外容器の内側は、被処
理物が収納されている可撓性の収納体内を除いて、ほぼ
大気圧であるので、収納体の内部の圧力が低下するにと
もなって、外圧のために、被処理物の容積に応じて収納
体の容積は大きくなる。その結果、真空排気すべき容積
は小さくなるので、真空排気手段の負荷は減少する。

また、外容器は、高周波遮蔽材を使用して造っている
ので、高周波発振器から発生した高周波を遮蔽し、人間
のいる空間に高周波が漏洩することを防止でき、安全を
確保する。

また、収納体と真空排気管の接続部近傍に、疎水性体
を配置しているので、無重力状態においても、被処理
物、特に、液体が真空排気管に流入することを防止で
き、真空排気手段の故障発生を未然に防ぐ。

［実施例］ 次に、図面を用いて、本発明の実施例について説明す
る。

第１図は、本発明の第１実施例である真空加熱装置を
説明するための説明図である。

この真空加熱装置は、同図に示すように、高周波、例
えば、マイクロ波を遮蔽するマイクロ波遮蔽容器１であ
る外容器と、マイクロ波遮蔽容器１の側面に取り付けた
マイクロ波発生器２などの高周波発振器と、マイクロ波
遮蔽容器１の一部に孔を開けて取付けたマイクロ波を伝
える導波管３と、マイクロ波遮蔽容器１の上部に取り付
けた、被処理物20を収納している収納体10を密閉するた
めの蓋８と、蓋８の一部に設けた真空排気口７と、真空
排気管６を介して真空排気口７と接続する真空ポンプ４
などの真空排気手段と、真空ポンプ４の排気口に接続し
た排気処理装置５とを備えて構成されている。

また、マイクロ波遮蔽容器１の上部に、被処理物を収
納する収納体10を支持する支持部９を設け、可撓性の収
納体10として、例えば、樹脂または高分子化合物製のも
のを用いる。

さらに、蓋８には支持部９と同じ形をしたリング状の
溝21を設け、蓋８を抑えつけることにより密閉する構造
とする。

なお、リング状の溝21を設ける代わりに、蓋８の一部
を分離し、その分離した部分を押さえ部8aとし、予め破
線22で示す位置に押さえ部8aを配置しておき、蓋８を抑
えつけることにより密閉する構造とすることもできる。

また、疎水性体8bを、蓋８の収納体10側表面に配置す
る。この疎水性体8bは、少なくとも、真空排気口７付近
には設けておく必要がある。

さらに、収納体10の上部周辺には、この収納体10を密
封するための密封手段11を設け、この密封手段11を駆動
するための密封手段駆動手段13を収納体10の底部付近に
設け、密封手段11と密封手段駆動手段13からの駆動力を
密封手段11に伝達する駆動力伝達手段12を設置する。こ
の密閉手段11については、第２〜４図を用いて、後述す
る。

ここで、密封とは、真空加熱処理後に収納体の開口部
を加熱・溶融することにより閉じ、収納体の内部にある
被処理物が、外部に漏れないようにすることをいい、ま
た、密閉とは、収納体の内部を真空にするために、収納
体の開口部に蓋などをすることをいう。

収納体10の下方には、真空加熱処理後の被処理物20を
真空加熱装置30の外部に取り出すための被処理物取出手
段14が設けられており、この被処理物取出手段14は、マ
イクロ波遮蔽容器１の一部を開閉可能にすることによ
り、外部に運ばれる。

次に、本実施例に係る真空加熱装置30の作用について
説明する。

まず、真空加熱処理開始前に、収納体10を支持部９に
装着し、押さえ部8aを閉じて収納体10を固定する。

次に、被処理物20を収納体10に収納する。

被処理物20を収納後は、蓋８を閉じて収納体10の内部
に密閉する。

次に、真空ポンプ４を作動し収納体10の内部を真空排
気する。これにより、収納体10内の空気などは、真空排
気口７から真空排気管６を通して排出される。また、可
撓性の収納体10は外圧により、被処理物20の体積と同程
度にまで収縮し、被処理物20は真空排気口７の近くまで
引き上げられる。

上記の状態でマイクロ波発生装置２を作動し、導波管
３から被処理物20にマイクロ波を照射する。マイクロ波
を照射された被処理物20に含まれる水分は、周囲が減圧
されており、沸点が低下しているので低い温度で蒸発を
始める。

また、真空排気口７に疎水性体8bを設置しているの
で、水蒸気に混じって飛散する液滴（飛沫）などを捕え
ることができ、液滴などが真空排気口７を通って真空排
気管６内に入り、さらに、真空ポンプ４にまで到達し、
これらの機器に故障が発生するのを防止でき、また、排
気を清浄化できる。

次に、発生した揮発性気体は、排気処理装置５を用い
て処理する。

排気処理装置５としては、活性炭などの吸着物質によ
る吸着、水槽や薬液槽の透過または水や薬液の噴霧等に
よる洗浄、触媒による物理化学的処理、熱や紫外線によ
る分解などが考えられる。

次に、真空加熱処理が終了した後の被処理物に取扱い
について説明する。

被処理物20が真空加熱により充分に乾燥した後、被処
理物20の温度が充分低下した段階で真空ポンプ４を止め
て、収納体10の内部を大気圧に戻す。

この操作により、被処理物20は真空排気口７から遠ざ
かる。この状態で、密封手段駆動手段13を駆動すること
により、駆動力伝達手段12を介して密封手段11は駆動さ
れ、収納体10は密封される。

密封が完了した収納体10は、密封手段11および支持部
９による支持を解除し、落下させ、被処理物取出機構14
に収納した後、外部へ取り出し、廃棄する。

本実施例では、真空排気すべき容積を小さくしたの
で、真空ポンプ４の負荷を軽減でき、省電力が可能とな
るという効果がある。

また、被処理物20を密封して廃棄するので、真空加熱
装置30内は汚れず、衛生的である。

また、被処理物20の出し入れ口を、別個の物としたの
で、真空加熱処理後の被処理物20は自動的に落下させる
ことができ、自動化が可能になる。

次に、第１図に示す密封手段11のいくつかの具体的構
造および動作について、第２〜４図を用いて説明する。

同図は、第１図に示す真空加熱装置30を、図面におけ
る上からみた図の一部であり、収納体10の密封手段11の
一例を説明するための説明図である。

収納体10の上部両側に棒状の２本の密封用シャフト31
が配置されている。それぞれの密封用シャフト31は、ヒ
ータを内蔵しており、弾力性がある。

また、密封用シャフト端部111には、第１図に示す駆
動力伝達手段12が接続されており、密封用シャフト31
は、この駆動力伝達手段12によって、互いに向かって移
動し、その結果、第２図の破線で示すように、２本の密
封用シャフトは収納体10をはさんで接触する。この接触
した状態において、密封用シャフト31に内臓したヒータ
で、収納体10の開口部付近を加熱・溶融し、収納体10を
密封する。

また、駆動力伝達手段12としては、４つの密封用シャ
フト端部111に、ひも状の物質32（例えば、ワイヤロー
プ、ひもなど）を接続し、このひも状物質32を、それぞ
れの密封用シャフト端部111の位置から、収納体10をは
さんで、マイクロ波遮蔽容器１側壁に設置した滑車33な
どの駆動力伝達手段を経由させ、密封手段駆動手段13に
接続したもの、および、密封用シャフト端部111の各部
に上記と逆方向にひも状の物質を配置し、密封時には収
納体10側にある密封用シャフト31をひっぱることにより
密封させ、終了したら反対側をひっぱることにより放し
た後、固定するものなどが考えられる。

また、ひも状の物質に代えて、バネなどの弾性圧着・
引張部材を用いて、収納体の開口部を密封することもで
きる。

さらに、他の駆動力伝達手段12の例としては、密封時
には、２本の密封用シャフト31を、互いに他の密封用シ
ャフトに向かって押しつけることができ、密封が完了後
は、２本の密封用シャフト31を、互い離して固定するタ
イプのものがある。

上記の例によれば、収納体10の密封手段11の自動化が
可能である。

次に、他の密封手段11の構造及び動作の一例につい
て、第３図を用いて説明する。

第３図は、第１図における密封手段11の一例であり、
第１図に示す真空加熱装置30を、図面における上からみ
た図の一部であり、収納体10の密封手段11を説明するた
めの説明図である。

同図に示すように、収納体10の両側にわん曲した２本
の密封用シャフト411が配置されている。

密封用シャフト411は、弾力性物質から造られ、ヒー
タを内臓しており、力がかからない状態では、同図の破
線412で示すように、一直線になり、力を加えたとき
は、弧状になるような構造である。

また、固定端112は、２本の密封用シャフト411の両端
を一体に固定するものであり、固定方法としては、蝶番
などのような固定角度を自在に変化する固定物または、
溶着、圧着、接着、密着等の方法で、両端を固定し、固
定端付近を弾性変形させることにより開閉する方法など
がある。

また、被処理物を収納体10に収納するときは、密封用
シャフト411の中央部に接続した駆動力伝達手段12（図
示せず）により密封用シャフト411を引っ張ることによ
り、２本の密封用シャフト411が第３図に示す実線状と
なるようにする。

逆に、収納体10を密封する時には、駆動力伝達手段12
をゆるめ、収納体10をはさんで接触するようにする。こ
の接触した状態で、密封用シャフト411に内臓したヒー
タを用いて、収納体10の上部を加熱・溶融し、収納体10
を密封する。

駆動力伝達手段12としては、２つの固定部112を、互
いに他の方へ押しつけることにより密封用シャフト411
を開き、密封するときには、駆動力伝達手段12をゆるめ
るようにする構造もある。

一方、密封用シャフト411は、上記の構造とは逆に、
力がかからない状態で弧状になり、力を加えたとき一直
線になる構造にものもある。

このような構造では、密封時には密封用シャフト411
の中央部に駆動力伝達手段12（図示せず）が接続し、密
封用シャフト411を押しつけて、収納体10をはさんで接
触するようにする。

また、被処理物を収納体10に収納するときは、駆動力
伝達手段12をゆるめ、２本の密封用シャフトは、第３図
に示す実線状になるようにする。

また、密封用シャフトを加熱し、収納体10を溶融する
方法として、ヒータ以外に、渦電流による加熱、マイク
ロ波加熱、高周波加熱、超音波加熱等が考えられる。

上記の例によれば、収納体10の密封手段11が自動化可
能になるだけでなく、駆動力伝達手段12の機構が簡略で
き、また小型にすることが可能となる。

次に、第１図に示す密封手段11の他の構造および動作
の一例を、第４図を用いて説明する。

第４図は、第１図に示す密封手段11の他の一例であ
り、収納体10の周囲に密封手段11であるひも状の物質21
0が配置されている。

このひも状の物質210の一端は、移動端202とつながっ
ており、収納体10の周囲に設けられたガイド220に沿っ
て移動する。

ひも状の物質210はひも状物質の供給部201から供給さ
れると同時に、移動端202が収納体10の周囲をガイド220
に沿って、一周または複数周する。

次に、ひも状の物質の一端を供給部201から切り離
し、収納体の上部10aを閉じた状態で、ひも状の物質を
結合する。この結合の方法としては、溶着、圧着、粘
着、接着、締結等が考えられる。

ここで、第４図に示す手段を用いて収納体の上部10a
を密封する方法として、ひも状の物質に加熱手段を設
け、収納体10を溶融して密封することもできる。

上記の例によれば、収納体10を密封するための部分を
小さくすることができるので、被処理物20の取扱いが容
易になる。

次に、第１図に示す支持部９の支持を解除する方法の
一例を、第５図を用いて示す。

第５図は、支持部９の支持を解除する手段の一例であ
り、処理中は、マイクロ波遮蔽容器１の上部開口部付近
に、リング状に支持部９を取り付けており、収納体10の
上の部分をはさんで、蓋８の円周状の溝と密着し、収納
体10を支持している。

真空加熱処理が終了後、収納体10は上記したように密
封され、その後に、支持部９は鎖線で示す9aの位置に移
動する。

これにより収納体10の支持が開放されるので、収納体
10は自重で下方に落下する。

上記の例によれば、収納体10の着脱が容易になり、ま
た、自動化が可能となる。

また、被処理物取出手段を、例えば、真空状態にして
送るゴミ収集システムの端末として使うこともできる。

次に本発明の第２実施例を、第６図を用いて説明す
る。

第６図は、本発明の第２実施例である真空加熱装置を
説明するための説明図である。

本実施例に係る真空加熱装置550の基本的構成は、第
１実施例に係る真空加熱装置30の構成と同じであるの
で、その説明は省略する。

本実施例の特徴的な構造について、第６図を用いて説
明する。

本実施例においては、真空排気口507を蓋８を貫通さ
せ、収納体10の中にまで挿入していることが特徴であ
り、真空排気のために、収納体10の口を密閉する手段
は、密閉手段530を用いている。

上記の構成としたことにより、第１図の実施例におけ
る支持部９は必ずしも必要ではない。

また、真空排気口７に疎水性体551を設置しておけ
ば、水蒸気に混じって飛散する液滴（飛沫）などを捕ら
えることができ、排気を清浄化できる。

本実施例において、被処理物を処理する場合は、収納
体10を密閉手段530に装着し、被処理物20を収納する。
被処理物20収納後は、密閉手段530により収納体10の開
口部を密閉する。

密閉後の真空加熱処理は、第１実施例と同様であるの
で、その説明は省略する。

本実施例は、収納体10の奥まで真空排気口507が入り
こむので、被処理物20を均一に乾燥できる。

次に、密閉手段530の例を、第７図を用いて説明す
る。

同図は、第６図に示す真空加熱装置550を、図面にお
ける上からみた図の一部であり、収納体10の密閉手段53
0を説明するための説明図である。

この密閉手段530の基本的構成は、第３図に示す密封
手段の構成と同じであるので、その説明は省略する。

この密閉手段530の特徴は、真空排気口507が収納体10
の奥まで入り込んでいるので、密閉時には、その真空排
気管６を挾むことができる形状になっていることに特徴
がある。

すなわち、２本の密閉用シャフト531により、収納体1
0の上部を密閉した状態において、真空排気口507を挾む
ことができるように、真空排気口507の外径と同じ径の
半円状のくぼみを２本の密閉用シャフト530にそれぞれ
設けたことが特徴である。

なお、この２本の密閉用シャフト531の材料および作
用などは、第３図に示す例と同じなので、その説明は省
略する。

この例の密閉手段によれば、収納体10の密閉が容易で
あり、また、自動化が可能である。

次に、第６図の密閉手段530の他の例について、第８
図を用いて説明する。

第８図は、第６図に示す真空加熱装置550を、図面に
おける上からみた図の一部であり、収納体10の密閉手段
530の一例を説明するための説明図である。

この密閉手段530は、２本の密閉用シャフト630と、こ
の密閉用シャフト630を互いに向かって移動させる駆動
力伝達手段（図示せず）を備えて構成されている。

被処理物20を収納するときは、第６図に示すように、
収納体10の上端部付近を、２本の密閉用シャフト630の
外周に巻いてこの収納体10を支持する。

なお、収納体10の上部を密閉した状態において、真空
排気口507を挾むことができるように、真空排気口507の
外径と同じ径の半円状のくぼみを２本の密閉用シャフト
630にそれぞれ設けている。

また、密閉用シャフト630は２本の弾力性物質を材料
とする。

また、４つの密閉用シャフト端部612には駆動力伝達
手段が接続され、これにより、２本の密閉用シャフト63
0は移動され、収納体10をはさんで接触する。この状態
で、収納体10の口を真空排気口７の周囲で密閉する。

上記の駆動力伝達手段とその作用とは第２図に示すも
のと同様であるので、その説明は省略する。

この例による密閉手段によれば、収納体10の上部付近
を真空排気口507の周辺に巻きつけるので、密閉性が向
上する。

次に、密閉手段30他の例を、第９図を用いて説明す
る。

同図は、第６図に示す真空加熱装置550を、図面にお
ける上からみた図の一部であり、収納体10の密閉手段53
0の一例を説明するための説明図である。

この密閉手段530の一例の基本構成は、第４図に示す
密封手段の構成と同じであるので、その説明は省略す
る。

本実施例の特徴は、真空排気口507が収納体10の奥ま
で入り込んでいるので、密閉時には、ひも状物質710を
真空排気管６の周囲を取り巻くようにして密閉する。

本例のその他の作用は第４図に示す作用とほぼ同じで
あるので、その説明は省略する。

被処理物20を真空加熱処理し、乾燥後は、第１実施例
で説明した密封手段を用いて密封することができる。

また、本実施例で説明した密閉手段に、ヒータなどを
内蔵して、第１実施例で説明した各種密封手段と同じに
することができ、密封手段と密封手段とを兼用にするこ
とができる。

次に本発明の第３実施例について、第10図を用いて説
明する。

第10図は、本発明の第３実施例である真空加熱装置90
0を説明するための説明図である。

この真空加熱装置900の基本的構成は、第１図に示し
た真空加熱装置30と同じであるので、その説明は省略す
る。

本実施例の特徴は、収納体10と真空排気口907の位置
とにあるので、それらについて説明する。

同図に示すように、真空排気口907は収納体10の上部
側面に接続される。この接続は、例えば、ジャバラ式配
管などにより行う。

また、真空加熱処理中は、密閉手段930により収納体1
0の口を密封する。

この密閉手段930は、第２実施例の密閉手段とほぼ同
じものを用いるが、第２実施例のように真空排気管が収
納体910の奥まで入り込まないので、真空排気管の外径
と同じ形の半円状のくぼみは必要ない。

また、収納体910の下部に、被処理物排出手段931を設
け、処理中は、この被処理物排出手段931を密閉して、
密閉性を保つようにする。

また、真空排気口907に疎水性体901を設置し、水蒸気
に混じって飛散する液滴（飛沫）などを捕らえ、排気を
清浄化する。

また、真空排気中に真空排気口７の周辺だけが局所的
に真空となることを避けるため、収納体910の内側に空
気流通用の突起51を設ける。

被処理物20を供給する場合、蓋908と連動させた密閉
手段930を開け供給する。

次に、本実施例の作用について説明する。

被処理物20投入後は、蓋908および密閉手段930を閉
じ、収納体10の内部を密閉する。

次に、この状態で真空加熱処理を行なう。

被処理物20が充分に乾燥したら、被処理物20の温度が
充分低下した段階で、真空ポンプ４を止めて、収納体91
0の内部を大気圧に戻す。次に、被処理物排出手段931を
開気、被処理物20を被処理物取出手段14に入れ、外部に
取り出す。

本実施例によれば、被処理物だけを、直接、出し入れ
できるので、密封手段が不要となり、装置を簡略化する
ことができる。

次に、本発明の第４実施例について、第11図を用いて
説明する。

第11図は、本実施例に係る真空加熱装置1000を説明す
るための説明図である。

本実施例に係る装置は、被処理物が体である場合に、
特に、有効な装置である。

この装置の基本的構成は第１図に示す第１実施例の真
空加熱装置の構成と同じであるので、その説明は省略す
る。

次に、本実施例の装置の特徴的な部分について第11図
を用いて説明する。

同図に示すように、真空排気口1007を収納体1010の上
部側面に接続し、密閉手段1030を用いて、収納体1010の
口を密閉する構成とする。

また、収納体1010の下部には、被処理物排出手段1031
を設け、この排出手段1031は真空加熱処理中は閉じてお
き、収納体1010の密閉性を保つようにする。

また、蓋1008の一部を貫通して、被処理物搬入管1063
を収納体1010の中に入れる。

被処理物搬入管1063の収納体1010内の先端の接合部10
61には、疎水性体を用いて造られた内袋1062が装着され
る。

なお、密閉手段30には、被処理物搬入管1063の外径と
ほぼ同じ径の半円状のくぼみが必要である。

さらに、真空排気中に真空排気口1007の周辺だけが真
空となることを避けるため、収納体1010の内側に空気流
通用の突起1051を設ける。

次に、この装置を使用して、被処理物を真空加熱処理
する場合について説明する。

ます、接合部1061に内袋1062を装着した後、蓋1008お
よび密閉手段1030を閉じる。

次に、被処理物を被処理物搬入管1063から搬入し、被
処理物搬入管1063の内袋1062側の先端付近を閉鎖する。

次に、マイクロ波を発生させ、加熱乾燥処理を行う。

被処理物が充分に乾燥したら、内袋1062の温度が充分
低下した段階で、真空ポンプ４を止めて収納体10の内部
を大気圧に戻す。

被処理物排出手段1031を開くと同時に、接合部1061を
切離し、内袋1062を被処理物取出手段1014に排出する。

本実施例に係る装置によれば、疎水性体の内袋1062を
用いているので、液体状のものを効率良く加熱乾燥処理
し、廃棄することができる。

次に、本発明の第５実施例について、第12図を用いて
説明する。

第12図は、本実施例に係る真空加熱装置2000を説明す
るための説明図である。

この装置の基本構成は第１図に示した真空加熱装置の
構成と同じであるので、その説明は省略する。

本実施例の装置の特徴は、収納体が非可撓性であると
いう点である。

次に、この非可撓性収納体2101に関連する部分につい
て説明する。

真空排気管６は、第１図に示した第１実施例と同様
に、蓋2008の一部を貫通させて、非可撓性収納体2101の
内部を真空排気可能になるように接続する。

また、非可撓性収納体2101の底部は、密封とすること
もできるが、第12図に示すように、バネ2001などの復元
手段を用いて開閉可能な開閉底70とすることもできる。

また、収納体2101内の被処理物（図示せず）を無重力
状態において、被処理物取出手段2014内へ落下させるた
め、同図に示すように、真空排気管６には、バルブ2200
を介して、コンプレッサ2010が接続されている。

真空排気口2007には、疎水性体2400が設けられてい
る。

次に、この装置2000を使用して、被処理物を真空加熱
処理する場合について説明する。

非可撓性収納体2101に被処理物を投入し、蓋2008を閉
じ、真空加熱処理を行なう。

真空加熱処理中においては、真空排気管６は、バルブ
2300を介して、真空ポンプ４とだけ、接続しており、コ
ンプレッサ2010と真空排気管６との接続は、バルブ2200
により、閉じた状態となっている。

被処理物が充分に乾燥し、被処理物の温度が充分低下
した段階で、真空ポンプ４を止めて非可撓性収納体2101
内の圧力を大気圧に戻す。

次に、真空ポンプ４と真空排気管６との接続は、バル
ブ2300を閉じて、閉じた状態とする。

次に、コンプレッサ2010を作動し、バルブ2200を開
け、真空排気管６をコンプレッサ2010と接続し、収納体
2101内の圧力を上げる。

この圧力の作用により、開閉底2070を、バネ2001の作
用に逆らって開き、被処理物を被処理物取出手段14に収
納し、外部に廃棄する。

その後、コンプレッサ2010の作動を停止し、開閉底20
70を閉じる。

本実施例に係る装置2000によれば、収納体を非可撓性
のものとしたので、可撓性収納体の場合に生じる可能性
があるピンホールによる真空度の低下を避けることがで
きる。

また、被処理物を、直接、出し入れできるので、装置
が簡略にできる。

疎水性体2400を設けた効果は、他の実施例と同じであ
るので、説明は省略する。

次に、本発明の第６実施例について、第13図を用いて
説明する。

第13図は、本実施例に係る真空加熱装置3000を説明す
るための説明図である。

本実施例の特徴は、非可撓性収納体3101と可撓性収納
体3010とを組合せたところにある。

本実施例の構成は、上記のように、非可撓性収納体31
01と可撓性収納体3010とを組合せた以外は、第５実施例
に係る装置の構成と同じであるので、その説明は省略す
る。

また、真空加熱処理の手順も、第５実施例に係る装置
の場合と同様なので、その説明は省略する。

次に、非可撓性収納体3101と可撓性収納体3010とを組
合せた効果を示す。

本実施例によれば、可撓性収納体を使用するので、真
空吸引の範囲を小さくすることができ、また、もし、可
撓性収納体にピンホールなどが生じた場合でも、非可撓
性収納体を備えているので、ピンホールなどによる真空
度の低下を防止することができる。

次に、本発明の第７実施例について、第14、15図を用
いて説明する。

第14図は、本実施例に係る真空加熱処理装置4000を説
明するための説明図である。

この装置は、特に、被処理物が液体状である場合に有
効である。

本実施例に係る装置4000の構造について説明する。

この装置4000の基本的構成は、被処理物を収納する容
器以外は、第１図に示す装置の構成とほぼ同じであるの
で、その説明は省略する。

次に、被処理物を収納する容器について説明する。

同図に示すように、被処理物を収納する容器は、非可
撓性収納体4105と、その中に設けられた疎水性多孔質チ
ューブ4106などの疎水性体を用いて造られる容器とから
構成される。

管状の疎水性体チューブ4106の下方端は、被処理物は
搬入されるときは開かれ、搬入後は閉じるようになって
おり、また、上方の端は、後述するブラシ駆動部4081に
接触している。

また、被処理物は、非可撓性収納体4105の下の部分
に、搬入弁4631を介して設けられた被処理物搬入管4063
などの被処理物搬入通路から、疎水性体チューブ4106内
へ搬入される。

また、真空排気管６は、真空排気口７を介して、非可
撓性収納体4105に接続される。

また、非可撓性収納体4105の下の部分には、真空加熱
処理が終了した被処理物を排出する被処理物排出管4064
などの被処理物排出通路が設けられており、排出弁4641
を介して、被処理物取り出し手段14の中に、被処理物を
排出するようになっている。

また、疎水性体チューブ4106の上方端には、管の軸に
沿った方向に回転しながら移動するチューブ内面清掃用
のブラシ4080があり、このブラシ4080は、ブラシ駆動部
4081と接続している。

次に、この装置を用いて被処理物を真空加熱処理する
場合について説明する。

真空加熱処理を行なう場合には、まず、抽出弁4641を
閉じ、搬入弁4631を開く。

次に、被処理物を被処理物搬入管4063から搬入し、搬
入弁4631を閉鎖する。

次に、真空加熱処理を行なう。この処理は、上記の他
の実施例と同じなので、その説明は省略する。

また、真空加熱処理中は、ブラシ4080は上方端に押し
つけられており、容器内の密封性は保たれている。

被処理物が充分に乾燥し、被処理物の温度が充分低下
した段階で、真空ポンプ４を止めて非可撓性収納体4105
の内部を大気圧に戻す。

次に、排出弁4641を開くと同時に、ブラシ4080を回転
させながら疎水性体チューブ4106の軸に沿った方向に移
動させ、疎水性体チューブ4106内部に付着した乾燥して
いる被処理物を被処理物排出管4064から、被処理物取出
手段14に排出する。

なお、疎水性体チューブ4106の上方端から、空気を吹
き出すことによって、被処理物はより早く排出される。

次に、第15図を用いて、ブラシ駆動部4081の詳細につ
いて説明する。

第15図は、ブラシ駆動部4081の詳細を説明するための
説明図である。

このブラシ駆動部4081は、ブラシ駆動軸813を介して
ブラシ4080を上下・回転させるブラシ駆動モータ811
と、疎水性体チューブ4106内に風を送る送風機812とを
備えて構成されており、ブラシ4080は使用されないとき
は、端板815とシール814などを介して接している。

ブラシ4080は、乾燥処理中は端版815に押しつけら
れ、シール814により密封を保つ。

真空加熱処理が終了した場合は、ブラシ駆動モータ81
1によって、ブラシ4080は回転し、ブラシ駆動軸813が伸
縮するか、または、軸方向に移動することによって、同
図に破線4090で示すように、軸方向に移動する。

この間、送風機812にから、空気をシール814の穴を通
して、チューブ内に送風することにより被処理物を排出
する。

本実施例の装置によれば、液体状の被処理物を無重力
環境でも、効率良く加熱乾燥することができる。

また、疎水性体チューブ4106を使用するので、液体を
連続的に加熱乾燥処理でき、自動化が可能となる。

また、ブラシ4080およびブラシ駆動部4081によって、
疎水性体チューブ4106内の汚れを自動的に清掃すること
ができる。

［発明の効果］ 以上に説明したように、本発明によれば、真空排気す
べき容積を小さくすることが可能なので、真空ポンプの
負荷を軽減できる。このため省電力化が可能となる。

また、被処理物を密封して出し入れすることにより被
処理物を容器に付着させること無く出し入れすることが
でき、このため衛生が保たれる。

さらに、被処理物を入れた容器を二重化することによ
り、一方の容器が破損しても真空度が低下しない。この
ため、信頼性が向上する。

さらに、被処理物の出し入れを別の口から行なうこと
により被処理物を自動的に落下させることができので、
装置を自動化することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１実施例である真空加熱装置を説明
するための説明図、第２図は第１図に示す密封手段の一
例を示す説明図、第３図は第１図に示す密封手段の一例
を示す説明図、第４図は第１図に示す密封手段の一例を
示す説明図、第５図は第１図に示す支持部を解除する装
置を説明するための説明図、第６図は本発明の第２実施
例である真空加熱装置を説明するための説明図、第７図
は第６図に示す密閉手段の一例を示す説明図、第８図は
第６図に示す密閉手段の一例を示す説明図、第９図は第
６図に示す密閉手段の一例を示す説明図、第10図は本発
明の第３実施例である真空加熱装置を説明するための説
明図、第11図は本発明の第４実施例である真空加熱装置
を説明するための説明図、第12図は本発明の第５実施例
である真空加熱装置を説明するための説明図、第13図は
本発明の第６実施例である真空加熱装置を説明するため
の説明図、第14図は本発明の第７実施例である真空加熱
装置を説明するための説明図、第15図は第７実施例のブ
ラシ駆動部を説明するための説明図である。 １……マイクロ波遮蔽容器、２……マイクロ波発生装
置、３……導波管、４……真空ポンプ、５……排気処理
装置、６……真空排気管、７……真空排気口、８……
蓋、8a……押さえ部、8b……疎水性体、９……支持部、
10……収納体、11……密封手段、12……駆動力伝達手
段、13……密封手段駆動手段、14……被処理物取出手
段、20……被処理物、111……密封用シャフト端部、112
……固定端、201……ひも状物質の供給部、202……移動
端、210……ひも状の物質、220……ガイド、951……空
気抜き用突起、4106……疎水性体チューブ、4064……被
処理物排出管、4631……搬入弁、4641……排出弁、4080
……ブラシ、4081……ブラシ駆動部、4811……ブラシ駆
動モータ、4812……送風機、4813……ブラシ駆動軸、81
4……シール、815……端版。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 浜野 亘男 神奈川県横浜市戸塚区戸塚町216番地 株式会社日立製作所戸塚工場内 (56)参考文献 特開 平２−66899（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−303038（ＪＰ，Ａ)

Claims (10)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】高周波遮蔽容器と、この高周波遮蔽容器内
   に収納した被処理物を加熱するための高周波発振器とを
   備えて構成される真空加熱処理装置において、 上記高周波遮蔽容器内に被処理物を収納するための収納
   体を取付け可能な手段と、この収納体の中を真空排気す
   る真空排気手段と、この収納体と真空排気手段との間に
   配置される疎水性体とを備えて構成され、この収納体を
   取付けたときは、２重構造となることを特徴とする真空
   加熱処理装置。
2. 【請求項２】上記収納体は、非導電性かつ高周波透過性
   を有する可撓性材料を用いて造られることを特徴とする
   請求項１記載の真空加熱処理装置。
3. 【請求項３】被処理物を投入する上記収納体の開口部
   を、真空加熱処理中には密閉する密閉手段を備えて構成
   されることを特徴とする請求項１または２記載の真空加
   熱処理装置。
4. 【請求項４】上記真空排気手段と上記収納体とは、真空
   排気管を介して、連通されていることを特徴とする請求
   項1,2または３記載の真空加熱処理装置。
5. 【請求項５】被処理物を投入する上記収納体の開口部
   を、真空加熱処理後には密封処理する密封手段を備えて
   構成されることを特徴とする請求項1,2,3または４記載
   の真空加熱処理装置。
6. 【請求項６】高周波遮蔽容器と、この高周波遮蔽容器内
   に収納した被処理物を加熱するための高周波発振器とを
   備えて構成される真空加熱処理装置において、 上記高周波遮蔽容器内に被処理物を収納するための疎水
   性体からなる内袋を設ける手段と、この内袋に直結され
   る被処理物を搬入するための被処理物搬入手段と、高周
   波遮蔽容器内に配置されるこの内袋を収納する収納体
   と、この収納体の中を真空排気する真空排気手段とを備
   えて構成され、この内袋を取付けたときは３重構造とな
   ることを特徴とする真空加熱処理装置。
7. 【請求項７】高周波遮蔽容器と、この高周波遮蔽容器内
   に収納した被処理物を加熱するための高周波発振器とを
   備えて構成される真空加熱処理置において、 高周波遮蔽容器内に配置した被処理物を収納し、真空加
   熱処理するための収納体と、この収納体の中を真空排気
   する手段と、この収納体の外部に配置した加圧装置から
   の圧力により、この収納体の底は開閉自在であることを
   特徴とする真空加熱処理装置。
8. 【請求項８】上記収納体の中に、可撓性材料を用いて造
   られる収納体を備え、真空加熱装置を３重構造とし、こ
   の収納体の中において被処理物を真空加熱処理すること
   を特徴とする請求項７記載の真空加熱装置。
9. 【請求項９】高周波遮蔽容器と、この高周波遮蔽容器内
   に収納した被処理物を加熱するための高周波発振器とを
   備えて構成される真空加熱処理置において、 上記高周波遮蔽容器の中に配置された被処理物を収納す
   る収納体と、この収納体の中を真空排気する手段と、こ
   の収納体の中に配置される疎水性体を材料として造られ
   る１以上の容器と、この疎水性体を材料として造られる
   １以上の容器の中に被処理物を搬入する被処理物搬入通
   路と、真空加熱処理後の被処理物を排出する被処理物排
   出通路とを備えて構成されることを特徴とする真空加熱
   処理装置。
10. 【請求項１０】上記疎水性体を材料として造られる１以
    上の容器の中には、その容器の内壁をクリーニングする
    手段を備えていることを特徴とする請求項９記載の真空
    加熱装置。