JPH04184728A - 光記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
光記録媒体およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH04184728A JPH04184728A JP2313530A JP31353090A JPH04184728A JP H04184728 A JPH04184728 A JP H04184728A JP 2313530 A JP2313530 A JP 2313530A JP 31353090 A JP31353090 A JP 31353090A JP H04184728 A JPH04184728 A JP H04184728A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording layer
- recording
- resin
- layer
- wavelength
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 33
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 31
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 29
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 19
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 11
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 abstract description 5
- 239000000049 pigment Substances 0.000 abstract description 3
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 21
- 239000010408 film Substances 0.000 description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 3
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 GdTbFe or TbFeCo Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920003217 poly(methylsilsesquioxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、追記型および書換え型の光デイスク媒体およ
びその製造方法に関する。
びその製造方法に関する。
従来の技術
従来、レーザー光を用いた追記型光記録媒体としては、
ガラスやポリカーボネート樹脂などの透明基板上に、T
e系の薄膜を真空蒸着やスノ<ツタ法にて作成し、これ
に記録用のレーザー光を照射することにより記録膜を溶
融昇華さセで穴(ピ・ソト)を形成させる方式が代表的
であった。しかし、この場合、Teが湿度の高い環境で
は酸化されやすいため、通常はIn、Sn、Pbまたは
SeのいずれかやSeやBiなどの金属元素を少量添加
するのであるが、薄膜形成時に真空蒸着やスパッタ法な
どのドライ方式によりTeと上記添加金属の割合を一定
に保ちつつ、薄膜を形成することは非常に困難であり、
従って生産性や歩留まりなどに多くの問題があった。
ガラスやポリカーボネート樹脂などの透明基板上に、T
e系の薄膜を真空蒸着やスノ<ツタ法にて作成し、これ
に記録用のレーザー光を照射することにより記録膜を溶
融昇華さセで穴(ピ・ソト)を形成させる方式が代表的
であった。しかし、この場合、Teが湿度の高い環境で
は酸化されやすいため、通常はIn、Sn、Pbまたは
SeのいずれかやSeやBiなどの金属元素を少量添加
するのであるが、薄膜形成時に真空蒸着やスパッタ法な
どのドライ方式によりTeと上記添加金属の割合を一定
に保ちつつ、薄膜を形成することは非常に困難であり、
従って生産性や歩留まりなどに多くの問題があった。
また、他の製造方法として、TeOxやTeとTeOx
との混合物などの薄膜を記録材料として用いる方法もあ
る。この場合、書き込み用のレーザー光を照射したとこ
ろがアモルファス状態から結晶状態に転移し、再生時の
レーザー光の反射率が大きくなる方式である。この場合
も上記の記録膜と同様、製膜時にはドライ方式を用いる
ので、膜組成を均一にする管理や、歩留まりなどに多く
の問題があった。
との混合物などの薄膜を記録材料として用いる方法もあ
る。この場合、書き込み用のレーザー光を照射したとこ
ろがアモルファス状態から結晶状態に転移し、再生時の
レーザー光の反射率が大きくなる方式である。この場合
も上記の記録膜と同様、製膜時にはドライ方式を用いる
ので、膜組成を均一にする管理や、歩留まりなどに多く
の問題があった。
また、書換え可能な光デイスク媒体としては、記録膜と
してGdTbFeやTbFeCoなどのように希土類金
属と遷移金属との組合せよりなる非晶質合金が一般に用
いられる。この方式では書き込み時のレーザー照射によ
り、記録膜の磁化方向の反転を起こさせて、再生時のレ
ーザー光の反射光の偏光面の回転角(カー回転角)を情
報として読み出す光磁気記録方式が用いられている。し
かし、材料費が高価であったり、歩留まりが悪いことの
他に、偏光を用いて再生出力が小さいため、書き込み、
再生および消去の装置が複雑になるなどの欠点があった
。
してGdTbFeやTbFeCoなどのように希土類金
属と遷移金属との組合せよりなる非晶質合金が一般に用
いられる。この方式では書き込み時のレーザー照射によ
り、記録膜の磁化方向の反転を起こさせて、再生時のレ
ーザー光の反射光の偏光面の回転角(カー回転角)を情
報として読み出す光磁気記録方式が用いられている。し
かし、材料費が高価であったり、歩留まりが悪いことの
他に、偏光を用いて再生出力が小さいため、書き込み、
再生および消去の装置が複雑になるなどの欠点があった
。
また、他の方法として、TeGe5nAuなとのアモル
ファス−結晶の相変化を利用する方式もあるが、製膜に
ドライ方式を用いる点や、歩留まりが悪いなどの欠点が
あった。
ファス−結晶の相変化を利用する方式もあるが、製膜に
ドライ方式を用いる点や、歩留まりが悪いなどの欠点が
あった。
以上のような欠点を解決する手段として、特開昭60−
203488号公報、特開昭63−102988号公報
などに開示されているように、有機色素を用いる方式が
提案されている。この方式では高分子材料とレーザー光
を吸収する有機色素を溶媒に溶解させた後、スピンコー
ド法により基板に塗布し簡単に製膜か可能であるので低
コスト化が可能である。しかし、有機色素を用いた光記
録方式では、書き込み時のレーザー照射により、色素が
融解、昇華して、ピットとして穴か開いたり、または色
素が分解して、再生光に対する反射率が変化したりする
原理を記録に応用しているので、色素の反応が可逆的で
はないので追記型光記録は可能であるが、書換え型光記
録は不可能である。
203488号公報、特開昭63−102988号公報
などに開示されているように、有機色素を用いる方式が
提案されている。この方式では高分子材料とレーザー光
を吸収する有機色素を溶媒に溶解させた後、スピンコー
ド法により基板に塗布し簡単に製膜か可能であるので低
コスト化が可能である。しかし、有機色素を用いた光記
録方式では、書き込み時のレーザー照射により、色素が
融解、昇華して、ピットとして穴か開いたり、または色
素が分解して、再生光に対する反射率が変化したりする
原理を記録に応用しているので、色素の反応が可逆的で
はないので追記型光記録は可能であるが、書換え型光記
録は不可能である。
以上のような、コスト、製膜性、書き込み再生装置の簡
略化を満足し書換え可能な光記録媒体として、有機色素
を含んだ樹脂を書き込み時のレーザー光照射により変形
させ、その形状変化をピントとして読み取る方式が提案
されている(例えば米国特許4825430号、478
0867号など)。
略化を満足し書換え可能な光記録媒体として、有機色素
を含んだ樹脂を書き込み時のレーザー光照射により変形
させ、その形状変化をピントとして読み取る方式が提案
されている(例えば米国特許4825430号、478
0867号など)。
この方式では、レーザー光吸収のための有機色素を含ん
だ樹脂を基板の表面に塗布し、それに書き込み時のレー
ザーを照射すると、色素がレーザー光を吸収し、それに
よって発生した熱により樹脂が変形(膨張など)して、
ピットを生成するという原理により追記型光記録媒体と
して用いられる。また、異なる波長のレーザー光をそれ
ぞれ吸収する2種類の色素をそれぞれ含んだ2層の樹脂
層を基板上に形成する。書き込み時には波長λ1のレー
ザー光を照射すると、例えば基板上に形成した2層の樹
脂層のうちの基板側の層にλ1のレーザー光を吸収する
色素を含有させておけば、その層は、λ1のレーザー光
を吸収して発熱により変形し、その層の上層をも変形さ
せピットを形成することができる。さらに、消去時の波
長λ2のレーザー光を吸収する色素を上層側に含有させ
ておけば、消去時のλ2のレーザー光を吸収した上層の
樹脂は、ガラス転移温度以上に昇温し、この熱により下
層の記録層も再びもとの平坦な形状に戻すことができる
。すなわちピットを消去させることができる。
だ樹脂を基板の表面に塗布し、それに書き込み時のレー
ザーを照射すると、色素がレーザー光を吸収し、それに
よって発生した熱により樹脂が変形(膨張など)して、
ピットを生成するという原理により追記型光記録媒体と
して用いられる。また、異なる波長のレーザー光をそれ
ぞれ吸収する2種類の色素をそれぞれ含んだ2層の樹脂
層を基板上に形成する。書き込み時には波長λ1のレー
ザー光を照射すると、例えば基板上に形成した2層の樹
脂層のうちの基板側の層にλ1のレーザー光を吸収する
色素を含有させておけば、その層は、λ1のレーザー光
を吸収して発熱により変形し、その層の上層をも変形さ
せピットを形成することができる。さらに、消去時の波
長λ2のレーザー光を吸収する色素を上層側に含有させ
ておけば、消去時のλ2のレーザー光を吸収した上層の
樹脂は、ガラス転移温度以上に昇温し、この熱により下
層の記録層も再びもとの平坦な形状に戻すことができる
。すなわちピットを消去させることができる。
この方式では、真空蒸着やスパッタなどの真空方式を用
いる他の方式と比べて、スピンコード法などの製造方法
を用いて作成することができ、記録材の組成制御や膜厚
制御が簡単にできることの他に、他の記録材に比べて、
材料コストも安くトータルで見ても、非常に安価な、し
かも書換え可能な記録膜を得ることができる。
いる他の方式と比べて、スピンコード法などの製造方法
を用いて作成することができ、記録材の組成制御や膜厚
制御が簡単にできることの他に、他の記録材に比べて、
材料コストも安くトータルで見ても、非常に安価な、し
かも書換え可能な記録膜を得ることができる。
発明が解決しようとする課題
このような従来の記録方式にも原理的に1つだけ欠点が
存在する。
存在する。
それは、樹脂層を膨張させて識別可能なピア)を形成さ
せるためには、樹脂層の厚みが数μm必要である。予め
グループが形成された基板上に上記の方式の樹脂記録層
を形成させ、レーザー照射によりピットを形成させる。
せるためには、樹脂層の厚みが数μm必要である。予め
グループが形成された基板上に上記の方式の樹脂記録層
を形成させ、レーザー照射によりピットを形成させる。
このとき、ピットとグループとの間隔が少なくとも樹脂
の厚み程度隔たることになる。レーザー照射に用いる通
常の光ヘッドでは、レーザー光の焦点深度が2μmくら
いであるので、記録層の表面に合焦するようフォーカス
サーボをかけるとトラッキングサーボが動作しないこと
が起こり得る。この問題の解決法として、光ヘッドの対
物レンズの開口数を小さくし、ヘッドと記録媒体の距離
を大きくとることが理論的には可能である。しかし、こ
のような光ヘッドを実現するには大幅な設計変更が必要
で、開発コストが多額になる。
の厚み程度隔たることになる。レーザー照射に用いる通
常の光ヘッドでは、レーザー光の焦点深度が2μmくら
いであるので、記録層の表面に合焦するようフォーカス
サーボをかけるとトラッキングサーボが動作しないこと
が起こり得る。この問題の解決法として、光ヘッドの対
物レンズの開口数を小さくし、ヘッドと記録媒体の距離
を大きくとることが理論的には可能である。しかし、こ
のような光ヘッドを実現するには大幅な設計変更が必要
で、開発コストが多額になる。
本発明は、このような課題を解決するもので、有機色素
を含んだ樹脂層を記録媒体として用いた時に、フォーカ
スサーボとトラッキングサーボが容易に動作する記録膜
構造を有する光記録媒体を提供することを目的とするも
のである。
を含んだ樹脂層を記録媒体として用いた時に、フォーカ
スサーボとトラッキングサーボが容易に動作する記録膜
構造を有する光記録媒体を提供することを目的とするも
のである。
課題を解決するための手段
本発明はこのような課題を解決するもので、透明な基板
と、前記基板上に設けた波長λ1の光を選択的に吸収し
て熱変形する第1の記録層と、前記第1の記録層上に設
けた波長λ2の光を選択的に吸収し、光ピックアップの
トラッキング用のグループを兼ねる第2の記録層とを備
え、記録時は前記第1の記録層に波長λ、の光を照射し
て熱変形させ、消去時は波長λ2の光により前記第2の
記録層を照射して熱変形を回復させるようにしたもので
ある。
と、前記基板上に設けた波長λ1の光を選択的に吸収し
て熱変形する第1の記録層と、前記第1の記録層上に設
けた波長λ2の光を選択的に吸収し、光ピックアップの
トラッキング用のグループを兼ねる第2の記録層とを備
え、記録時は前記第1の記録層に波長λ、の光を照射し
て熱変形させ、消去時は波長λ2の光により前記第2の
記録層を照射して熱変形を回復させるようにしたもので
ある。
また、グループを兼ねる第2の記録層を光硬化型樹脂を
用いて形成するようにしたものである。
用いて形成するようにしたものである。
作用
この構成により、第1の記録層上に第2の記録層兼グル
ープを近接して形成させることかできるので、記録層と
グループとの両者が光ピックアップの焦点深度内に存在
し、フォーカスサーボとトラッキングサーボを同時に作
動させることができることとなる。
ープを近接して形成させることかできるので、記録層と
グループとの両者が光ピックアップの焦点深度内に存在
し、フォーカスサーボとトラッキングサーボを同時に作
動させることができることとなる。
実施例
ガラス、ポリカーボネート樹脂またはポリメチルメタク
リレート樹脂などの基板上に書き込み用のレーザ光(G
aAfAs系半導体レーザ、発振波長830nm、出力
20mw)を選択的に吸収する色素を含有したエポキン
樹脂やウレタン樹脂なとを溶媒に溶解させ、スピンコー
ド法にて塗布したのち、加熱乾燥硬化させ第1の記録層
を形成させる。さらに、消去時のレーザ光(GaAi!
As系半導体レーザ、発振波長780nm、出力20m
w)を選択的に吸収する色素を含有した紫外線硬化樹脂
をスピンコード法にて塗布し、グループ形成用のスタン
パ−を圧接しながら、基板側より紫外線を照射し、紫外
線硬化樹脂を硬化させる。その後、スタンパ−を取り除
くことにより、第2の記録層兼グループ層を形成する。
リレート樹脂などの基板上に書き込み用のレーザ光(G
aAfAs系半導体レーザ、発振波長830nm、出力
20mw)を選択的に吸収する色素を含有したエポキン
樹脂やウレタン樹脂なとを溶媒に溶解させ、スピンコー
ド法にて塗布したのち、加熱乾燥硬化させ第1の記録層
を形成させる。さらに、消去時のレーザ光(GaAi!
As系半導体レーザ、発振波長780nm、出力20m
w)を選択的に吸収する色素を含有した紫外線硬化樹脂
をスピンコード法にて塗布し、グループ形成用のスタン
パ−を圧接しながら、基板側より紫外線を照射し、紫外
線硬化樹脂を硬化させる。その後、スタンパ−を取り除
くことにより、第2の記録層兼グループ層を形成する。
この時、第1の記録層と第2の記録層の膜厚は、それぞ
れ約5μm1および0.4−0.8μmとする。また、
グループの深さは500−600人程度とする。
れ約5μm1および0.4−0.8μmとする。また、
グループの深さは500−600人程度とする。
このようにして得られた光記録媒体にデータを書き込む
には、波長830nm、出力20mwのGaA1’As
系半導体レーザ光を基板側より照射すると、照射された
レーザ光は第1層の記録層の色素により吸収され、第1
の記録層の樹脂がその吸収熱により膨張し、第2の記録
層の樹脂層を変形させる。第2の記録層の樹脂層は、ガ
ラス転移温度以上には昇温しでおらず、第1層よりの応
力をうけて弾性変形をして、その変形形状を保持する。
には、波長830nm、出力20mwのGaA1’As
系半導体レーザ光を基板側より照射すると、照射された
レーザ光は第1層の記録層の色素により吸収され、第1
の記録層の樹脂がその吸収熱により膨張し、第2の記録
層の樹脂層を変形させる。第2の記録層の樹脂層は、ガ
ラス転移温度以上には昇温しでおらず、第1層よりの応
力をうけて弾性変形をして、その変形形状を保持する。
再生時は、波長780nm、出力IIIIWOGaAf
As系半導体レーザ光を照射し、第2の記録層上に変形
してできたピットを情報として読み取る。
As系半導体レーザ光を照射し、第2の記録層上に変形
してできたピットを情報として読み取る。
さらに、消去時は、波長780nm、出力20mwのG
aAj!As系半導体レーザ光を照射すると、第2の記
録層に含有された色素がこの波長のレーザ光を吸収し、
第2の記録層がガラス転移温度以上に昇温して再びもと
の形状にもどる。この時、上記の光硬化法により形成さ
れたグループの位置は、ビット形成部の記録膜と垂直方
向に0.4−〇、8μmしか離れておらず、光ヘッドの
焦点深度内に充分おさまっており、フォーカスサーボと
トラッキングサーボが容易に動作する。
aAj!As系半導体レーザ光を照射すると、第2の記
録層に含有された色素がこの波長のレーザ光を吸収し、
第2の記録層がガラス転移温度以上に昇温して再びもと
の形状にもどる。この時、上記の光硬化法により形成さ
れたグループの位置は、ビット形成部の記録膜と垂直方
向に0.4−〇、8μmしか離れておらず、光ヘッドの
焦点深度内に充分おさまっており、フォーカスサーボと
トラッキングサーボが容易に動作する。
以下に具体的実施例によりさらに詳細に説明する。
ビスフェノールA[東部化成■製YD128]1重量部
と硬化材としてポリアミド樹脂[東部化成■製G−74
OA] 0.6重量部をメチルセロソルブ20重量部に
溶解させ、さらに、830nmのレーザ光を吸収する色
素としてシアニン色素[日本感光色素■製NK−116
1コ0.5重量部を加え均一に溶解させた溶液を、スピ
ンコード法にてグループが形成されていない平坦な円形
のポリカーボネート樹脂基板上に塗布し、80℃で30
分間熱処理を行い、第1の光記録膜を得た。
と硬化材としてポリアミド樹脂[東部化成■製G−74
OA] 0.6重量部をメチルセロソルブ20重量部に
溶解させ、さらに、830nmのレーザ光を吸収する色
素としてシアニン色素[日本感光色素■製NK−116
1コ0.5重量部を加え均一に溶解させた溶液を、スピ
ンコード法にてグループが形成されていない平坦な円形
のポリカーボネート樹脂基板上に塗布し、80℃で30
分間熱処理を行い、第1の光記録膜を得た。
デックタック膜厚計により膜厚を測ると5.2μmであ
った。
った。
さらに、その上に紫外線硬化樹脂[大日本インキ化学工
業■製EX−704] 1重量部と、780nmのレー
ザ光を吸収する色素としてシアニン色素[日本感光色素
■製NK−2627コ0.2重量部とをトルエン100
重量部に溶解させた溶液を、スピンコード法にて塗布し
、グループ形成用のスタンパ−をその表面に圧接しなが
ら基板側より紫外線を照射して上記の紫外線硬化樹脂を
硬化させると同時に、記録層とグループを形成させた。
業■製EX−704] 1重量部と、780nmのレー
ザ光を吸収する色素としてシアニン色素[日本感光色素
■製NK−2627コ0.2重量部とをトルエン100
重量部に溶解させた溶液を、スピンコード法にて塗布し
、グループ形成用のスタンパ−をその表面に圧接しなが
ら基板側より紫外線を照射して上記の紫外線硬化樹脂を
硬化させると同時に、記録層とグループを形成させた。
硬化後、スタンパ−を取り除き書換え可能な光記録ディ
スクを得た。
スクを得た。
得られた光記録ディスクに、データ書き込みのために、
光記録ディスクを1800rpI11で回転させながら
出力20mw、波長830nmの半導体レーザ光を25
0ns照射することにより、第2層上にピットを形成さ
せることができた。再生は、出力1mw、波長780n
mの半導体レーザを100ns照射することにより、ピ
ットを読み取ることかできた。この時のC/N比は、4
5dBであった。
光記録ディスクを1800rpI11で回転させながら
出力20mw、波長830nmの半導体レーザ光を25
0ns照射することにより、第2層上にピットを形成さ
せることができた。再生は、出力1mw、波長780n
mの半導体レーザを100ns照射することにより、ピ
ットを読み取ることかできた。この時のC/N比は、4
5dBであった。
さらに、消去のために出力20mw、波長780nmの
半導体レーザを160ns照射することにより、ピット
を消去することができた。
半導体レーザを160ns照射することにより、ピット
を消去することができた。
(比較例)
予めグループが形成されたポリカーボネート樹脂基板を
用い、実施例と同様の記録材料にて、グループ付のスタ
ンパ−を用いないこと以外は、実施例と同様の方法で第
1の記録層および第2の記録層を得た。
用い、実施例と同様の記録材料にて、グループ付のスタ
ンパ−を用いないこと以外は、実施例と同様の方法で第
1の記録層および第2の記録層を得た。
得られた記録層に、データを書き込むために、実施例と
同様に光記録ディスクを回転しつつ、出力20mw、波
長830nmの半導体レーザ光を照射したが、トラッキ
ングサーボが動作せず書き込むことができなかった。
同様に光記録ディスクを回転しつつ、出力20mw、波
長830nmの半導体レーザ光を照射したが、トラッキ
ングサーボが動作せず書き込むことができなかった。
なお、本実施例は光記録ディスクを例にあげて説明した
が、本発明はこれに限定されるものではなく、光カード
など直線走査型光記録媒体にも用いることができる。
が、本発明はこれに限定されるものではなく、光カード
など直線走査型光記録媒体にも用いることができる。
発明の効果
以上の実施例の説明からも明らかなように本発明によれ
ば、記録層の形状変化をピットとして読み取る光記録方
式において、第1の記録層を形成した後に、第2の記録
層兼グループを光硬化型樹脂により形成することにより
、フォーカスサーボとトラッキングサーボをともに容易
に動作させることができる。また、スピンコード法によ
li板に塗布して光記録媒体を作成できるので、簡単な
製造設備で歩留りよく光記録媒体を製造できるという効
果が得られる。
ば、記録層の形状変化をピットとして読み取る光記録方
式において、第1の記録層を形成した後に、第2の記録
層兼グループを光硬化型樹脂により形成することにより
、フォーカスサーボとトラッキングサーボをともに容易
に動作させることができる。また、スピンコード法によ
li板に塗布して光記録媒体を作成できるので、簡単な
製造設備で歩留りよく光記録媒体を製造できるという効
果が得られる。
第1図は本発明の一実施例の光記録媒体の断面図である
。 1・・・・・・基板、2・・・・・・第1の樹脂記録層
、3・・・・・・第2の樹脂記録層兼グループ形成層、
4・・・・・・色素。
。 1・・・・・・基板、2・・・・・・第1の樹脂記録層
、3・・・・・・第2の樹脂記録層兼グループ形成層、
4・・・・・・色素。
Claims (2)
- (1)透明な基板と、前記基板上に設けた波長λ_1の
光を選択的に吸収して熱変形する第1の記録層と、前記
第1の記録層上に設けた波長λ_2の光を選択的に吸収
し、光ピックアップのトラッキング用のグループを兼ね
る第2の記録層とを備え、記録時は前記第1の記録層に
波長λ_1の光を照射して熱変形させ、消去時は波長λ
_2の光により前記第2の記録層を照射して熱変形を修
復させる光記録媒体。 - (2)グループを兼ねる第2の記録層を光硬化型樹脂を
用いて形成する請求項1記載の光記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2313530A JPH04184728A (ja) | 1990-11-19 | 1990-11-19 | 光記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2313530A JPH04184728A (ja) | 1990-11-19 | 1990-11-19 | 光記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04184728A true JPH04184728A (ja) | 1992-07-01 |
Family
ID=18042426
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2313530A Pending JPH04184728A (ja) | 1990-11-19 | 1990-11-19 | 光記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04184728A (ja) |
-
1990
- 1990-11-19 JP JP2313530A patent/JPH04184728A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH04184728A (ja) | 光記録媒体およびその製造方法 | |
JP2811603B2 (ja) | 光情報記録媒体 | |
US5392272A (en) | Single erasable optical recording layer having both retention and expansion characteristics | |
JPH0453195B2 (ja) | ||
JPH03120625A (ja) | 情報記録再生装置 | |
US5503957A (en) | Organic optical recording medium and method for the prevention of rewrite therein | |
JPH0476832A (ja) | 光記録媒体及びその製造方法 | |
JP3068420B2 (ja) | 光学的情報記録媒体の再生方法 | |
JP3399033B2 (ja) | 光学的情報記録担体の製造方法 | |
JPS63303793A (ja) | 光記録媒体 | |
JPH01243255A (ja) | 金属原盤の製造方法及び該金属原盤製造用マスタディスク | |
JP2906541B2 (ja) | 光記録媒体の製造方法 | |
JPH0498630A (ja) | 光記録媒体 | |
JPH083912B2 (ja) | 新規な光記録媒体及びその製造方法 | |
JPH0410981A (ja) | 光記録媒体 | |
JP2906540B2 (ja) | 光記録媒体 | |
JPH0497890A (ja) | 光記録媒体 | |
JPH07304258A (ja) | 光記録媒体及びその信号記録方法 | |
JPH05128592A (ja) | 光情報記録媒体とそれを用いた記録再生装置 | |
JPH0676372A (ja) | 平滑な樹脂保護膜を有する光学的情報記録媒体の製造方法及びそれによって製造された記録媒体 | |
WO1991010994A1 (en) | Low energy recording process | |
JPH03132391A (ja) | 消去可能な高反射性光学記録媒体 | |
JPH031339A (ja) | 光カード | |
JPH03256243A (ja) | 光記録方法 | |
JPH07307037A (ja) | 光記録媒体及びその製造方法 |