JPH0467003A - 回折格子作製方法 - Google Patents
回折格子作製方法Info
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- JPH0467003A JPH0467003A JP17785290A JP17785290A JPH0467003A JP H0467003 A JPH0467003 A JP H0467003A JP 17785290 A JP17785290 A JP 17785290A JP 17785290 A JP17785290 A JP 17785290A JP H0467003 A JPH0467003 A JP H0467003A
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Landscapes
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- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は回折格子作製方法および回折格子に関する。
[従来の技術]
回折格子は種々の光学装置に使用されるほか、エンコー
ダー等としても利用される。
ダー等としても利用される。
このような回折格子の作製方法として近来、マグネティ
ック・リソグラフィー法によるものが意図されている。
ック・リソグラフィー法によるものが意図されている。
この方法は「基体上に形成された磁気記録媒体薄層に磁
気ヘッドにより格子パターンを書き込み。
気ヘッドにより格子パターンを書き込み。
磁性コロイド流体により格子パターンを顕像化する」こ
とにより回折格子を作製するというものである。
とにより回折格子を作製するというものである。
[発明が解決しようとする課題]
上記マグネティック・リソグラフィー法に於いて用いら
れる磁性コロイド流体は「界面活性剤を溶解させた溶剤
中に、数10乃至数100人径の微小な強磁性粒子を分
散させて」なる。従って格子パターンを顕像化させた後
、溶剤が蒸発すると磁性記録媒体薄膜上には強磁性粒子
により顕像化された格子パターンと界面活性剤とが残る
が、界面活性剤には固化機能や接着機能がないため、顕
像化された格子パターンを磁性記録媒体薄層に定着する
ために接着剤の塗布等が必用であり、接着剤塗布の際に
顕像化された格子パターンが乱れたり、定着が完全に行
われないと格子が磁性記録媒体薄膜から剥踵したりする
問題があった。
れる磁性コロイド流体は「界面活性剤を溶解させた溶剤
中に、数10乃至数100人径の微小な強磁性粒子を分
散させて」なる。従って格子パターンを顕像化させた後
、溶剤が蒸発すると磁性記録媒体薄膜上には強磁性粒子
により顕像化された格子パターンと界面活性剤とが残る
が、界面活性剤には固化機能や接着機能がないため、顕
像化された格子パターンを磁性記録媒体薄層に定着する
ために接着剤の塗布等が必用であり、接着剤塗布の際に
顕像化された格子パターンが乱れたり、定着が完全に行
われないと格子が磁性記録媒体薄膜から剥踵したりする
問題があった。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、顕像化され
た格子パターンを乱すことなく格子支持体へ密着性良く
定着できる新規な回折格子作製方法および格子支持体へ
の格子の定着性にすぐれた新規な回折格子の提供を目的
とする。
た格子パターンを乱すことなく格子支持体へ密着性良く
定着できる新規な回折格子作製方法および格子支持体へ
の格子の定着性にすぐれた新規な回折格子の提供を目的
とする。
[課題を解決するための手段]
以下、本発明を特徴する
請求項1の回折格子作製方法は「基体上に磁気記録媒体
薄層を形成してなる格子支持体の磁気記録媒体薄層に磁
気ヘッドにより格子パターンを書き込む」工程と、「格
子パターンを書き込まれた磁気記録媒体薄層に光硬化性
磁性流体を塗布して格子パターンを顕像化する」工程と
、r顕像化された格子パターンを光照射により格子支持
体上に定着する」工程とを有する。
薄層を形成してなる格子支持体の磁気記録媒体薄層に磁
気ヘッドにより格子パターンを書き込む」工程と、「格
子パターンを書き込まれた磁気記録媒体薄層に光硬化性
磁性流体を塗布して格子パターンを顕像化する」工程と
、r顕像化された格子パターンを光照射により格子支持
体上に定着する」工程とを有する。
請求項2の回折格子は請求項1の方法で作製される回折
格子である。
格子である。
請求項3の回折格子作製方法は「基体上に磁気記録媒体
薄層を形成してなる格子支持体の磁気記録媒体薄層に磁
気ヘッドにより格子パターンを書き込む」工程と、「格
子パターンを書き込まれた磁気記録媒体薄層に熱硬化性
磁性流体を塗布して格子パターンを顕像化する」工程と
、「顕像化された格子パターンを加熱して格子支持体上
に定着する」工程とを有する。
薄層を形成してなる格子支持体の磁気記録媒体薄層に磁
気ヘッドにより格子パターンを書き込む」工程と、「格
子パターンを書き込まれた磁気記録媒体薄層に熱硬化性
磁性流体を塗布して格子パターンを顕像化する」工程と
、「顕像化された格子パターンを加熱して格子支持体上
に定着する」工程とを有する。
請求項4の回折格子は請求項3の方法で作製された回折
格子である。
格子である。
請求項1の方法に於いて用いられる「光硬化性磁性流体
」は、50〜200人径の強磁性粒子を界面活性剤とと
もに光硬化性樹脂に分散させたものである。また上記分
散のため、必用に応じて溶剤が用いられる。
」は、50〜200人径の強磁性粒子を界面活性剤とと
もに光硬化性樹脂に分散させたものである。また上記分
散のため、必用に応じて溶剤が用いられる。
請求項3の方法に於いて用いられる「熱硬化性磁性流体
」は、50〜200人径の強磁性粒子を界面活性剤とと
もに熱硬化性樹脂に分散させたものである。また上記分
散のため、必用に応じて溶剤が用いられる。
」は、50〜200人径の強磁性粒子を界面活性剤とと
もに熱硬化性樹脂に分散させたものである。また上記分
散のため、必用に応じて溶剤が用いられる。
光・熱硬化性磁性流体に「溶剤」を用いる場合は格子パ
ターの顕像化後、光照射あるいは加熱を行うのに先立っ
て、自然乾燥や赤外線照射等により溶剤を乾燥させる。
ターの顕像化後、光照射あるいは加熱を行うのに先立っ
て、自然乾燥や赤外線照射等により溶剤を乾燥させる。
光硬化性磁性流体および熱硬化性磁性流体に用いられる
r強磁性粒子」の材料としては、マンガンフェライト、
マグネタイト、バリウムフェライト、コバルトフェライ
ト、コバルト、鉄等を挙げることができる。
r強磁性粒子」の材料としては、マンガンフェライト、
マグネタイト、バリウムフェライト、コバルトフェライ
ト、コバルト、鉄等を挙げることができる。
「光硬化性樹脂」としては、N−ビニルカルバゾル、ア
クリル酸バリウム、多価アルコールのアクリル酸エステ
ル、ウレタン型アクリル酸エステル、ポリイソプレン、
ポリビニルシンナマート、P−キノンジアミド化合物、
メチルビニルシロキサン、ポリアクリルアミド、ポリ塩
化ビニル、ポリビニルカルバゾル、ポリスチレン、ポリ
ビニルシロキサン、ポリビニル−P−アジドベンゾター
ト、N−ビニルピロリドン、アクリロニトリロアクリル
アミド鉄塩、多価カルボン酸の不飽和エステル、不飽和
駿アミド、ウレタン型アクリル酸エステル、アクリロニ
トリロアセチレン性不飽和基を持つモノマー等の光重合
成モノマーや感光性高分子、紫外線硬化型樹脂等を挙げ
ることができる。これらの光硬化性樹脂は特定の波長の
光の照射により硬化させることができる。
クリル酸バリウム、多価アルコールのアクリル酸エステ
ル、ウレタン型アクリル酸エステル、ポリイソプレン、
ポリビニルシンナマート、P−キノンジアミド化合物、
メチルビニルシロキサン、ポリアクリルアミド、ポリ塩
化ビニル、ポリビニルカルバゾル、ポリスチレン、ポリ
ビニルシロキサン、ポリビニル−P−アジドベンゾター
ト、N−ビニルピロリドン、アクリロニトリロアクリル
アミド鉄塩、多価カルボン酸の不飽和エステル、不飽和
駿アミド、ウレタン型アクリル酸エステル、アクリロニ
トリロアセチレン性不飽和基を持つモノマー等の光重合
成モノマーや感光性高分子、紫外線硬化型樹脂等を挙げ
ることができる。これらの光硬化性樹脂は特定の波長の
光の照射により硬化させることができる。
請求項1の方法に於いて定着工程の際に照射される光は
可視光に限られない、場合により紫外線や赤外線が照射
されることもある。
可視光に限られない、場合により紫外線や赤外線が照射
されることもある。
「熱硬化性樹脂」としてはエポキシ樹脂、不飽和ポリエ
ステル樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹
脂、フッ素樹脂、フェノール樹脂等を挙げることができ
る。これらの熱硬化性樹脂は150度以上の温度に加熱
することで硬化させることができる。
ステル樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹
脂、フッ素樹脂、フェノール樹脂等を挙げることができ
る。これらの熱硬化性樹脂は150度以上の温度に加熱
することで硬化させることができる。
これら光・熱硬化性樹脂のうち強磁性粒子と界面活性剤
とを直接分散させ得るものの場合は、これらを直接に分
散させ、直接的な分散が困難な場合は樹脂を適当な溶剤
に溶解させたものを分散媒として上記分散をおこなえば
良い。
とを直接分散させ得るものの場合は、これらを直接に分
散させ、直接的な分散が困難な場合は樹脂を適当な溶剤
に溶解させたものを分散媒として上記分散をおこなえば
良い。
格子支持体を構成する基体としてはガラス板やプラスチ
ック板あるいは金属板等を用い得る。この基体に形成さ
れる磁気記録媒体薄層としては、Fe20x膜のような
面内磁化膜でも良いし、CoCr膜のような垂直磁化膜
でも良い。垂直磁化膜を磁気記録媒体薄層とするとより
細かいピッチの回折格子の作製が可能である。
ック板あるいは金属板等を用い得る。この基体に形成さ
れる磁気記録媒体薄層としては、Fe20x膜のような
面内磁化膜でも良いし、CoCr膜のような垂直磁化膜
でも良い。垂直磁化膜を磁気記録媒体薄層とするとより
細かいピッチの回折格子の作製が可能である。
[作 用]
磁気ヘッドにより格子パターンを書き込まれた磁気記録
媒体薄層に光硬化性磁性流体もしくは熱硬化性磁性流体
を塗布すると流体中に分散している強磁性粒子が磁力の
作用により格子パターンに従った分布を形成して書き込
まれた格子パターンを顕像化する。この状態で光照射も
しくは加熱を行って光・熱硬化性樹脂を硬化させると強
磁性粒子により顕像化された格子パターンが格子支持体
に定着される。
媒体薄層に光硬化性磁性流体もしくは熱硬化性磁性流体
を塗布すると流体中に分散している強磁性粒子が磁力の
作用により格子パターンに従った分布を形成して書き込
まれた格子パターンを顕像化する。この状態で光照射も
しくは加熱を行って光・熱硬化性樹脂を硬化させると強
磁性粒子により顕像化された格子パターンが格子支持体
に定着される。
[実施例]
以下、具体的な実施例に即して説明する。
第1図(a)(b)に於いて符号IA、IA’はそれぞ
れ格子支持体を示している。
れ格子支持体を示している。
第2図はこれら格子支持体IA、IA’の構造を共通番
こ示している。第2図に示すように、格子支持体LA、
IA’はガラス基板等の基体5A上に磁気記録媒体薄
層6Aを数100OAの厚さに形成してなる。説明の具
体性のため、磁気記録媒体薄層6AはFe2O3の塗布
により形成された面内磁化膜であるとする。
こ示している。第2図に示すように、格子支持体LA、
IA’はガラス基板等の基体5A上に磁気記録媒体薄
層6Aを数100OAの厚さに形成してなる。説明の具
体性のため、磁気記録媒体薄層6AはFe2O3の塗布
により形成された面内磁化膜であるとする。
格子支持体IAは円板形状で、格子支持体IA’は矩形
板形状である。
板形状である。
第1図(a)に示すように格子支持体IAを中心軸AX
のまわりに等速回転させつつ、磁気ヘッド2Aに1.0
のクロック信号3を入力すると、磁気記録媒体薄層に円
周状の格子パターン4Aを書き込むことができる。
のまわりに等速回転させつつ、磁気ヘッド2Aに1.0
のクロック信号3を入力すると、磁気記録媒体薄層に円
周状の格子パターン4Aを書き込むことができる。
第1図(b)に示すように格子支持体IA’を矢印方向
に等速移動させつつ1Mi気ヘッド2Aに1,0のクロ
ック信号3を入力すると、磁気記録媒体薄層に格子パタ
ーン4A’を書き込むことができる。
に等速移動させつつ1Mi気ヘッド2Aに1,0のクロ
ック信号3を入力すると、磁気記録媒体薄層に格子パタ
ーン4A’を書き込むことができる。
第2図は磁気記録媒体薄層6Aに書き込まれた格子パタ
ーンの様子を示している。図の左右方向が書き込みの際
の磁気ヘッドと磁気記録媒体薄層との相対的な移動方向
である。
ーンの様子を示している。図の左右方向が書き込みの際
の磁気ヘッドと磁気記録媒体薄層との相対的な移動方向
である。
磁気記録媒体薄層6Aには、面内方向に磁化された細か
い磁区が配列し、各磁区に於ける磁化の向き(矢印で示
す)は交互に反転している。磁区配列のピッチは1〜数
μmである。
い磁区が配列し、各磁区に於ける磁化の向き(矢印で示
す)は交互に反転している。磁区配列のピッチは1〜数
μmである。
このように格子パターンを書き込まれた磁気記録媒体薄
層6Aに光硬化性磁性流体として例えば紫外線硬化型樹
脂を用いたものを塗布する。光硬化性磁性流中の強磁性
粒子の径は100〜200人である。
層6Aに光硬化性磁性流体として例えば紫外線硬化型樹
脂を用いたものを塗布する。光硬化性磁性流中の強磁性
粒子の径は100〜200人である。
すると書き込まれた格子パターンに於ける磁区の境界部
に強磁性粒子が引き付けられるため第3図に示すように
光硬化性磁性流体7Aにより顕像化された格子パターン
が得られる。
に強磁性粒子が引き付けられるため第3図に示すように
光硬化性磁性流体7Aにより顕像化された格子パターン
が得られる。
続いて自然乾燥または赤外線照射等による加熱により光
硬化性磁性流体中の溶剤を乾燥させる。
硬化性磁性流体中の溶剤を乾燥させる。
その後、第3図に示すように水銀ランプ8Aにより紫外
線を照射して光硬化性磁性流体中の紫外線硬化型樹脂を
硬化させると顕像化された格子パターンは格子支持体I
A、 IA’に堅固に定着される。
線を照射して光硬化性磁性流体中の紫外線硬化型樹脂を
硬化させると顕像化された格子パターンは格子支持体I
A、 IA’に堅固に定着される。
第4図(a)で符号10は上記の如くして作製された円
板状の回折格子を示す。この回折格子10を回転させつ
つ、格子部分に線状光源9からの光を照射して反射光束
により影絵的回折干渉パターンを形成し、回折格子10
の回転に伴う影絵的回折干渉パターンの移動を光センサ
−11により検出することにより回折格子10の回転量
を測定できる。
板状の回折格子を示す。この回折格子10を回転させつ
つ、格子部分に線状光源9からの光を照射して反射光束
により影絵的回折干渉パターンを形成し、回折格子10
の回転に伴う影絵的回折干渉パターンの移動を光センサ
−11により検出することにより回折格子10の回転量
を測定できる。
同様に、第4図(b)で符号10′は上記の如くして作
製された矩形板形状の回折格子を示す。この回折格子1
0’ を矢印方向へ移動させつつ格子部分に線状光源9
からの光を照射して反射光束により影絵的回折干渉パタ
ーンを形成し、回折格子10′の移動に伴う影絵的回折
干渉パターンの移動を光センサー11により検出するこ
とにより回折格子10′の移動量を測定できる。
製された矩形板形状の回折格子を示す。この回折格子1
0’ を矢印方向へ移動させつつ格子部分に線状光源9
からの光を照射して反射光束により影絵的回折干渉パタ
ーンを形成し、回折格子10′の移動に伴う影絵的回折
干渉パターンの移動を光センサー11により検出するこ
とにより回折格子10′の移動量を測定できる。
第5図に於いて符号IBはシリンダー状に形成された格
子支持体を示す。この格子支持体IBはシリンダー状の
基体5Bの周面部に磁気記録媒体薄層6Bを形成してな
る。
子支持体を示す。この格子支持体IBはシリンダー状の
基体5Bの周面部に磁気記録媒体薄層6Bを形成してな
る。
格子支持体IBを回転させつつ磁気ヘッド2Bにクロッ
ク信号3を入力させて書き込みを行うと図のように面内
磁化方向が交互に反転した微小磁区により格子パターン
が円筒状に書き込まれる。
ク信号3を入力させて書き込みを行うと図のように面内
磁化方向が交互に反転した微小磁区により格子パターン
が円筒状に書き込まれる。
このように格子パターンが書き込まれた磁気記録媒体薄
層6Bに熱硬化性磁性流体7Bを塗布すると格子パター
ンが顕像化されるので、第6図に示すように赤外線ラン
プ8Bにより加熱を行って、先ず熱硬化性磁性流体中の
溶剤を乾燥させ、しかる後、赤外線ランプ8Bの加熱温
度を高くして熱硬化性樹脂を硬化させることにより顕像
化された格子パターンを格子支持体1Bに定着する。
層6Bに熱硬化性磁性流体7Bを塗布すると格子パター
ンが顕像化されるので、第6図に示すように赤外線ラン
プ8Bにより加熱を行って、先ず熱硬化性磁性流体中の
溶剤を乾燥させ、しかる後、赤外線ランプ8Bの加熱温
度を高くして熱硬化性樹脂を硬化させることにより顕像
化された格子パターンを格子支持体1Bに定着する。
第7図に於いて符号12は、モーター14の回転軸13
を基体として、その周面部分に上記方法で形成された回
折格子を示している。
を基体として、その周面部分に上記方法で形成された回
折格子を示している。
モーター14を回転させつつ、回折格子の格子部分に線
状光源9からの光を照射して反射光束により影絵的回折
干渉パターンを形成し1回折格子の回転に伴う影絵的回
折干渉パターンの移動を光センサ−11により検出する
ことによりモーター回転軸の回転量を測定できる。
状光源9からの光を照射して反射光束により影絵的回折
干渉パターンを形成し1回折格子の回転に伴う影絵的回
折干渉パターンの移動を光センサ−11により検出する
ことによりモーター回転軸の回転量を測定できる。
上に説明した実施例では磁気記録媒体薄層として面内磁
化膜の場合を説明したが、先にも述べたように垂直磁化
膜により磁気記録媒体薄層を構成しても良い6垂直磁化
膜に格子パターンを書き込むと磁化の方向は磁気記録媒
体薄層の厚み方向となり、上記厚み方向の磁化の向きが
交互に反転した磁区の配列により格子パターンが書き込
まれる。
化膜の場合を説明したが、先にも述べたように垂直磁化
膜により磁気記録媒体薄層を構成しても良い6垂直磁化
膜に格子パターンを書き込むと磁化の方向は磁気記録媒
体薄層の厚み方向となり、上記厚み方向の磁化の向きが
交互に反転した磁区の配列により格子パターンが書き込
まれる。
このため垂直磁化膜の場合は面内磁化膜の場合よりもよ
り細かいピッチ(例えば1μmピッチ)の格子を書き込
むことが出来るのである。
り細かいピッチ(例えば1μmピッチ)の格子を書き込
むことが出来るのである。
また、上に説明した回転量や移動量の測定方法は、呂願
人が先に特開昭63− +7416 号公報に於いて
提案した点状光源を用いる方法や特開平1−29”7T
I3号公報で提案した線状光源を用いる方法、あるいは
特願平1−33?zCO号で提案したインコヒーレント
光をスリットを介して取り出すことにより線状光源とし
て用いる方法等を利用できる。
人が先に特開昭63− +7416 号公報に於いて
提案した点状光源を用いる方法や特開平1−29”7T
I3号公報で提案した線状光源を用いる方法、あるいは
特願平1−33?zCO号で提案したインコヒーレント
光をスリットを介して取り出すことにより線状光源とし
て用いる方法等を利用できる。
[発明の効果]
以上、本発明によれば新規な回折格子作製方法及び回折
格子を提供できる。
格子を提供できる。
本発明の方法では、顕像化された格子パターンの定着を
光照射もしく加熱により行うので、定着の際に上記格子
パターンが乱される恐れがない。
光照射もしく加熱により行うので、定着の際に上記格子
パターンが乱される恐れがない。
また、本発明の回折格子は作製が容易であるから低コス
トで作製でき、格子パターンと格子支持体の密着性に優
れている。
トで作製でき、格子パターンと格子支持体の密着性に優
れている。
第1図乃至第3図は本発明の詳細な説明するための図、
第4図は上記実施例による回折格子をエンコーダーとし
て用いて回転量や移動量の測定を行う例を説明するため
の図、第5図及び第6図は別実施例を説明するための図
、第7図は上記別実施例による回折格子をエンコーダー
として用いて回転量の測定を行う例を説明するための図
である。 IA、IA’、、、格子支持体、2A、、、磁気ヘッド
、 5A、、。
第4図は上記実施例による回折格子をエンコーダーとし
て用いて回転量や移動量の測定を行う例を説明するため
の図、第5図及び第6図は別実施例を説明するための図
、第7図は上記別実施例による回折格子をエンコーダー
として用いて回転量の測定を行う例を説明するための図
である。 IA、IA’、、、格子支持体、2A、、、磁気ヘッド
、 5A、、。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基体上に磁気記録媒体薄層を形成してなる格子支持
体の上記磁気記録媒体薄層に磁気ヘッドにより格子パタ
ーンを書き込み、 上記磁気記録媒体薄層に光硬化性磁性流体を塗布して上
記格子パターンを顕像化し、 顕像化された格子パターンを光照射により格子支持体上
に定着することを特徴とする、回折格子作製方法。 2、請求項1の方法で作製された回折格子。 3、基体上に磁気記録媒体薄層を形成してなる格子支持
体の上記磁気記録媒体薄層に磁気ヘッドにより格子パタ
ーンを書き込み、 上記磁気記録媒体薄層に熱硬化性磁性流体を塗布して上
記格子パターンを顕像化し、 顕像化された格子パターンを加熱して格子支持体上に定
着することを特徴とする、回折格子作製方法。 4、請求項3の方法で作製された回折格子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17785290A JP2919567B2 (ja) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | 回折格子作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17785290A JP2919567B2 (ja) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | 回折格子作製方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0467003A true JPH0467003A (ja) | 1992-03-03 |
JP2919567B2 JP2919567B2 (ja) | 1999-07-12 |
Family
ID=16038225
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17785290A Expired - Fee Related JP2919567B2 (ja) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | 回折格子作製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2919567B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10261558A1 (de) * | 2002-12-23 | 2004-07-15 | Carl Zeiss | Verfahren zum Herstellen eines diffraktiven optischen Bauteils |
DE10355599A1 (de) * | 2003-11-28 | 2005-07-07 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zur Herstellung eines Polarisationsgitters zur Polarisation elektromagnetischer Strahlung in einer lithographischen Belichtungseinrichtung |
-
1990
- 1990-07-05 JP JP17785290A patent/JP2919567B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10261558A1 (de) * | 2002-12-23 | 2004-07-15 | Carl Zeiss | Verfahren zum Herstellen eines diffraktiven optischen Bauteils |
DE10261558B4 (de) * | 2002-12-23 | 2008-10-02 | Carl Zeiss | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines diffraktiven optischen Bauteils |
DE10355599A1 (de) * | 2003-11-28 | 2005-07-07 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zur Herstellung eines Polarisationsgitters zur Polarisation elektromagnetischer Strahlung in einer lithographischen Belichtungseinrichtung |
DE10355599B4 (de) * | 2003-11-28 | 2009-05-14 | Qimonda Ag | Verfahren zur Durchführung einer lithographischen Belichtung mithilfe polarisierter elektromagnetischer Strahlung in einer lithographischen Belichtungseinrichtung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2919567B2 (ja) | 1999-07-12 |
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