JPH0467725B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0467725B2
JPH0467725B2 JP62183578A JP18357887A JPH0467725B2 JP H0467725 B2 JPH0467725 B2 JP H0467725B2 JP 62183578 A JP62183578 A JP 62183578A JP 18357887 A JP18357887 A JP 18357887A JP H0467725 B2 JPH0467725 B2 JP H0467725B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tin
copper
alloy
layer
contact
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP62183578A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6430124A (en
Inventor
Kazuhiko Fukamachi
Ryoichi Nobeyoshi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eneos Corp
Original Assignee
Nippon Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Mining Co Ltd filed Critical Nippon Mining Co Ltd
Priority to JP18357887A priority Critical patent/JPS6430124A/ja
Publication of JPS6430124A publication Critical patent/JPS6430124A/ja
Publication of JPH0467725B2 publication Critical patent/JPH0467725B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Manufacture Of Switches (AREA)
  • Contacts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野] 本発明は電気的接続性に優れた接触子の製造方
法に関し、特には低い接圧力においても、接触抵
抗が低く、安定している接触子を製造せんとする
ものである。 [従来の技術] 銅又は銅合金に接点用金属として錫又は錫−鉛
合金を電気めつき後、加熱溶融処理を施した複合
材は民生用電子機器の接触子として多用されてい
る。 一方、接触信頼性が高度に要求される機器、部
品における接触子の接点用金属としては、金、
銀、ロジウム等が使用される。 [発明が解決しようとする問題点] 銅又は銅合金に錫又は錫−鉛合金をめつきした
複合材は、錫又は錫−鉛合金は貴金属に比べ耐食
性が低く、各種の腐蝕環境での腐蝕生成物や微摺
動摩耗腐蝕などにより低い接圧力では接触抵抗が
安定し難い問題があり、又、金、銀、ロジウム等
は低い接圧力で接触抵抗が低く安定しているもの
の高価である問題がある。 [問題点を解決するための手段] 本発明は上記問題点を解決するためになされた
もので、銅又は銅合金に錫又は錫−鉛合金をめつ
きした複合材であつて、しかも低い接圧力で接触
抵抗が低く安定している接触子を提供せんとする
もので、銅又は銅合金に錫又は錫−鉛合金を電気
めつきした後、該めつき層を加熱溶融する方法に
おいて、加熱溶融時にめつき層中の錫原子と母材
又は下地の銅原子の拡散により形成される合金層
の、純錫相又は錫−鉛合金層との界面における粒
径の平均を1〜5μmとすることを特徴とする接
触子の製造方法である。 銅合金としては、りん青銅、黄銅、洋白、ベリ
リウム銅、チタン銅等多種の銅合金が用いられる
が、本発明はこれらの銅合金に直接或いは銅下地
めつきを行つた後、錫或いは錫−鉛合金を電気め
つきする。 次にこれを錫或いは錫−鉛合金の融点以上の温
度に加熱保持し、銅−錫合金層の厚み及び残され
た錫又は錫−鉛合金が所定の厚みになつたところ
で水冷する。 銅下地めつき、錫めつき及び錫−鉛合金めつき
の条件は公知のことであり、これらの中から適宜
選択して実施することができる。 錫−鉛合金めつきは一般に半田めつきと呼ばれ
るもので、錫90wt%−鉛10wt%又は錫60wt%−
鉛40wt%の組成のものが最も多く用いられる。 加熱溶融処理には重油、ブタン等の直火型の炉
の他、電気炉、赤外線炉、高周波加熱炉等いずれ
を用いても良く、これらにより本発明は制限され
ない。 銅又は銅合金上の錫又は錫−鉛合金層を加熱溶
融すると、母材又は下地の銅とめつき層中の錫と
の拡散生成物としてCu6Sn5相とCu3Sn相及びその
他の母材元素を含む銅−錫合金の層が形成され
る。通常めつき層が溶融した直後に水冷凝固させ
ても0.1〜0.3μm程度の厚みの合金層が生じるが、
これを溶融状態で数秒ないし10秒以上保持すると
合金層の厚みが0.4〜1.2μmとなる。 これら形成された合金層のビツカース硬度は
350〜450にもなり、その上層に残留する錫又は錫
−鉛合金層の50以下に比べ著しく硬い。したがつ
て両層により薄膜金属潤滑作用が発生し、電気接
点とし接圧をかけ接触させた時に、摺動あるいは
嵌合が滑らかで、かつ接触抵抗も低いものと考え
られる。 しかも銅−錫合金層は加熱溶融時に母材又は銅
下地めつきの面と平行に成長するのではなく、層
断面からみると、波状に成長するが、この合金層
の形状が接触子としての接触性に影響を与える。 この銅−錫合金層は電解研磨やアルカリ性の化
学研磨液(例えば水酸化ナトリウム50g/、ニ
トロフエノール35g/)でめつき面を処理する
と錫層又は錫−鉛合金層が除かれ露出する。露出
した銅−鉛合金層すなわちCu6Sn5相やCu3Sn層は
粒状である。この銅−錫合金層の粒径の平均が1
〜5μmの範囲で接触性が良好であることを見出
した。前述の薄膜金属潤滑作用とともに、接触時
の多数の微視的接点に影響を及ぼすものと考えら
れる。又、その時の合金層の平均厚みが0.4〜
1.2μmの時、特に接触抵抗が低いことが観察され
た。 さらに母材との組み合せでは、りん青銅を母材
とし、銅下地めつきを施さず、直接錫又は錫−銅
合金電気めつきし、加熱溶融処理したものは特に
有効である。りん青銅は錫を2〜8wt%含有して
いるため、加熱溶融時にめつき層の錫とりん青銅
の間で銅−錫合金層の形成が速やかである。又、
りん青銅母材上に直接錫又は錫−鉛合金をめつき
し、その後加熱溶融処理すると、銅地下めつきを
施した場合や、黄銅、チタン銅あるいはベリリウ
ム銅を母材とした場合のめつき皮膜に比べて接触
抵抗が低い傾向がある。 [実施例] 銅、洋白(Cu−18%Ni−26%Zn)およびりん
青銅(Cu−5%Sn)の0.2mm厚の板をアルカリ脱
脂、電解脱脂及び酸洗中和後、電気めつきを施し
た。各種めつき条件は下記の通りである。 銅めつき 浴組成:硫酸銅 200g/ 硫 酸 70g/ 浴 温:30℃ 電流密度:5A/dm2 錫めつき 浴組成:硫酸第1錫 65g/ 硫 酸 70g/ 添加剤 10g/ 浴 温:20℃ 電流密度:3A/dm2 半田(錫鉛合金)めつき 浴組成:ホウフツ化鉛 54g/ ホウフツ化錫 130g/ ホウフツ酸 90g/ 添加剤 40g/ 浴 温:20℃ 電流密度:3A/dm2 電気めつき後の加熱溶融処理は、電気炉中600
℃の雰囲気温度に数秒ないし数10秒保持し、銅−
錫合金層を形成させた後、水冷、温風乾燥した。
銅−錫合金層の厚みは、電解式厚み測定法により
行つた。 接触抵抗は試料面上で50gの荷重を負荷した半
径5mmの白金リングを10mm/minの速度で5mmの
距離を移動、往復させ、10mAの直流電流を流
し、接触抵抗を測定した。往復回数は500回とし
た。移動、往復に伴い接触抵抗は変動するため範
囲で示す。また、その時試料にひずみゲージを接
触させ、摩擦抵抗を測定し、相対的に大小で表わ
した。 結果を第1表に示す。第1表の結果から明らか
なように実施例は比較例に比べ接触抵抗が低く、
かつ変動も少ない。さらに摩擦抵抗も低いため、
接触子用組成として好適である。
【表】 [発明の効果] 本発明によれば、外観不良を生じることなく、
接触抵抗が低く、かつ変動も少く、さらに摩擦抵
抗も低い接触子としての特性が優れた材料が得ら
れる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 銅又は銅合金に錫又は錫−鉛合金を電気めつ
    きした後、該めつき層を加熱溶融する方法におい
    て、加熱溶融時にめつき層中の錫原子と母材又は
    下地の銅原子の拡散により形成される合金層の、
    純錫層又は錫−鉛合金層との界面における粒径の
    平均を1〜5μmとすることを特徴とする接触子
    の製造方法。 2 拡散により形成される合金層の厚みが0.4〜
    1.2μmである特許請求の範囲第1項記載の接触子
    の製造方法。 3 銅合金としてりん青銅を用いる特許請求の範
    囲第1項又は第2項記載の接触子の製造方法。
JP18357887A 1987-07-24 1987-07-24 Manufacture of contactor Granted JPS6430124A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18357887A JPS6430124A (en) 1987-07-24 1987-07-24 Manufacture of contactor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18357887A JPS6430124A (en) 1987-07-24 1987-07-24 Manufacture of contactor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6430124A JPS6430124A (en) 1989-02-01
JPH0467725B2 true JPH0467725B2 (ja) 1992-10-29

Family

ID=16138267

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18357887A Granted JPS6430124A (en) 1987-07-24 1987-07-24 Manufacture of contactor

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6430124A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130134253A (ko) * 2012-05-30 2013-12-10 주식회사 로보빌더 리벳툴

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6759142B2 (en) 2001-07-31 2004-07-06 Kobe Steel Ltd. Plated copper alloy material and process for production thereof
TW200704789A (en) * 2005-06-30 2007-02-01 Nippon Mining Co Sn-plated copper alloy bar having excellent fatigue characteristics
JP5117436B2 (ja) * 2008-12-12 2013-01-16 Jx日鉱日石金属株式会社 プリント基板端子用銅合金すずめっき材

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5615569A (en) * 1979-07-18 1981-02-14 Nippon Mining Co Contactor
JPS59222594A (ja) * 1983-05-30 1984-12-14 Nippon Mining Co Ltd 接触子の製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5615569A (en) * 1979-07-18 1981-02-14 Nippon Mining Co Contactor
JPS59222594A (ja) * 1983-05-30 1984-12-14 Nippon Mining Co Ltd 接触子の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130134253A (ko) * 2012-05-30 2013-12-10 주식회사 로보빌더 리벳툴

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6430124A (en) 1989-02-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6495001B2 (en) Method for manufacturing a metallic composite strip
WO2007126011A1 (ja) Cu-Ni-Si合金すずめっき条
JP6172811B2 (ja) Ag−Sn合金めっき液及び電子部品の製造方法
US3892637A (en) Method of treatment of metal surfaces
JP6543216B2 (ja) Snめっき材およびその製造方法
JP5692799B2 (ja) Snめっき材およびその製造方法
JP2008248332A (ja) Snめっき条及びその製造方法
JP3998731B2 (ja) 通電部材の製造方法
JP2012007242A (ja) Cu−Ni−Si合金すずめっき条
US3573008A (en) Composite metal article of copper material with a coat of nickel and tin
US4360411A (en) Aluminum electrical contacts and method of making same
JPH0467725B2 (ja)
KR20170120547A (ko) 전자 부품용 Sn 도금재
JP2010090400A (ja) 導電材及びその製造方法
JP2647656B2 (ja) 接触子の製造方法
JP2647657B2 (ja) 接触子の製造方法
CN103459678A (zh) 镀锡材料
JPH0467726B2 (ja)
JP3378717B2 (ja) リフローめっき部材の製造方法
JP5442385B2 (ja) 導電部材及びその製造方法
JPH02145794A (ja) 耐熱剥離性に優れたリフロー錫またははんだめっき銅または銅合金材料
JPS6219264B2 (ja)
JP2749773B2 (ja) リフロー半田めっき角線及びその製造方法
WO2024116940A1 (ja) 銀被覆材の製造方法、銀被覆材および通電部品
JP4014739B2 (ja) リフローSnめっき材及び前記リフローSnめっき材を用いた端子、コネクタ、又はリード部材