JPH0465040A - 真空インタラプタの製造方法 - Google Patents
真空インタラプタの製造方法Info
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- JPH0465040A JPH0465040A JP17616790A JP17616790A JPH0465040A JP H0465040 A JPH0465040 A JP H0465040A JP 17616790 A JP17616790 A JP 17616790A JP 17616790 A JP17616790 A JP 17616790A JP H0465040 A JPH0465040 A JP H0465040A
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Landscapes
- High-Tension Arc-Extinguishing Switches Without Spraying Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
A 産業上の利用分野
本発明は、電極がビスマス(B i )等の低融点金属
を含有ずろ真空インタラプタの製造方法に関する。
を含有ずろ真空インタラプタの製造方法に関する。
B 発明の概要
本発明に係る真空インタラプタの製造方法では、B1な
どの低融点金属を含有する電極とアダプタとを接合面に
圧力をかけてろう付けし強度の高いろう付は部を得る。
どの低融点金属を含有する電極とアダプタとを接合面に
圧力をかけてろう付けし強度の高いろう付は部を得る。
次いで、導電性のアダプタとリード棒とをろう付けする
。このろう付は部は例えば胴(Cu)同士のろう付けと
なるので、低融点金属の影響を受けることがない。
。このろう付は部は例えば胴(Cu)同士のろう付けと
なるので、低融点金属の影響を受けることがない。
C従来の技術
真空インタラプタの一例の構造を第6図に示す。
第6図において、1はセラミックス等で形成された絶縁
筒で、その両端には金属環ff、a。
筒で、その両端には金属環ff、a。
1bが取付けである。金属環1a、lbの端には固定フ
ランジ2、可動側フランジ3が取付けである。固定側フ
ランジ2の中央部には固定リード棒5が貫通している。
ランジ2、可動側フランジ3が取付けである。固定側フ
ランジ2の中央部には固定リード棒5が貫通している。
固定リード棒5は固定側フランジ2と一体となっている
。
。
11!l縁筒1内において固定リード棒5の先端には固
定電極6が取付けである。
定電極6が取付けである。
可動側フランジ3の中央部には孔7があけてあり、そこ
より絶縁筒1内に可動リード棒8が挿入しである。この
可動リード棒8の先端には前記固定電極6と対向する可
動電極9が取付けである。
より絶縁筒1内に可動リード棒8が挿入しである。この
可動リード棒8の先端には前記固定電極6と対向する可
動電極9が取付けである。
可動リード棒8と可動側フランジ3との間はベローズ1
0で結合してあり、可動リード棒8は軸方向に移動可能
となっている。可動リード棒8には図示されていない操
作機構が連結し、操作機構によって可動リード棒8が軸
方向に動かされることによって電極6,9は開閉される
。
0で結合してあり、可動リード棒8は軸方向に移動可能
となっている。可動リード棒8には図示されていない操
作機構が連結し、操作機構によって可動リード棒8が軸
方向に動かされることによって電極6,9は開閉される
。
このような真空インタラプタの電極6,9においては、
ベースとなるCu又はCu合命命中Bi等の低融点金属
を含有させることが耐溶着性能を向上させる上で有効で
あることが知られている。そのため、約1重量%以下の
Bi等を添加している。
ベースとなるCu又はCu合命命中Bi等の低融点金属
を含有させることが耐溶着性能を向上させる上で有効で
あることが知られている。そのため、約1重量%以下の
Bi等を添加している。
D 発明が解決しようとする課題
上記のような真空インタラプタにおいて、その製作の際
、電極6,9とリード棒5,8とは結合される。電極と
り−ド棒との結合方式としては、ろう付けによる方式と
かしめ等の機械的結合方式とがある。
、電極6,9とリード棒5,8とは結合される。電極と
り−ド棒との結合方式としては、ろう付けによる方式と
かしめ等の機械的結合方式とがある。
ろう付けによる結合方式が一般的であるが、電極に低融
点金属が含まれている場合には、低融点金属がろう付は
部に浸入し、ろう付は部を弱くしてしまう。
点金属が含まれている場合には、低融点金属がろう付は
部に浸入し、ろう付は部を弱くしてしまう。
そのため、低融点金属を含有する電極とり−ド棒との結
合には、リード棒先端に突起を設けてこれを電極側にか
しめるなどの機械的結合方式が採用されている。
合には、リード棒先端に突起を設けてこれを電極側にか
しめるなどの機械的結合方式が採用されている。
しかしながら、機械的結合方式は、低圧小容量のものの
結合方式としては十分であるが、大容量用のものに適用
した場合には、強度が不十分であるという問題がある。
結合方式としては十分であるが、大容量用のものに適用
した場合には、強度が不十分であるという問題がある。
E、 1111を解決するための手段上記課題を解決
するため、本発明では、低融点金属を含有する電極の裏
面にろう材を介して導電性材料製のアダプタを合わせ、
電極とアダプタ間に荷重をかけた状態で加熱して電極と
アダプタとをろう付けし、次にアダプタとり−ド棒とを
ろう付けすると共に、かしめ結合するようにしたのであ
る。
するため、本発明では、低融点金属を含有する電極の裏
面にろう材を介して導電性材料製のアダプタを合わせ、
電極とアダプタ間に荷重をかけた状態で加熱して電極と
アダプタとをろう付けし、次にアダプタとり−ド棒とを
ろう付けすると共に、かしめ結合するようにしたのであ
る。
F 作 用
低融点金属を含有する電極と導電性材料製のアダプタと
のろう付けに際しては、電極とアダプタ間に荷重をかけ
た状態としておくのでろう付けが良好になされ、両者の
ろう付は強度が向上する。荷重は重しなどによりかける
。
のろう付けに際しては、電極とアダプタ間に荷重をかけ
た状態としておくのでろう付けが良好になされ、両者の
ろう付は強度が向上する。荷重は重しなどによりかける
。
電極とアダプタとのろう付は後、アダプタとり−ド棒と
をろう付けするので、このろう付は部は低融点金属の影
響を受けず、強度的に確かなものが得られる。
をろう付けするので、このろう付は部は低融点金属の影
響を受けず、強度的に確かなものが得られる。
G実施例
次に、本発明に係る真空インタラプタの製造方法の一実
施例を図面を参照して説明する。
施例を図面を参照して説明する。
実施例では、低融点金属としてBiを微量含有するC
r −Cu −B i電極を例に挙げる。
r −Cu −B i電極を例に挙げる。
Biを微量含有するC r −Cu t4極は例えば第
5図に示すようにして製作される。
5図に示すようにして製作される。
先ず、第5図[a)に示すように、−100メツシュ粒
度のCr 粒末21 aをアルミナセラミックス製の容
W22に入れ、これを真空炉内で、温度1200℃、圧
力5X10−5Torr下で脱ガスしつつ加熱処理し、
多孔質のCr焼結母材21bとする。
度のCr 粒末21 aをアルミナセラミックス製の容
W22に入れ、これを真空炉内で、温度1200℃、圧
力5X10−5Torr下で脱ガスしつつ加熱処理し、
多孔質のCr焼結母材21bとする。
次に、第5図(blに示すように、得られたCr焼結母
材21b上にCu−0,5重量%Biのインゴット23
とCuのインゴット24とを載せ、真空炉内で、温度1
100℃、圧力5X 10−’To r r下で脱ガス
しつつ加熱処理する。Cu −B iインゴット23、
Cuイッゴット24が溶融し、Cr焼結母材21bのC
r粒子間隙に溶浸する。
材21b上にCu−0,5重量%Biのインゴット23
とCuのインゴット24とを載せ、真空炉内で、温度1
100℃、圧力5X 10−’To r r下で脱ガス
しつつ加熱処理する。Cu −B iインゴット23、
Cuイッゴット24が溶融し、Cr焼結母材21bのC
r粒子間隙に溶浸する。
この後、第5図te+に示すように、得られるC r
−C蒐s −B i合金の電極材料21eを容器22か
ら取り出し、所定の寸法形状に機械加工する。図中、破
線で示す部分が機械加工された後の電極21である。な
お、電極21底面となる面の中央部には嵌合穴25a及
びかしめ用の穴25bが形成されろ。かしめ用の穴25
bにはテーパが付けられる。
−C蒐s −B i合金の電極材料21eを容器22か
ら取り出し、所定の寸法形状に機械加工する。図中、破
線で示す部分が機械加工された後の電極21である。な
お、電極21底面となる面の中央部には嵌合穴25a及
びかしめ用の穴25bが形成されろ。かしめ用の穴25
bにはテーパが付けられる。
次に、得られたB1含有の電極21とアダプタとのろう
付けがなされる。
付けがなされる。
先ず、第1図に示すように、電極21をアルミナセラミ
ックス製の容器26の内底面ニアルミナセラミックス製
のリング27を介して設置する。電極21の裏面を上側
にして設置する。
ックス製の容器26の内底面ニアルミナセラミックス製
のリング27を介して設置する。電極21の裏面を上側
にして設置する。
次に、電極21の嵌合穴25aの底面にろう材を置きそ
の上から当該嵌合穴25mにアダプタ28を嵌合する。
の上から当該嵌合穴25mにアダプタ28を嵌合する。
アダプタ28は、中央に孔28&を有するリング状をな
し、Cu。
し、Cu。
Cu合金など導電性の良い材料で作られる。
ろう材としては、例えば、Cu−マンガン(Mn)−ニ
ッケル(Ni)ろう材などが使用される。
ッケル(Ni)ろう材などが使用される。
アダプタ28の上にはアルミナセラミックス製のリング
30が置かれ、その上に重し31が載せられる。この重
し31によりろう材を挾んでアダプタ28と電極21と
の間には荷重がかれられる。なお、アルミナセラミック
ス製のリング30を設けるのは、ろう付は時にアダプタ
28と重し31とが接合されるのを防止するためである
。
30が置かれ、その上に重し31が載せられる。この重
し31によりろう材を挾んでアダプタ28と電極21と
の間には荷重がかれられる。なお、アルミナセラミック
ス製のリング30を設けるのは、ろう付は時にアダプタ
28と重し31とが接合されるのを防止するためである
。
次に、容N26の口をアルミナセラミックス製の蓋32
で塞ぎ、sF閉状態とする。そして、容器26,32ご
と真空炉中に入れ、真空中、960℃下で加熱し、ろう
付け(第1段ろう付け)を行う。アダプタ28が重し3
1により電極嵌合穴25aの底面側に押し付けられてい
るので、溶けたろう材は嵌合穴25c底面とアダプタ2
8先端面との間に広がり、両名を強固に接合する。
で塞ぎ、sF閉状態とする。そして、容器26,32ご
と真空炉中に入れ、真空中、960℃下で加熱し、ろう
付け(第1段ろう付け)を行う。アダプタ28が重し3
1により電極嵌合穴25aの底面側に押し付けられてい
るので、溶けたろう材は嵌合穴25c底面とアダプタ2
8先端面との間に広がり、両名を強固に接合する。
第2図には、′r4極とアダプタ (もしくはり一ド棒
)との接合の強度を、かしめによる場合、アダプタの自
重だけによるろう付けの場合、重し31により力を加え
てろう付けした場合について比較して示す。このグラフ
では、かしめによる強度を10としである。
)との接合の強度を、かしめによる場合、アダプタの自
重だけによるろう付けの場合、重し31により力を加え
てろう付けした場合について比較して示す。このグラフ
では、かしめによる強度を10としである。
この図かられかるように、重し31により80g/−以
上の力を加えた場合にはろう付は強度が顕著に向上する
。
上の力を加えた場合にはろう付は強度が顕著に向上する
。
なお、上記ろう付は加熱の際、電極21中のBiは蒸発
するが、その蒸発量は密閉容器26.32の容積によっ
て決まる蒸気圧で抑制されろ。
するが、その蒸発量は密閉容器26.32の容積によっ
て決まる蒸気圧で抑制されろ。
次に、上記のようにして得られた電極21とアダプタ2
8との組立体のアダプタ28とリード棒とを接合する。
8との組立体のアダプタ28とリード棒とを接合する。
第3図に示すようにCu又はCu合金製のり−ド棒33
の先端軸部33aをアダプタ28の孔28aに嵌合する
。このとき、リード棒先端面33bとアダプタ下面28
bとの間にろう材を介在させる。ろう材としては、例え
ば、銀(Ag)−Cu−インジウム(I n)系材など
が使われる。
の先端軸部33aをアダプタ28の孔28aに嵌合する
。このとき、リード棒先端面33bとアダプタ下面28
bとの間にろう材を介在させる。ろう材としては、例え
ば、銀(Ag)−Cu−インジウム(I n)系材など
が使われる。
そして、この仮組立体を真空炉に入れ、真空中あるいは
不活性ガス中において所定の温度で所定時間(例えば、
760℃で15分間)加熱し、アダプタ28とリード棒
33とをろう付けする。このろう付けは、例えばCuと
Cuとのろう付けとなり、低融点金属の影響を受けない
ため、強度の高いろう付は部が得られる。
不活性ガス中において所定の温度で所定時間(例えば、
760℃で15分間)加熱し、アダプタ28とリード棒
33とをろう付けする。このろう付けは、例えばCuと
Cuとのろう付けとなり、低融点金属の影響を受けない
ため、強度の高いろう付は部が得られる。
リード棒先端軸部33aの先端にはがしめ部(かしめら
れる部分)33cが形成してあり、ろう付は後の状態で
かしめ部33eは電極21のかしめ用の穴25b内に突
出する。
れる部分)33cが形成してあり、ろう付は後の状態で
かしめ部33eは電極21のかしめ用の穴25b内に突
出する。
このかしめ部33cを、電極21の表面側より穴25b
内に挿入したかしめ治具(工具)34でかしめる。つま
り、かしめ部33cを外鍔に塑性変形して穴25bのテ
ーパ部に押し付け、両者を結合するのである。
内に挿入したかしめ治具(工具)34でかしめる。つま
り、かしめ部33cを外鍔に塑性変形して穴25bのテ
ーパ部に押し付け、両者を結合するのである。
このように、アダプタ28とリード棒33とをろう付け
とかしめの併用により接合するので、その接合強度は極
めて高いものとなる。
とかしめの併用により接合するので、その接合強度は極
めて高いものとなる。
この後、第4図に示すように、他の構成部品と組み合わ
せてろう付けすることにより真空インタラプタが得られ
る。第4図中、第6図に示したものと同じ部品には同一
符号を付しである。
せてろう付けすることにより真空インタラプタが得られ
る。第4図中、第6図に示したものと同じ部品には同一
符号を付しである。
上記実施例では、Cu −Crをベースとする電極材料
に低融点金属として微少量の81を含有させたものを例
として挙げたが、導電性金属としては、Cuのほかに、
Ag、Cu合金、Ag合金などを用いることもでき、ま
た導電性金属と合金させる金属としてもCrに限らず、
コバルト(Co) Ni、鉄(Fe )、モリブデン
(Mo)、タングステン(W)。
に低融点金属として微少量の81を含有させたものを例
として挙げたが、導電性金属としては、Cuのほかに、
Ag、Cu合金、Ag合金などを用いることもでき、ま
た導電性金属と合金させる金属としてもCrに限らず、
コバルト(Co) Ni、鉄(Fe )、モリブデン
(Mo)、タングステン(W)。
チタン(Ti)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)な
どのほか、MO化合物、W化合物。
どのほか、MO化合物、W化合物。
ステンレス鋼等を使用することもできる。
また、低融点金属としてもB1に限らず、鉛(pb)、
テルル(Te)、アンチモン(sb)などを採用するこ
ともできる。
テルル(Te)、アンチモン(sb)などを採用するこ
ともできる。
■ 発明の効果
本発明に係る真空インタラプタの製造方法によれば、低
融点金属を含有する電極の裏面にろう材を介して導電性
材料製のアダプタを合わせ、電極とアダプタ間に荷重を
かけた状態で加熱して電極とアダプタとをろう付けする
ようにしたので、電極が低融点金属を含有するにもかか
わらず、強固なろう付けが得られる。
融点金属を含有する電極の裏面にろう材を介して導電性
材料製のアダプタを合わせ、電極とアダプタ間に荷重を
かけた状態で加熱して電極とアダプタとをろう付けする
ようにしたので、電極が低融点金属を含有するにもかか
わらず、強固なろう付けが得られる。
また、アダプタとリード棒とをろう付けするので、その
ろう付は部は低融点金属の影響を受けず、信頼性の高い
ものとなる。さらに、このろう付は部に併せてかしめ接
合も適用されるので、接合部の強度はさらに向上する。
ろう付は部は低融点金属の影響を受けず、信頼性の高い
ものとなる。さらに、このろう付は部に併せてかしめ接
合も適用されるので、接合部の強度はさらに向上する。
よって、低融点金属を含有する大電流しゃ新月の強度の
高い電極組立体、ひいては真空インタラプタが実現でき
る。
高い電極組立体、ひいては真空インタラプタが実現でき
る。
第1図は本発明の一実施例方法における電極とアダプタ
の組立工程図、第2図は重し重量とろう付は強度との関
係を示すグラフ、第3図は電極、アダプタとり−ド棒と
の組立工程図、第4図は最終組立工程図、第5図は電極
の製造工程図、第6図は真空インタラプタの一例の構造
図である。 図面中、 21は電極、 28はアダプタ、 30はリング、 31は重し、 33はリード棒、 33cはかしめ部、 34はかしめ治具である。 第1図 電極−アダプタの組立工根囲 第2図 重し重量とろう付は強度との関係 重し重量(g/cm=) アダー2°夕 第3図 ノード棒の組立工程図 第4 図 最終組q工程図 第5 図 電極の製造]″、−, 程図a
の組立工程図、第2図は重し重量とろう付は強度との関
係を示すグラフ、第3図は電極、アダプタとり−ド棒と
の組立工程図、第4図は最終組立工程図、第5図は電極
の製造工程図、第6図は真空インタラプタの一例の構造
図である。 図面中、 21は電極、 28はアダプタ、 30はリング、 31は重し、 33はリード棒、 33cはかしめ部、 34はかしめ治具である。 第1図 電極−アダプタの組立工根囲 第2図 重し重量とろう付は強度との関係 重し重量(g/cm=) アダー2°夕 第3図 ノード棒の組立工程図 第4 図 最終組q工程図 第5 図 電極の製造]″、−, 程図a
Claims (1)
- 低融点金属を含有する電極の裏面にろう材を介して導電
性材料製のアダプタを合わせ、電極とアダプタ間に荷重
をかけた状態で加熱して電極とアダプタとをろう付けし
、次にアダプタとリード棒とをろう付けすると共に、か
しめ結合することを特徴とする真空インタラプタの製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17616790A JPH0465040A (ja) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | 真空インタラプタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17616790A JPH0465040A (ja) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | 真空インタラプタの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0465040A true JPH0465040A (ja) | 1992-03-02 |
Family
ID=16008837
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17616790A Pending JPH0465040A (ja) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | 真空インタラプタの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0465040A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014197506A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-16 | 三菱電機株式会社 | 真空バルブ |
-
1990
- 1990-07-05 JP JP17616790A patent/JPH0465040A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014197506A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-16 | 三菱電機株式会社 | 真空バルブ |
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