JPH0469331B2 - - Google Patents
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- JPH0469331B2 JPH0469331B2 JP59228408A JP22840884A JPH0469331B2 JP H0469331 B2 JPH0469331 B2 JP H0469331B2 JP 59228408 A JP59228408 A JP 59228408A JP 22840884 A JP22840884 A JP 22840884A JP H0469331 B2 JPH0469331 B2 JP H0469331B2
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- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 54
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 11
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims 2
- 238000001028 reflection method Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
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- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/93—Detection standards; Calibrating baseline adjustment, drift correction
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は例えばパイプ表面のピンホールを検
出する光学的表面検査装置に係り、特にシエーデ
イングのついた入力信号から欠陥を検出可能とす
る光学的表面検査装置の改良に関するものであ
る。
出する光学的表面検査装置に係り、特にシエーデ
イングのついた入力信号から欠陥を検出可能とす
る光学的表面検査装置の改良に関するものであ
る。
第４図ａは例えばオートメーシヨン第28巻第11
号に示された従来の光学的表面検査装置のブロツ
ク図、第４図ｂは主なタイミング波形であり、図
において１は被検査材、２はピンホール等の欠
陥、３は一次元のイメージセンサ、４はセンサが
見込む視野、５はスレツシヨールドを設定するス
レツシヨールド設定器、６はイメージセンサ３か
らのアナログ信号を２値化する為のコンパレー
タ、７はシフトレジスタ、８は欠陥２に対応した
欠陥信号である。
号に示された従来の光学的表面検査装置のブロツ
ク図、第４図ｂは主なタイミング波形であり、図
において１は被検査材、２はピンホール等の欠
陥、３は一次元のイメージセンサ、４はセンサが
見込む視野、５はスレツシヨールドを設定するス
レツシヨールド設定器、６はイメージセンサ３か
らのアナログ信号を２値化する為のコンパレー
タ、７はシフトレジスタ、８は欠陥２に対応した
欠陥信号である。
従来の光学的表面検査装置は上記のように構成
され、テープ状の金属箔、紙、布等の平面状の被
検材１におけるピンホールやシミ等の欠陥２を人
が目視検査をする代りに光学により自動的に欠陥
２を検出するものである。
され、テープ状の金属箔、紙、布等の平面状の被
検材１におけるピンホールやシミ等の欠陥２を人
が目視検査をする代りに光学により自動的に欠陥
２を検出するものである。
被検材１が図中の矢印の方向に移動し、イメー
ジセンサ３の視野４は被検材１の移動方向と直角
に設置される。
ジセンサ３の視野４は被検材１の移動方向と直角
に設置される。
欠陥２が移動して視野４の中に入るとイメージ
センサ３は欠陥を検出して、第４図の波形ａのよ
うなビデオ信号が得られる、この時欠陥信号８が
欠陥２に対応している。
センサ３は欠陥を検出して、第４図の波形ａのよ
うなビデオ信号が得られる、この時欠陥信号８が
欠陥２に対応している。
コンパレータ６はイメージセンサ３からのビデ
オ信号を２値化してドライバー回路７へ供給さ
れ、ここでは制御機器、表示器、警報器等の外部
機器を駆動するためのタイミングを作成すると共
にパワーを外部へ供給する。
オ信号を２値化してドライバー回路７へ供給さ
れ、ここでは制御機器、表示器、警報器等の外部
機器を駆動するためのタイミングを作成すると共
にパワーを外部へ供給する。
スレツシヨールド９はスレツシヨールド設定器
５により調整され、コンパレータ６は２つの入力
が比較されて第４図の波形ｂのような２値化され
た出力が得られる。
５により調整され、コンパレータ６は２つの入力
が比較されて第４図の波形ｂのような２値化され
た出力が得られる。
上記のように従来の光学的表面検査装置では、
被検材１の形状が平面であり、欠陥２が存在しな
い部分からの光の反射量が一定で第４図波形ａの
ように欠陥信号８の以外の部分が平担なビデオ信
号が得られる場合にはスレツシヨールド９により
コンパレートして２値化すると欠陥２に対応した
信号のみが第４図波形ｂのように得ることができ
る。ところが、被検材１の形状が例えばパイプ等
においては周辺においては反射光の量が少なくな
り欠陥信号８よりレベルの低い背景部分が出てく
るので、固定のスレツシヨールド９では欠陥のみ
を切り出せなくなる。又、欠陥２が金属の溶接部
等に発生するピンホール等の場合には、ピンホー
ル以外の溶接表面から欠陥２に類似した微小信号
が多数発生し、その類似欠陥の様相は溶接方法や
被検材１の材質等により種々雑多であるので、従
来方法では区別出来ない等の問題点があつた。
被検材１の形状が平面であり、欠陥２が存在しな
い部分からの光の反射量が一定で第４図波形ａの
ように欠陥信号８の以外の部分が平担なビデオ信
号が得られる場合にはスレツシヨールド９により
コンパレートして２値化すると欠陥２に対応した
信号のみが第４図波形ｂのように得ることができ
る。ところが、被検材１の形状が例えばパイプ等
においては周辺においては反射光の量が少なくな
り欠陥信号８よりレベルの低い背景部分が出てく
るので、固定のスレツシヨールド９では欠陥のみ
を切り出せなくなる。又、欠陥２が金属の溶接部
等に発生するピンホール等の場合には、ピンホー
ル以外の溶接表面から欠陥２に類似した微小信号
が多数発生し、その類似欠陥の様相は溶接方法や
被検材１の材質等により種々雑多であるので、従
来方法では区別出来ない等の問題点があつた。
この発明は、かかる問題点を解決するためにな
されたもので、背景レベルが平担でないシエーデ
イングのついたビデオ信号しか得られない被検材
や欠陥に類似した微小なノイズに混在した欠陥を
検出することを目的とする。
されたもので、背景レベルが平担でないシエーデ
イングのついたビデオ信号しか得られない被検材
や欠陥に類似した微小なノイズに混在した欠陥を
検出することを目的とする。
この発明に係る光学的表面検査装置は、シエー
デイングのついた背景の中から欠陥信号のみを切
り出すために、イメージセンサの視野の中から欠
陥が発生し得る領域のみを有効に処理するための
ゲートを発生できる手段を持つことにした。そし
て、このゲートは位置と大きさをデイジタルスイ
ツチにより被検材の種類に応じて設定できるよう
にした。
デイングのついた背景の中から欠陥信号のみを切
り出すために、イメージセンサの視野の中から欠
陥が発生し得る領域のみを有効に処理するための
ゲートを発生できる手段を持つことにした。そし
て、このゲートは位置と大きさをデイジタルスイ
ツチにより被検材の種類に応じて設定できるよう
にした。
また、欠陥以外の溶接面等からの微小反射光等
の類似欠陥を取り除くために、欠陥として判定す
る為の最小サイズをｘ方向とｙ方向の二次元にお
いてデイジタルスイツチにより設定できるように
したものである。
の類似欠陥を取り除くために、欠陥として判定す
る為の最小サイズをｘ方向とｙ方向の二次元にお
いてデイジタルスイツチにより設定できるように
したものである。
この発明においては、パイプ溶接部内のピンホ
ール検出等のように、シエーデイングのついた背
景を取り除くために、ゲートの位置と大きさを最
適に設定することにより、シエーデイングの影響
を受けずに欠陥を検出することができ、溶接表面
等からの類似微小欠陥に混在した欠陥を欠陥サイ
ズの判定値をデイジタルスイツチにより最適に設
定することにより、類似微小欠陥を取り除き、真
に取り出したい欠陥のみを検出できる。
ール検出等のように、シエーデイングのついた背
景を取り除くために、ゲートの位置と大きさを最
適に設定することにより、シエーデイングの影響
を受けずに欠陥を検出することができ、溶接表面
等からの類似微小欠陥に混在した欠陥を欠陥サイ
ズの判定値をデイジタルスイツチにより最適に設
定することにより、類似微小欠陥を取り除き、真
に取り出したい欠陥のみを検出できる。
第１図はこの発明の一実施例を示すブロツク
図、第２図は各部の主な波形であり、１〜９は上
記従来装置と全く同一のものである。１０はゲー
ト発生回路、１１はデイジタルスイツチ、１２は
アンドゲート、１３は類似微小欠陥を取り除くた
めのフイルタ回路、１４は各部へタイミングを供
給するためのタイミング発生回路、１５はシエー
デイングのついたビデオ信号、１６は欠陥信号８
に対応した２値化後の欠陥信号、１７はシエーデ
イングによる不要信号である。
図、第２図は各部の主な波形であり、１〜９は上
記従来装置と全く同一のものである。１０はゲー
ト発生回路、１１はデイジタルスイツチ、１２は
アンドゲート、１３は類似微小欠陥を取り除くた
めのフイルタ回路、１４は各部へタイミングを供
給するためのタイミング発生回路、１５はシエー
デイングのついたビデオ信号、１６は欠陥信号８
に対応した２値化後の欠陥信号、１７はシエーデ
イングによる不要信号である。
上記のように構成された光学的表面検査装置に
おいては、コンパレータ６は従来装置と同様にイ
メージセンサ３からのビデオ信号をスレツシヨー
ルド９で比較して２値化した信号をアンドゲート
１２へ供給する。デイジタルスイツチ１１ａによ
りゲート位置を設定するためのデータとデイジタ
ルスイツチ１１ｂによりゲートの大きさを設定す
るためのデータがゲート発生回路１０に入力され
た後ゲートが作成されてアンドゲート１２へ供給
される。アンドゲート１２ではゲート発生回路１
０で発生されたゲート内の２値化ビデオ信号のみ
を有効としてｘ方向のフイルタ回路１３ａへ供給
し、デイジタルスイツチ１１ｃで設定されたｘ方
向の検出サイズ以上の欠陥のみを通過させて、ｙ
方向のフイルタ回路１３ｂへ供給する。
おいては、コンパレータ６は従来装置と同様にイ
メージセンサ３からのビデオ信号をスレツシヨー
ルド９で比較して２値化した信号をアンドゲート
１２へ供給する。デイジタルスイツチ１１ａによ
りゲート位置を設定するためのデータとデイジタ
ルスイツチ１１ｂによりゲートの大きさを設定す
るためのデータがゲート発生回路１０に入力され
た後ゲートが作成されてアンドゲート１２へ供給
される。アンドゲート１２ではゲート発生回路１
０で発生されたゲート内の２値化ビデオ信号のみ
を有効としてｘ方向のフイルタ回路１３ａへ供給
し、デイジタルスイツチ１１ｃで設定されたｘ方
向の検出サイズ以上の欠陥のみを通過させて、ｙ
方向のフイルタ回路１３ｂへ供給する。
ｙ方向のフイルタ回路１３ｂもｘ方向と同様に
デイジタルスイツチ１１ｄで設定された検出サイ
ズ以上の欠陥のみを通過させて、ドライバ回路７
へ供給する。タイミング発生回路１４はイメージ
センサの各素子に対応したクロツクをゲート発生
回路１０とｘ方向フイルタ回路１３ａへ供給する
と共に、ｘ方向の走査周期に対応したクロツクを
ｙ方向フイルタ回路１３ｂへ供給する。
デイジタルスイツチ１１ｄで設定された検出サイ
ズ以上の欠陥のみを通過させて、ドライバ回路７
へ供給する。タイミング発生回路１４はイメージ
センサの各素子に対応したクロツクをゲート発生
回路１０とｘ方向フイルタ回路１３ａへ供給する
と共に、ｘ方向の走査周期に対応したクロツクを
ｙ方向フイルタ回路１３ｂへ供給する。
次に各部の主な信号の波形を第２図により説明
する。
する。
波形ａはイメージセンサ３からのアナログビデ
オ信号であり、欠陥信号８以外の背景レベルが平
担でなくシエーデイングがついており両サイドで
は欠陥信号８より低くなつているので、スレツシ
ヨールド９で２値化すると、コンパレータ６の出
力は波形ｂのように２値化後の欠陥信号１６以外
にも両サイドに不要信号１７ａと１７ｂが出てく
る。
オ信号であり、欠陥信号８以外の背景レベルが平
担でなくシエーデイングがついており両サイドで
は欠陥信号８より低くなつているので、スレツシ
ヨールド９で２値化すると、コンパレータ６の出
力は波形ｂのように２値化後の欠陥信号１６以外
にも両サイドに不要信号１７ａと１７ｂが出てく
る。
そこでゲート発生回路１０において波形ｃのよ
うなゲートを発生させるが、T1とT2の時間はデ
イジタルスイツチ１１ａと１１ｂにより設定され
るものである。
うなゲートを発生させるが、T1とT2の時間はデ
イジタルスイツチ１１ａと１１ｂにより設定され
るものである。
アンドゲート１２の入力波形が波形ｂと波形ｃ
であり、その出力が波形ｄである。よつて、アン
ドゲート１２の出力として、シエーデイングのつ
いたビデオ信号１５から欠陥信号のみを取り出す
ことができる。
であり、その出力が波形ｄである。よつて、アン
ドゲート１２の出力として、シエーデイングのつ
いたビデオ信号１５から欠陥信号のみを取り出す
ことができる。
次にフイルタ回路１３のアルゴリズム及び回路
としては種々のものが考えられるが具体的な一例
を図により説明する。
としては種々のものが考えられるが具体的な一例
を図により説明する。
第３図ａは具体的な回路の例、第３図ｂはフイ
ルタを通る前の欠陥の断面を示す図、第３図ｃは
ｘ方向のフイルタを通過した後の欠陥の断面を示
す図であり、１８はシフトレジスタ、１９は読み
出し専用のメモリである。
ルタを通る前の欠陥の断面を示す図、第３図ｃは
ｘ方向のフイルタを通過した後の欠陥の断面を示
す図であり、１８はシフトレジスタ、１９は読み
出し専用のメモリである。
ｘ方向のフイルタ回路１３ａもｙ方向のフイル
タ回路１３ｂも基本的には同様であり、第３図ａ
のブロツク図で示される。シフトレジスタ１８は
２値化されたビデオ信号をパラレルデータに変換
してメモリ１９へ供給する。メモリ１９はパラレ
ルに変換されたビデオ信号とデイジタルスイツチ
からのデータを受け取り、デイジタルスイツチで
設定された大きさ以上のビデオ信号の場合にのみ
信号を出力するようにメモリ１９の内容が書き込
まれている。
タ回路１３ｂも基本的には同様であり、第３図ａ
のブロツク図で示される。シフトレジスタ１８は
２値化されたビデオ信号をパラレルデータに変換
してメモリ１９へ供給する。メモリ１９はパラレ
ルに変換されたビデオ信号とデイジタルスイツチ
からのデータを受け取り、デイジタルスイツチで
設定された大きさ以上のビデオ信号の場合にのみ
信号を出力するようにメモリ１９の内容が書き込
まれている。
第３図ｂはフイルタを通過する前の欠陥の断面
を示す図であり、実線が欠陥の上をｘ方向にビー
ムがスキヤンしたことを示し、６本の走査線で表
現されている。この欠陥をデイジタルスイツチ１
１ｃによりｘ方向のフイルタ段数を２と設定した
場合、ｘ方向に２ピクセル以上の実線部分のみを
通過させるのでｘ方向のフイルタ回路１３ａを通
過する欠陥の断面は第３図ｃの実線で表示され、
４本の実線で表示された走査線が通過する。仮り
に、ｙ方向のフイルタ段数を４に設定した場合に
はｙ方向のフイルタ回路１３ｂの出力は第３図ｃ
でｙ方向に４個以上の実線がある部分のみが通過
し第３図ｄのように現われて欠陥が存在すると判
断されるが、フイルタ段数を５以上に設定した場
合には第３図ｃでｙ方向に５個以上の実線がある
部分のみが通過し第３図ｅのようになり欠陥が存
在しないと判断される。
を示す図であり、実線が欠陥の上をｘ方向にビー
ムがスキヤンしたことを示し、６本の走査線で表
現されている。この欠陥をデイジタルスイツチ１
１ｃによりｘ方向のフイルタ段数を２と設定した
場合、ｘ方向に２ピクセル以上の実線部分のみを
通過させるのでｘ方向のフイルタ回路１３ａを通
過する欠陥の断面は第３図ｃの実線で表示され、
４本の実線で表示された走査線が通過する。仮り
に、ｙ方向のフイルタ段数を４に設定した場合に
はｙ方向のフイルタ回路１３ｂの出力は第３図ｃ
でｙ方向に４個以上の実線がある部分のみが通過
し第３図ｄのように現われて欠陥が存在すると判
断されるが、フイルタ段数を５以上に設定した場
合には第３図ｃでｙ方向に５個以上の実線がある
部分のみが通過し第３図ｅのようになり欠陥が存
在しないと判断される。
ところで上記説明ではゲートの位置や大きさ及
びフイルタの段数はデイジタルスイツチによつて
設定されていたが、この設定手段についてはこの
限りではなく、キーボードや外部制御装置等の各
種の設定方法が考えられる。
びフイルタの段数はデイジタルスイツチによつて
設定されていたが、この設定手段についてはこの
限りではなく、キーボードや外部制御装置等の各
種の設定方法が考えられる。
又、２値化を行う為のスレツシヨールドについ
ても、ボリユームによる設定を行うよう説明して
いるが、これはあくまでも説明の便宜上であり、
ゲート内の平均レベルを用いてアダプテイブにス
レツシヨールドを可変することも可能である。
ても、ボリユームによる設定を行うよう説明して
いるが、これはあくまでも説明の便宜上であり、
ゲート内の平均レベルを用いてアダプテイブにス
レツシヨールドを可変することも可能である。
この発明は以上説明したとおり、位置と大きさ
を可変可能なゲートと二次元的に欠陥の検出サイ
ズを設定可能なフイルタを使用することにより、
シエーデイングのついた背景の中の類似微小欠陥
に混在した欠陥のみを検出することが可能になる
という効果がある。
を可変可能なゲートと二次元的に欠陥の検出サイ
ズを設定可能なフイルタを使用することにより、
シエーデイングのついた背景の中の類似微小欠陥
に混在した欠陥のみを検出することが可能になる
という効果がある。
よつて、パイプ溶接部内に発生するピンホール
等のように従来装置では検出困難な欠陥も検出可
能になるという効果がある。
等のように従来装置では検出困難な欠陥も検出可
能になるという効果がある。
第１図はこの発明の一実施例を示すブロツク
図、第２図は第１図の各部の主な波形を説明する
ための図、第３図はこの発明のフイルタ回路の一
実施例を説明する図、第４図は従来の表面検査装
置を説明する図である。 図において、１は被検査材、２は欠陥、３はイ
メージセンサ、４は視野、５はスレツシヨールド
設定器、６はコンパレータ、７はドライバー回
路、８は欠陥信号、９はスレツシヨールド、１０
はゲート発生回路、１１はデジタルスイツチ、１
２はアンドゲート、１３はフイルタ回路、１４は
タイミング発生回路、１５はシエーデイングのつ
いたビデオ信号、１６は２値化後の欠陥信号、１
７は不要信号、１８はシフトレジスタ、１９はメ
モリである。
図、第２図は第１図の各部の主な波形を説明する
ための図、第３図はこの発明のフイルタ回路の一
実施例を説明する図、第４図は従来の表面検査装
置を説明する図である。 図において、１は被検査材、２は欠陥、３はイ
メージセンサ、４は視野、５はスレツシヨールド
設定器、６はコンパレータ、７はドライバー回
路、８は欠陥信号、９はスレツシヨールド、１０
はゲート発生回路、１１はデジタルスイツチ、１
２はアンドゲート、１３はフイルタ回路、１４は
タイミング発生回路、１５はシエーデイングのつ
いたビデオ信号、１６は２値化後の欠陥信号、１
７は不要信号、１８はシフトレジスタ、１９はメ
モリである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 被検材の移動方向とセンサの視野が直角にな
るように設置された一次元イメージセンサで反射
法により被検材の欠陥を検出する光学的表面検査
装置において、 上記イメージセンサからのビデオ信号を２値化
する２値化手段と、上記イメージセンサのスキヤ
ン開始点からのゲートの位置とその大きさを設定
するゲート設定手段と、上記ゲート設定手段によ
り設定されたゲートの位置および大きさに対応し
たゲートを発生するゲート発生回路と、上記２値
化手段からの２値化ビデオ信号を入力し、上記ゲ
ート発生回路の出力信号を受けてそのゲート内に
存在する２値化ビデオ信号を抽出する抽出手段
と、被検材の移動方向（ｙ方向）と直角なｘ方向
の欠陥の検出サイズを設定するｘ方向の検出サイ
ズ設定手段と、ｙ方向の欠陥の検出サイズを設定
するｙ方向の検出サイズ設定手段と、上記抽出手
段で抽出された２値化ビデオ信号を入力し、上記
ｘ方向の検出サイズ設定手段により設定されたｘ
方向の欠陥の検出サイズ以上の２値化ビデオ信号
のみを通過させるｘ方向のフイルタ回路と、上記
ｘ方向のフイルタ回路の出力を入力し、その２値
化ビデオ信号のうち上記設定されたｙ方向の欠陥
の検出サイズ以上の２値化ビデオ信号を通過させ
るｙ方向のフイルタ回路とを具備したことを特徴
とする光学的表面検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22840884A JPS61107143A (ja) | 1984-10-30 | 1984-10-30 | 光学的表面検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22840884A JPS61107143A (ja) | 1984-10-30 | 1984-10-30 | 光学的表面検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61107143A JPS61107143A (ja) | 1986-05-26 |
| JPH0469331B2 true JPH0469331B2 (ja) | 1992-11-05 |
Family
ID=16875998
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22840884A Granted JPS61107143A (ja) | 1984-10-30 | 1984-10-30 | 光学的表面検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61107143A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5922556B2 (ja) * | 2012-11-01 | 2016-05-24 | 日立Ｇｅニュークリア・エナジー株式会社 | 溶接検査装置及び溶接検査方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5187092A (ja) * | 1975-01-28 | 1976-07-30 | Canon Kk | Hyomenkensasochi |
| JPS541082A (en) * | 1977-06-03 | 1979-01-06 | Omron Tateisi Electronics Co | Defect detector |
| JPS5571937A (en) * | 1978-11-24 | 1980-05-30 | Kanebo Ltd | Method of and device for inspecting surface |
-
1984
- 1984-10-30 JP JP22840884A patent/JPS61107143A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5187092A (ja) * | 1975-01-28 | 1976-07-30 | Canon Kk | Hyomenkensasochi |
| JPS541082A (en) * | 1977-06-03 | 1979-01-06 | Omron Tateisi Electronics Co | Defect detector |
| JPS5571937A (en) * | 1978-11-24 | 1980-05-30 | Kanebo Ltd | Method of and device for inspecting surface |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61107143A (ja) | 1986-05-26 |
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