JPH0476832A - 光記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
光記録媒体及びその製造方法Info
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- JPH0476832A JPH0476832A JP90188919A JP18891990A JPH0476832A JP H0476832 A JPH0476832 A JP H0476832A JP 90188919 A JP90188919 A JP 90188919A JP 18891990 A JP18891990 A JP 18891990A JP H0476832 A JPH0476832 A JP H0476832A
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、追記および書換えが可能な光記録媒体および
その製造方法に関する。
その製造方法に関する。
従来の技術
従来、レーザー光を用いた追記型光記録媒体としては、
ガラスやポリカーボネート樹脂などの透明基板上に、T
e系の薄膜を真空蒸着やスパッター法にて作成し、これ
に記録時のレーザー光を照射することにより記録膜を溶
融昇華させてビットを形成する方式のものか代表的であ
った。しかし、この場合、Teか湿度の高い環境中で酸
化され易いため、通常SeやIn、Sn、PbやBiな
との金属元素を少量添加し混合体とするのであるか、薄
膜形成時に真空蒸着やスパッター法などのドライ方式に
よりTeと上記添加金属の割合を一定に保ちつつ、薄膜
を形成することは非常に困難であり、その分生産性か落
ちるという欠点かあった。
ガラスやポリカーボネート樹脂などの透明基板上に、T
e系の薄膜を真空蒸着やスパッター法にて作成し、これ
に記録時のレーザー光を照射することにより記録膜を溶
融昇華させてビットを形成する方式のものか代表的であ
った。しかし、この場合、Teか湿度の高い環境中で酸
化され易いため、通常SeやIn、Sn、PbやBiな
との金属元素を少量添加し混合体とするのであるか、薄
膜形成時に真空蒸着やスパッター法などのドライ方式に
よりTeと上記添加金属の割合を一定に保ちつつ、薄膜
を形成することは非常に困難であり、その分生産性か落
ちるという欠点かあった。
又、他の方法として、TeOxやTeとTe0Xとの混
合物などの薄膜を記録材料として用いる方法もある。こ
の場合、書き込み時のレーザー光を照射した部分をアモ
ルファス状態から結晶状態に転移させ、再生時のレーザ
ー光の反射率を上げる方法や、TeGe5nAuなとの
アモルファス−結晶の相変化を利用する方法もあるか、
この場合も、製膜時にはドライ方法を用いるので、膜組
成を均一にすることが困難であり、品質の安定性か悪く
、生産性か劣るという欠点を存していた。
合物などの薄膜を記録材料として用いる方法もある。こ
の場合、書き込み時のレーザー光を照射した部分をアモ
ルファス状態から結晶状態に転移させ、再生時のレーザ
ー光の反射率を上げる方法や、TeGe5nAuなとの
アモルファス−結晶の相変化を利用する方法もあるか、
この場合も、製膜時にはドライ方法を用いるので、膜組
成を均一にすることが困難であり、品質の安定性か悪く
、生産性か劣るという欠点を存していた。
更に、書換え可能な光記録媒体では、記録膜としてGc
lTbFeやTbFeCo等のように希土類金属と遷移
金属とからなる非晶質合金か用いられ、書き込み時のレ
ーサー照射により、磁性の反転を起こさせて、再生時の
レーサー光に対する偏光面の回転角(カー回転角)を情
報として読み出す光磁気記録方式か用いられているが、
生産効率が慝く、又、書き込み、再生および消去の装置
か複雑化するなどの欠点かあった。
lTbFeやTbFeCo等のように希土類金属と遷移
金属とからなる非晶質合金か用いられ、書き込み時のレ
ーサー照射により、磁性の反転を起こさせて、再生時の
レーサー光に対する偏光面の回転角(カー回転角)を情
報として読み出す光磁気記録方式か用いられているが、
生産効率が慝く、又、書き込み、再生および消去の装置
か複雑化するなどの欠点かあった。
また、有機色素を用いる方法か、特開昭6020348
8、特開昭63−102988に開示されている。これ
らは、レーサー光を吸収する有機系色素を溶媒に溶解さ
せ、スピンコード法により簡単に製膜か可能なので生産
性か高い。しかし、前記色素の反応か非可逆的なので追
記は可能であるか、書換えは不可能である。これらを改
良するものとして、米国特許Nn4825430やNα
4780867等かある。これらは、基板上の2つの樹
脂層の各々に、異なった波長のレーサー光を吸収する色
素をそれぞれ含有させた記録媒体に関するものてあり、
スピンコード法等て、光記録媒体を製造できるので記録
層の組成制御や膜厚制御か簡単にてき生産効率か高く、
量産性に優れるうえ、書換え可能な記録媒体を製造する
ことかできる。
8、特開昭63−102988に開示されている。これ
らは、レーサー光を吸収する有機系色素を溶媒に溶解さ
せ、スピンコード法により簡単に製膜か可能なので生産
性か高い。しかし、前記色素の反応か非可逆的なので追
記は可能であるか、書換えは不可能である。これらを改
良するものとして、米国特許Nn4825430やNα
4780867等かある。これらは、基板上の2つの樹
脂層の各々に、異なった波長のレーサー光を吸収する色
素をそれぞれ含有させた記録媒体に関するものてあり、
スピンコード法等て、光記録媒体を製造できるので記録
層の組成制御や膜厚制御か簡単にてき生産効率か高く、
量産性に優れるうえ、書換え可能な記録媒体を製造する
ことかできる。
発明か解決しようとする課題
しかしなから上記従来の方法では、樹脂層を膨張させて
識別可能なピットを形成させるためには、樹脂層の厚み
か数μm程度必要であり、従って、予めグルーブが形成
された基板上に樹脂記録層を形成させ、レーサー照射に
よりピットを形成させると、ピットとグルーブとの間隔
か少なくとも樹脂の厚み程度隔たることとなり、その結
果、通常のレーサー照射てはフォーカスサーボをかける
とトランキングサーボか作動しないという問題を生じ易
い。
識別可能なピットを形成させるためには、樹脂層の厚み
か数μm程度必要であり、従って、予めグルーブが形成
された基板上に樹脂記録層を形成させ、レーサー照射に
よりピットを形成させると、ピットとグルーブとの間隔
か少なくとも樹脂の厚み程度隔たることとなり、その結
果、通常のレーサー照射てはフォーカスサーボをかける
とトランキングサーボか作動しないという問題を生じ易
い。
課題を解決するだめの手段
本発明は、基板上の光記録樹脂層の上面に、グルーブか
形成された樹脂層を有する光記録媒体を提供すること、
又、基板上に光記録樹脂層を形成する工程と、前記光記
録樹脂層上にグルーブか設すられた樹脂層を形成する工
程からなる光記録媒体の製造方法を提供することを目的
にしている。
形成された樹脂層を有する光記録媒体を提供すること、
又、基板上に光記録樹脂層を形成する工程と、前記光記
録樹脂層上にグルーブか設すられた樹脂層を形成する工
程からなる光記録媒体の製造方法を提供することを目的
にしている。
作用
上記構成により、光記録樹脂層の上部にグルーブか設け
られた樹脂層を形成させることにより、フォーカスサー
ボとトラッキングサーボか容易に作動する。
られた樹脂層を形成させることにより、フォーカスサー
ボとトラッキングサーボか容易に作動する。
実施例
第1図は本発明の一実施例における光記録媒体の部分断
面図である。1は基板、2は第1光記録層、3は第2光
記録層、4は表面にグルーブを有する紫外線硬化樹脂層
、5はグルーブである。
面図である。1は基板、2は第1光記録層、3は第2光
記録層、4は表面にグルーブを有する紫外線硬化樹脂層
、5はグルーブである。
基板lは、ガラスや、ポリカーボネート樹脂、ポリメチ
ルメタクリレート樹脂等からなるレーザー光を透過する
透明板である。第1光記録層2は、基板1上に書き込み
時のレーザー光を選択的に吸収して分解もしくは光学的
に変性する有機色素、例えば、シアニン系、ナフトキノ
ン系、フタロンアニン系、ナフタロシアニン系、テトラ
デヒドロコリンないしテトラデヒトロコロール系、ピリ
リウムないしチアピリリウム塩素系、スクアリリウム系
の色素を含有したエポキシ樹脂、ウレタン樹脂等の樹脂
を溶媒に溶解させ、スピンコード法にて塗布したのち、
加熱乾燥硬化させて形成された記録層である。第2光記
録層3は、消去時のレーザー光を選択的に吸収して分解
もしくは光学的に変性する有機色素、例えはシアニン系
、フタロシアニン系等の色素を含有したポリエステルや
、ポリスチレンなとの樹脂を溶媒に溶解させ、スピンコ
ード法にて塗布した後、加熱乾燥させて形成された記録
層である。前記第1記録層と第2記録層の膜厚は、それ
ぞれ約5μm、および1μmくらいか適当であるか、用
途により適宜選択される。
ルメタクリレート樹脂等からなるレーザー光を透過する
透明板である。第1光記録層2は、基板1上に書き込み
時のレーザー光を選択的に吸収して分解もしくは光学的
に変性する有機色素、例えば、シアニン系、ナフトキノ
ン系、フタロンアニン系、ナフタロシアニン系、テトラ
デヒドロコリンないしテトラデヒトロコロール系、ピリ
リウムないしチアピリリウム塩素系、スクアリリウム系
の色素を含有したエポキシ樹脂、ウレタン樹脂等の樹脂
を溶媒に溶解させ、スピンコード法にて塗布したのち、
加熱乾燥硬化させて形成された記録層である。第2光記
録層3は、消去時のレーザー光を選択的に吸収して分解
もしくは光学的に変性する有機色素、例えはシアニン系
、フタロシアニン系等の色素を含有したポリエステルや
、ポリスチレンなとの樹脂を溶媒に溶解させ、スピンコ
ード法にて塗布した後、加熱乾燥させて形成された記録
層である。前記第1記録層と第2記録層の膜厚は、それ
ぞれ約5μm、および1μmくらいか適当であるか、用
途により適宜選択される。
紫外線硬化樹脂層4は、第2光記録層3の上面に、ポリ
エステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタ
ンアクリレート、アゾヒスイソブチロニトリル等の紫外
線硬化樹脂を塗布し、グルーブ形成用のスタンバ−を押
し当てて、基板側より紫外線を照射し硬化させて形成さ
れる。
エステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタ
ンアクリレート、アゾヒスイソブチロニトリル等の紫外
線硬化樹脂を塗布し、グルーブ形成用のスタンバ−を押
し当てて、基板側より紫外線を照射し硬化させて形成さ
れる。
グルーブ5は、前記紫外線硬化樹脂層4を硬化させると
同時に形成される。スタンバ−を取り除けば、本発明の
光記録媒体か得られる。光記録媒体の用途により、グル
ーブの深さは500−600人、グルーブ層の膜厚は0
.2−0.4μm程度とするのか好ましい。この程度の
膜厚であると、第2のピット形成時の変形にも追従でき
るからである。
同時に形成される。スタンバ−を取り除けば、本発明の
光記録媒体か得られる。光記録媒体の用途により、グル
ーブの深さは500−600人、グルーブ層の膜厚は0
.2−0.4μm程度とするのか好ましい。この程度の
膜厚であると、第2のピット形成時の変形にも追従でき
るからである。
このようにして得られた光記録媒体にデータを書き込む
には、波長830nm出力20mw0)GaAlAs系
半導体レーサー光を基板側より照射すると、照射された
レーザー光は、第1層の色素により吸収され第1層の樹
脂かその熱により膨張し、第2層の樹脂層を変形させる
。第2層の樹脂層は、ガラス転移温度以上には昇温しで
おらず、第1層よりの応力を受けててきる変形は、弾性
変形をしてその変形形状を保持する。再生時は、波長7
80nrn出力]、mWのGaAlAs系半導体レーサ
ー光を照射し、上で変形しててきたピットを情報として
読み取る。
には、波長830nm出力20mw0)GaAlAs系
半導体レーサー光を基板側より照射すると、照射された
レーザー光は、第1層の色素により吸収され第1層の樹
脂かその熱により膨張し、第2層の樹脂層を変形させる
。第2層の樹脂層は、ガラス転移温度以上には昇温しで
おらず、第1層よりの応力を受けててきる変形は、弾性
変形をしてその変形形状を保持する。再生時は、波長7
80nrn出力]、mWのGaAlAs系半導体レーサ
ー光を照射し、上で変形しててきたピットを情報として
読み取る。
更に、消去時は、波長780nm出力20mwのGaA
lAs系半導体レーサーを照射すると、第2層に含有さ
れた色素かこの波長のレーザー光を吸収し、第2層かガ
ラス転移温度以上に昇温することにより再ひもとの形状
にもどる。この時、先の方法により形成されたグルーブ
の位置は、ピット形成部と膜と垂直方向に0.2−0.
4μmしか離れておらず、光ヘッドの焦点深度内に充分
おさまっているので、フォーカスサーボやトラッキング
サーボか容易に作動する。
lAs系半導体レーサーを照射すると、第2層に含有さ
れた色素かこの波長のレーザー光を吸収し、第2層かガ
ラス転移温度以上に昇温することにより再ひもとの形状
にもどる。この時、先の方法により形成されたグルーブ
の位置は、ピット形成部と膜と垂直方向に0.2−0.
4μmしか離れておらず、光ヘッドの焦点深度内に充分
おさまっているので、フォーカスサーボやトラッキング
サーボか容易に作動する。
以下、実験例にて詳細に説明する。
(実験例1)
グルーブもなにも形成されていないポリカーボネート基
板1上に、ビスフェノールA(東部化成(株)製 YD
128)1部、および硬化剤としてポリアミノ樹脂(東
部化成(株)製 G−740A)0.6部を、メチルセ
ロソルブ20部に溶解させる。更に、830部mのレー
サー光を吸収する色素としてシアニン系色素(日本感光
色素(株)製 NK−1161)0.5部を均一に溶解
させた後、スピンコード法にて塗布し、80゜Cて30
分間加熱処理を行い、第1光記録膜層2を得た。デック
タック膜厚計により膜厚を測ると55μmであった。
板1上に、ビスフェノールA(東部化成(株)製 YD
128)1部、および硬化剤としてポリアミノ樹脂(東
部化成(株)製 G−740A)0.6部を、メチルセ
ロソルブ20部に溶解させる。更に、830部mのレー
サー光を吸収する色素としてシアニン系色素(日本感光
色素(株)製 NK−1161)0.5部を均一に溶解
させた後、スピンコード法にて塗布し、80゜Cて30
分間加熱処理を行い、第1光記録膜層2を得た。デック
タック膜厚計により膜厚を測ると55μmであった。
更に、その上に、ポリスチレン樹脂(三洋化成(株)製
ハイマー5B−150)2部、および780部mのレ
ーザー光吸収のための育機色素としてシアニン系色素(
日本感光色素(株)製 NK−2627)0.5部をト
ルエン100部に溶解させた後、スピンコード法により
均一に塗布し加熱乾燥させて第2光記録層3を得た。デ
ックタック膜厚計により膜厚を測定したところ1.2μ
mであった。
ハイマー5B−150)2部、および780部mのレ
ーザー光吸収のための育機色素としてシアニン系色素(
日本感光色素(株)製 NK−2627)0.5部をト
ルエン100部に溶解させた後、スピンコード法により
均一に塗布し加熱乾燥させて第2光記録層3を得た。デ
ックタック膜厚計により膜厚を測定したところ1.2μ
mであった。
更に、紫外線硬化樹脂層4としてポリエステルアクリレ
ートをスピンコード法にて塗布し、グルーブ5形成用の
スタンバ−をその上より押し当てて、基板側より紫外線
を照射させ前記紫外線硬化樹脂を硬化させると同時にグ
ルーブ5を形成させた。スタンバ−を取り除き、書換え
可能な光記録媒体を得た。
ートをスピンコード法にて塗布し、グルーブ5形成用の
スタンバ−をその上より押し当てて、基板側より紫外線
を照射させ前記紫外線硬化樹脂を硬化させると同時にグ
ルーブ5を形成させた。スタンバ−を取り除き、書換え
可能な光記録媒体を得た。
得られた光記録媒体に、データ書込みのために、出力2
0mw波長830nmのGaAlAs系半導体レーザー
を200ns照射することにより、第2層上にピットを
形成させることかできた。再生は、出力1mw波長78
0 nmのGaAlAs系半導体レーザーを100ns
照射することにより、ピットを読み取ることができた。
0mw波長830nmのGaAlAs系半導体レーザー
を200ns照射することにより、第2層上にピットを
形成させることかできた。再生は、出力1mw波長78
0 nmのGaAlAs系半導体レーザーを100ns
照射することにより、ピットを読み取ることができた。
この時のC/N比は、43dBであった。更に、消去の
ために出力20mw波長780nmのGaA IAs系
半導体レーザーを150ns照射することにより、ピッ
トを消去することかできた。
ために出力20mw波長780nmのGaA IAs系
半導体レーザーを150ns照射することにより、ピッ
トを消去することかできた。
(比較例)
予めグルーブか形成されたポリカーボネート基板を用い
、実験例1と同様の記録材料および方法を用いて、第1
層および第2層の記録層を得た。
、実験例1と同様の記録材料および方法を用いて、第1
層および第2層の記録層を得た。
得られた記録層に、データ書込みのため、出力20mw
波長830nmのGaAlAs系半導体レーザーを照射
したか、トラッキングサーボが作動せず書込みかできな
かった。
波長830nmのGaAlAs系半導体レーザーを照射
したか、トラッキングサーボが作動せず書込みかできな
かった。
発明の効果
本発明のように、光記録層の形状変化をピットとして読
み取る方式において、光記録層を形成した後にグルーブ
を形成する簡単な製造方法で、フォーカスサーボとトラ
ッキングサーボを共に円滑に作動させる光記録媒体を高
生産性で量産することができる。
み取る方式において、光記録層を形成した後にグルーブ
を形成する簡単な製造方法で、フォーカスサーボとトラ
ッキングサーボを共に円滑に作動させる光記録媒体を高
生産性で量産することができる。
l・・・基板
3・・・第2光記録層
5・・・グルーブ
2・・・第1光記録層
4・・・紫外線硬化樹脂層
Claims (2)
- (1)基板上の光記録樹脂層の上面に、グルーブか形成
された樹脂層を有することを特徴とする光記録媒体。 - (2)基板上に光記録樹脂層を形成する工程と、前記光
記録樹脂層上に、グルーブが設けられた樹脂層を形成す
る工程とからなることを特徴とする光記録媒体の製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP90188919A JPH0476832A (ja) | 1990-07-17 | 1990-07-17 | 光記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP90188919A JPH0476832A (ja) | 1990-07-17 | 1990-07-17 | 光記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0476832A true JPH0476832A (ja) | 1992-03-11 |
Family
ID=16232184
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP90188919A Pending JPH0476832A (ja) | 1990-07-17 | 1990-07-17 | 光記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0476832A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09128806A (ja) * | 1995-10-30 | 1997-05-16 | Nec Corp | 光ディスク,光ディスク用情報アクセス方法およびその装置 |
-
1990
- 1990-07-17 JP JP90188919A patent/JPH0476832A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09128806A (ja) * | 1995-10-30 | 1997-05-16 | Nec Corp | 光ディスク,光ディスク用情報アクセス方法およびその装置 |
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