JPH0463820A - 不飽和基を含有する含フッ素ブロック共重合体及びその製造方法並びに活性エネルギー線硬化型樹脂用表面改質剤 - Google Patents
不飽和基を含有する含フッ素ブロック共重合体及びその製造方法並びに活性エネルギー線硬化型樹脂用表面改質剤Info
- Publication number
- JPH0463820A JPH0463820A JP17555390A JP17555390A JPH0463820A JP H0463820 A JPH0463820 A JP H0463820A JP 17555390 A JP17555390 A JP 17555390A JP 17555390 A JP17555390 A JP 17555390A JP H0463820 A JPH0463820 A JP H0463820A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- structural unit
- polymer
- fluorine
- block copolymer
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 title claims description 64
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 112
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 58
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 57
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 57
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 13
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 23
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 18
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 18
- 239000003607 modifier Substances 0.000 abstract description 14
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 abstract description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 abstract 4
- 238000013329 compounding Methods 0.000 abstract 1
- CBOIHMRHGLHBPB-UHFFFAOYSA-N hydroxymethyl Chemical compound O[CH2] CBOIHMRHGLHBPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 abstract 1
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 54
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 41
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 36
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 25
- -1 isocyanate compound Chemical class 0.000 description 20
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 19
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical class CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 12
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 11
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 7
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 6
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 6
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 5
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 4
- SNVLJLYUUXKWOJ-UHFFFAOYSA-N methylidenecarbene Chemical group C=[C] SNVLJLYUUXKWOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FWFGVMYFCODZRD-UHFFFAOYSA-N oxidanium;hydrogen sulfate Chemical compound O.OS(O)(=O)=O FWFGVMYFCODZRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 4
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 4
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N Acrylic acid Chemical class OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloro-2,2,2-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)(Cl)Cl BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OHBQPCCCRFSCAX-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dimethoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(OC)C=C1 OHBQPCCCRFSCAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CUARLQDWYSRQDF-UHFFFAOYSA-N 5-Nitroacenaphthene Chemical compound C1CC2=CC=CC3=C2C1=CC=C3[N+](=O)[O-] CUARLQDWYSRQDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 2
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 2
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 2
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 239000012085 test solution Substances 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- FKTXDTWDCPTPHK-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,3,3,3-heptafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)[C](F)C(F)(F)F FKTXDTWDCPTPHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZSVIVLGBJKQAP-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methyl-5-propan-2-ylcyclohex-2-en-1-yl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1CC(C(C)C)CC=C1C DZSVIVLGBJKQAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- ONIKNECPXCLUHT-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1Cl ONIKNECPXCLUHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-2-ol Chemical compound CC(C)(O)CC1=CC=CC=C1 RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- 206010011732 Cyst Diseases 0.000 description 1
- 101150000419 GPC gene Proteins 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- YSVZGWAJIHWNQK-UHFFFAOYSA-N [3-(hydroxymethyl)-2-bicyclo[2.2.1]heptanyl]methanol Chemical compound C1CC2C(CO)C(CO)C1C2 YSVZGWAJIHWNQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N biuret Chemical compound NC(=O)NC(N)=O OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 208000031513 cyst Diseases 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N dibutyltin Chemical compound CCCC[Sn]CCCC AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- AFSIMBWBBOJPJG-UHFFFAOYSA-N ethenyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC=C AFSIMBWBBOJPJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005923 long-lasting effect Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004702 methyl esters Chemical group 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000864 peroxy group Chemical group O(O*)* 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011907 photodimerization Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000025600 response to UV Effects 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002352 surface water Substances 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
して感応性を有し、活性エネルギー線硬化型樹脂の表面
改質剤やレジスト材料等として有用な、不飽和基を含有
する含フッ素ブロック共重合体及びその製造方法に関す
るものである。
材料の表面改質剤として有用であることを提案した。例
えば特開昭60−22410号公報では、含フッ素ブロ
ック共重合体を高分子材料に添加すると、含フッ素ブロ
ック共重合体が表面に配向し、材料表面にパーフルオロ
アルキル基の持つ撥水撥油性や防汚性等の優れた特性が
付与でき、その改質効果の持続性に優れていることが示
されている。また、ブロッキング防止剤として(特開平
2−4877号公報)及び防湿性付与剤として(特開平
2−4812号公報)有用なことか知られている。
ギー線硬化型樹脂においても撥水撥油性、ブロッキング
防止性、防湿性等の特性の付与か求められる場合が多い
。例えばプラスチックボトル等の印刷に使用されるUV
硬化型インキには耐水性が求められており、またソルダ
ーレジスト材料等には防湿性が求められている。本発明
者らは、このような材料に対する改質剤としても含フッ
素ブロック共重合体が有用であることを提案してきた(
特開平2−4812公報)。
は極めて数多い提案があるが、その中で、レジスト材料
やコーティング材料として使用することを目的とした、
活性エネルギー線感応型の含フッ素ブロック共重合体に
関する提案も行われている。例えば、特開昭58−21
5411号公報では、側鎖に光二量化反応性を有する単
量体と含フッ素単量体とのラジカル共重合反応により含
フッ素感応性材料が得られることを提案している。
8号公報では、水酸基含有ビニルエーテルとフルオロオ
レフィンの共重合によって得られる含フッ素重合体と、
イソシアネート基と不飽和基とを有する化合物との反応
により活性エネルギー線で硬化のできる重合体の得られ
ることを報告している。さらに特開昭62−19026
4号公報では、OH基を有する含フッ素ブロック共重合
体と、イソシアネート化合物と、OH基と不飽和基とを
有する化合物との3成分間の反応より得られる重合物を
含有する塗料組成物が開示されている。
共重合体によって活性エネルギー線硬化型樹脂の表面改
質が可能である。この場合、含フッ素ブロック共重合体
の一方のポリマー鎖であるフッ素を含有しない重合体部
分による改質の対象となる樹脂との高分子のからみあい
効果により、改質効果の良好な持続性が付与されるが、
この両者を共有結合させることができれば、さらに持続
性が改善される。
材料として使用する場合、含フッ素重合体部分が高密度
に空気側表面に配向し、フッ素を含有しない重合体部分
が基材側に高密度に配向するため、良好な密着性を維持
しながら含フッ素重合体部分に由来する機能を膜表面側
に付与することが出来る。この特性を生かした上で、さ
らに活性エネルギー線に対する感応性か発現できれば、
フッ素の機能を持つ各種のレジスト材料としての応用も
期待できる。
4号公報において、すでに不飽和基を含有する含フッ素
ブロック共重合体に関する提案がなされているが、この
提案においては、イソシアネート化合物を用いた反応に
より不飽和基を導入する方法を採用しているため、反応
時にゲル化が生じやすいという問題点がある。含フッ素
ブロック共重合体と不飽和基含有化合物に対して、多量
のイソシアネート化合物を用いることによってゲル化が
抑制できる傾向を示すものの、このように多量のイソシ
アネート化合物を用いて合成した場合、含フッ素ブロッ
ク共重合体の多量化が進行して分子量が増大し、しかも
含フッ素重合体部分の比率が減じるため表面性能が低下
する傾向を示す。
ッ素ブロック共重合体の機能が発現されても、広く活性
エネルギー線硬化型樹脂の表面改質剤として用いるには
、表面活性能の点で問題があり、さらに改善が望まれる
段階にあった。また、この方法によって得られる重合体
をレジスト材料等に利用する場合、含フッ素重合体部分
の表面配向性が低い傾向を示すこと、活性エネルギー線
未照射部分も網目的な高分子量化が進んでいるため各種
の現像剤に対して現像性が必ずしも良好でない等の問題
点がある。
って、その目的は活性エネルギー線に対する感応性、現
像性、基材に対する密着性等の機能に加え、撥水撥油性
等の機能を発揮でき、その結果活性エネルギー線硬化型
樹脂の表面改質剤や、フッ素の機能を兼ね備えたL/シ
スト材利等として利用できる、不飽和基を含有する含フ
ッ素ブロック共重合体及びその製造方法を提供すること
にある。
誘導される構造単位(A)と、下記一般式(II)から
誘導される重合体部分及び下記一般式(III)を単位
とする重合体部分からなる構造単位(B)からなり、構
造単位(A)/構造単位(B)の割合が重量比で80/
20〜10/90であり、構造単位(B)の良溶剤であ
る非フッ素系有機溶剤に溶解又は分散させて20重量%
に調整した溶液の粘度が258Cにおいて0.05〜1
0ポイズであるという手段を採用している。
、R1は水素原子又はメチル基、R2は−Cp H4F
、 C(CPH2P+l) H、CH2C(CP
H2P+l) H−又は−CH2CF(20−R[はC
−F 2−+1. (CF 2)。H,(CF2)P
OC,R2,、ClF21+1. (CF2)POC
,Hzmc IF 21H! である。但し、pは1〜10.nは1〜16.mはO〜
10,1は0〜16の整数である。
水素原子又はメチル基又Ct CH2但し、Pは1〜l
09nは1〜16.rは2〜20、sは0〜8の整数で
ある。) 、−CONR6R7(式中、R6は水素原子
又はCPH2P+1. R7は水素原子、直線状又は分
岐状のCPH2P+1、又はCH20Hである。但し、
pは1〜10の整H3)2CH2COCH3、−CON
HC(CHOCOC,R2,、++ (式中、nは1〜
16の整数であり、直鎖状、分岐状のいずれでもよい。
HCH2,CH2CH”CHz。
状のCPH2F+108. CH2CH(OH)
CR3、(C2H40)−C3H2S+1゜〔CH2C
H(CH3)0〕、C3H2S+lである。
H−、CH2=C(CH3)て前記構造単位(A)が一
般式(I)から誘導される重合体部分40重量%以上及
び一般式(II)から誘導される重合体部分60重量%
以下からなるという手段を採用している。
いて、前記一般式(I)から誘導される構造単位(A)
と、前記一般式(II)から誘導される重合体部分及び
下記一般式(IV)から誘導される重合体部分からなる
構造単位(B′)からなる含フッ素ブロック共重合体、
又は前記一般式(I)から誘導される重合体部分40重
量%以上及び前記一般式(n)から誘導される重合体部
分60重量%以下からなる構造単位(A)と、前記一般
式(n)から誘導される重合体部分及び下記一般式(I
V)から誘導される重合体部分からなる構造単位(B’
)からなる含フッ素ブロック共重合体と、下記一般式(
V)で示される化合物とを反応させて、不飽和基を含有
する含フッ素ブロック共重合体を製造するという手段を
採用している。
について説明する。ブロック共重合体が充分に表面活性
であり、含フッ素重合体としての機能を発現させるため
に、この構造単位は第1及び第3の発明では前記一般式
(I)から誘導される重合体であり、第2及び第3の発
明では前記一般式(I)から誘導される重合体部分40
重量%以上及び前記一般式(n)から誘導される重合体
部分60重量%以下からなっている。構造単位(A)が
前記一般式(1)から誘導される重合体部分40重量%
未満から構成されると、表面活性能が低下して表面改質
剤としての機能が不足する上に、本発明のブロック共重
合体単独から膜を形成し、レジスト材料として使用した
場合にも、その機能が低下する。
ーフルオロアルキル基に由来する特性か減じるため好ま
しくない。また、n、lが16を越えると、製造が容易
でなく、しかもパーフルオロアルキル基に由来する特性
か必すしも良好とはいえないため好ましくない。pは1
〜4、mは0〜4、n及びlは1〜10で、かつパーフ
ルオロアルキル基の末端は−CF3であることがさらに
好ましい。
の容易性の点から次のようなものか好適に使用できる。
(CH3) = CH2 C7F tsc ON (C2H5)CH2OCOC
(CH3) = CH2 CF3 (CF2)7SO2N (CH3)−CH
2CH20COCH=CH2 C2F5SO□N (C3H7)CH2CH2−OC
OC(CH3) −CH,。
COC(CH3) = CH2 上記の単量体以外に、以下のような単量体を使用するこ
ともできる。
−OCOCH=CH2 (CF3)2CF (CF2)Io (CH,)30
COC(CH3)=CH2 CF3 (CF2)4CH(CH3)0 COC(C
Hs ) −CH2 CF 3CH20CH2CH20COCH= CH2C
2F 5 (CH2CH2O)2CH2OC0CH=
CH2 (CF 3) 2CF O(CH2) sOC0C
H=CH2 CF 3 (CF 2 ) 40 CH2CH20C
OC(CH3)=CH2 C2F 5CON (C2H5)CH2OCOCH”
CH2 CF3 (CF2)2CON (CH3)CH(CH
3) CH20COCH= CH2H(CF 2)
ac (C2H5) OCOC(CH3) =
CH2 H(CF2)llcH20cOcH=cH2H(CF2
)4CH20COCH=CH2H(CF 2)ec H
2OCOC− (CH3)=CH。
CH2CH2OCOC(CH3)= CH2 CF3 (CF2)7SO2N (CH3)(CH
2)I。0COCH−CH2 C2F 、S 02N (C2H5)CH2CH2O
COC(CH3) −CH2 CF s (CF 2) 7802N (CH3)
(CH2)40COCH=CH2 C2F5SO2N (C2H5)C(C2H5)HC
H20COCH= CH2 これらの単量体は1種又は2種以上が適宜選択して使用
される。
の発明では構造単位(A)を構成するのに使用され、第
1〜第3の発明では構造単位(B)を構成する不可欠の
ものである。一般式(II)で表される単量体として具
体的には、アクリル酸メチル及び/又はメタクリル酸メ
チル〔以下(メタ)アクリル酸メチルと総称する。以下
同様〕 (メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリ
ル酸n−プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、
(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸n
−ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)ア
クリル酸tert〜ブチル、(メタ)アクリル酸−2−
エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ
)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸ステアリル
、(メタ)アクリル酸シクロへキシル、(メタ)アクリ
ル酸ペンシル、(メタ)アクリル酸−N、N−ジメチル
アミノエチル等の(メタ)アクリル酸エステル、(メタ
)アクリル酸ヒドロキシルエチル、(メタ)アクリル酸
ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸−3−クロル
−2−ヒドロキシプロピルのような(メタ)アクリル酸
のヒドロキシエステル、(メタ)アクリル酸トリエチレ
ングリコールエステル、(メタ)アクリル酸ジプロピレ
ングリコールエステルような(メタ)アクリル酸のポリ
エチレングリコールやポリプロピレンクリコールのエス
テルを好適に使用することができる。
メチルスチレン等の芳香族ビニル型単量体、キ酸ビニル
、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ステアリン酸ビニ
ル等のカルボン酸ビニルエステル、(メタ)アクリルア
ミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N、N
−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−(メタ)アク
リロイルモルホリン、2−アクリルアミド−2−メチル
プロパンスルホン酸等のアミド基含有ビニル系単量体、
(メタ)アクリル酸、イタコン酸等を使用することがで
きる。これらの単量体は、1種又は2種以上か適宜選択
して使用される。
)について説明する。
発現するために前記一般式(III)を構成成分とする
ことが不可欠である。構造単位(B)に占める割合は、
好ましくは1〜98重量%の範囲内において、本発明の
ブロック共重合体の使用目的及び不飽和基の種類によっ
て適宜決定される。
合が1重量%に達しない場合、感応性が不足する傾向が
ある。
量%を越えると基材に対する密着性や現像性等が低下す
る傾向がある。また、この不飽和基においては、充分な
感応性を発現させるために、20重量%以上存在するこ
とがより適切である。
場合は一般式(I)の占める割合が、3〜70重量%の
範囲がより適切である。
の成分として構成されることにより、基材に対する良好
な密着性、成膜性及び現象性が付与される。また、活性
エネルギー線硬化型樹脂の表面改質剤として使用した場
合、樹脂との良好な混和性を発現させることに寄与する
。
)と構造単位(B)の重量比率は80/20−10/9
0である。構造単位(A)の比率が80重量%を越える
と、活性エネルギー線に対する感応性か低下したり、基
材に対する密着性が低下したり、また、活性エネルギー
線硬化型樹脂の表面改質剤として使用した場合、樹脂と
の混和性に問題か生じる場合かある。一方、構造単位(
A)の比率が10重量%に満たない場合、構造単位(A
)に由来するフッ素の機能を充分に発現することができ
ない。特に活性エネルギー線硬化型樹脂の表面改質剤と
して使用した場合に表面配向性が不足する。
位(A)、構造単位(B)の共通良溶剤の選択が難しく
、従って真の値を測定することが困難であるが、適切な
範囲を重合体溶液粘度で設定することができる。即ち、
構造単位(B)の良溶剤である非フッ素系有機溶剤例え
ばジメチルホルムアミド(DMF)又はメチルエチルケ
トン(MEK)に溶解又は分散させて20重量%に調整
した溶液の粘度が25℃において0.05〜1oポイズ
であることが必要である。0.05ポイズ未満ではブロ
ック共重合体をレジスト材料等に使用する際、成膜性及
び現像性が低下する。また、10ポイズを越えると、特
に活性エネルギー線硬化型樹脂の表面改質剤として使用
した場合には表面配向性が不足する。この重合体溶液粘
度は、0.1〜5ボイズであることが好ましい。
の製造方法について説明する。
)と構造単位(A)とを有する含フッ素ブロック共重合
体を合成する。この方法としては、特に工業的な生産性
の容易さ、多義にわたる性能的な面より、1分子中に2
個以上のペルオキシ結合を持つポリメリックペルオキシ
ド、1分子中に2個以上のアゾ結合を持つポリアゾ化合
物を重合開始剤とししたラジカル重合により製造するこ
とが好ましい。重合方法としては、通常の塊状重合法、
懸濁重合法、溶液重合法、乳化重合法等が採用される。
造方法を具体的に説明すると以下の通りである。まず、
ポリメリックペルオキシドを用いて、構造単位(B′)
を形成する前記一般式(II)で示される単量体及び前
記一般式(IV)で示される単量体の共重合反応を行う
ことにより、連鎖中にペルオキシ結合か導入されたペル
オキシ結合含有ビニル重合体が得られる。これに、構造
単位(A)を形成する前記一般式(I)で示される単量
体を加えて重合を行うか又は前記一般式(■)で示され
る単量体と前記一般式(II)で示される単量体の混合
物を加えて重合を行うと、ペルオキシ結合かその含有す
るペルオキシ結合において開裂し、効率よくブロック共
重合体が得られる。
ブロック共重合体と、前記一般式(V)で示される化合
物との反応により、不飽和基が導入された含フッ素ブロ
ック共重合体が得られる。
′)に含有されるグリシジル基量と化合物(V)との比
率がモル換算で、1/’0.4〜1/1゜3であること
が好ましい。110.4未満の場合、良好な反応率を達
成できない傾向を示す。化合物(V)の比率が高いほど
不飽和基導入量は増大するが、1/1.3を越えると過
剰仕込み量の化合物(V)の除去工程が煩雑になったり
、不純物として残存したりするので好ましくない。
によるブロック共重合体の高分子量化を防止するために
、反応系内にペルオキシ結合が存在しないように留意す
る必要がある。また、公知の重合禁止剤を併用し、反応
温度を50−100℃とすることが適切である。さらに
、反応を円滑に進行させるために、公知の触媒として知
られているアミン化合物、第四級アンモニウム塩化合物
等を使用することが好ましい。
ことが出来、また、公知の方法に従って合成して使用す
ることも出来る。
の組成分析は、NMR,IR1元素分析等の公知の手段
で行うことが出来る。
して説明する。なお、各実施例、比較例、参考例におい
て、%は重量%を表す。
及び還流冷却器を備えた反応器に、MEK200gを仕
込み、窒素ガスを吹き込みながら708Cに加熱し、M
EK232g、メタクリル酸メチル(以下MMAという
)80g、メタクリル酸グリシジル(以下GMAという
)120g、 [C0(CH2)、C00(C2H,0)3CO(CH
2)、C00O]10−18 gからなる混合液を2時
間かけて仕込み、更に5時間重合反応を行ってペルオキ
シ結合金を重合体の溶液を得た。
以下GCという)により残存単量体量を測定した結果、
いずれも97%以上であった。この重合体溶液をMEK
で4倍量に希釈し、次いで大過剰のメタノール中に攪拌
しながら投入して、重合体の再沈を行った。沈澱した重
合体を充分に乾燥して粉末状の重合体を得た。GC分析
の結果、単量体が残存しないことが確認された。この粉
末状の重合体の活性酸素量は0.12%であり、ゲルパ
ーミェーションクロマトグラフ(GPC)で測定したポ
リスチレン換算の数平均分子量は13000であった。
CF2)7CH2CH20COCH=CH212g 、
M E K60gの混合溶液を、温度計、攪拌機及び
還流冷却器を備えた反応器に仕込み、窒素ガスを吹き込
みながら70°Cで15時間重合反応を行った。フッ素
単量体の重合転化率は99%であった。活性酸素量を測
定した結果、ペルオキシ結合はほぼ完全に消失している
ことがわかった。
のメタノール中に攪拌しながら投入し、重合体の再沈を
行った。沈澱した重合体を充分に乾燥して粉末状の重合
体を得た。
ブチル450gからなる混合溶剤に投入し、50°Cで
8時間攪拌して、副生じた一方の成分であるフッ素を含
有しないアクリル系重合体の抽出を行った。次に、残っ
た重合体をトリクロロトリフルオロエタン600gに投
入し、40°Cで48時間攪拌して含フッ素重合体の抽
出を行った。
しないアクリル系重合体/含フッ素重合体の構成比率が
6.9 /2.410.7から構成されていることがわ
かった。従って、ブロック゛共重合体における含フッ素
重合体部分〔構成単位(A)〕とフッ素を含有しない重
合体部分〔構成単位(B’)〕の重量比率は34/66
であることがわかった。また、ブロック共重合体を重水
素置換アセトンを用いてNMR分析を行った結果、フッ
素を含有しない重合体部分の構成成分は仕込み通りMM
A/GMAが40/60であることがわかった。
、攪拌機及び還流冷却器を備えた反応器H=C)(−C
OOH2,5g (カルボキシル基の量か0.017m
ol ) 、トリメチルベンジルアンモニウムクロライ
ド0.25 g1、DMF32.25gを仕込んで反応
溶液を調製した。次いで、窒素ガスを吹き込みながら1
00℃に昇温しで同温度で6時間反応を行った。反応終
了後、重合体溶液約2gをジオキサン20g中に測り取
り、KOHの0゜CH−COOHが反応に消費されたこ
とかわかった。
の水/メタノール(1/1の混合溶液)中に攪拌しなが
ら投入し、重合体の再沈・精製を行った。重合体の粉末
を充分に乾燥した後、DMFを溶離液としたGPC分析
を行ったところ、はぼ完全に除去されていることがわか
った。
の透明板上に成膜後充分に乾燥してIR測測定行った結
果、1640cm利付近にCH2=CH−基に由来する
特性吸収が見られ、不飽和基の導入されていることが確
認された。
果、CH2=CH−基に由来するプロトンピークが新た
に生じ、グリシジル基に由来するプロトンピークが減じ
ていることがわかった。MMA成分のメチルエステルプ
ロトンのピークも考慮したピーク面積比から、反応前の
グリシジル基(OH)CH2−基に置き変わっているこ
とが明らかとなった。
に占める一般式(III)を単位とする重合体部分の割
合が71%であり、構造単位(A)/構造単位(B)の
割合が重量比で29/71であることが示された。
%に調整した溶液は青白色の分散液の外観を呈し、粘度
は25°Cにおいて0,6ポイズてあった。
、実施例1の(2)で得たブロック共重合体と、表−1
に示した不飽和基含有カルボン酸との反応により、ブロ
ック共重合体への不飽和基の導入反応を行った。
で反応を行った。精製法及び得られた重合体の分析方法
は、実施例1の(3)と同じである。重合体の分析結果
、重合体のMEK溶液の粘表−1 表−1中の化合物は次のものを表す。
イド MMHQ :モノメトキシハイドロキノン化合物(3)
: CH2=C(CH3)C00H(実施例6.7) (1)ブロック共重合体の合成 実施例1で使用したのと同じ反応器を用い、反応器中に
DMF 150 gを仕込み、窒素カスを吹き込みなが
ら70°Cに加熱し、DMF 204 g、MMAlo
og、HEMA50gXGMA50g。
H2)、C00O)I。−17’gからなる混合溶液を
2時間かけて仕込み、さらに4.5時間重合反応を行っ
てペルオキシ結合含有重合体を得た。GCによる残存単
量体量を測定した結果、重合転化率は98%以上であっ
た。
H3)=CH286gとの混合溶液を30分かけて滴下
し、さらに70°Cで3時間、その後77°Cで10時
間重合反応を行った。GC分析の結果、単量体の重合転
化率は98%以上であった。また、活性酸素量を測定し
た結果、ペルオキシ結合はほぼ完全に消失していること
がわかった。
有効成分濃度が30%になるように調整した。次いで、
表−3に示した不飽和基含有カルボン酸との反応により
、ブロック共重合体への不飽和基の導入反応を行った。
で反応を行った。その後、アセトンで3倍量に希釈して
大過剰の水/メタノール混合溶剤(重量比で1/l)中
に攪拌しながら投入して重合体の再沈、精製を行った。
PC分析を行ったところ、いずれの重合体にも低分子化
合物が含有されていないことがわかった。また、IR分
析及びNMR分析により不飽和基の導入されていること
がわかった。
、トルエン1700gからなる混合溶剤に投入し、50
°Cで8時間攪拌して、副生じた一方の成分であるフッ
素を含有しないアクリル系重合体(不飽和基は含有する
)の抽出を行った。次いで、残った重合体をトリクロロ
トリフルオロエタン2000gに投入し、40℃で24
時間攪拌して含フッ素重合体の抽出を行った。抽出物の
重量を測定し、粉末中の、ブロック共重合体/フッ素を
含有しないアクリル系重合体/含フッ素重合体の構成比
率を求めた。NMR分析による不飽和基の導入率と照合
しながらブロック共重合体における含フッ素重合体部分
〔構造単位(A)〕とフッ素を含有しない重合体部分〔
構造単位(B)〕の重量比率を算出した。
アセトンに溶解、分散させてNMR分析を行って、実施
例1と同様の方法により構造単位(B)に占める一般式
(III)を単位とする重合体部分の割合を求めた。ま
た、ブロック共重合体の粉末にMEKを加えて作成した
20%溶液の2500における粘度を測定した。これら
の結果を表4に示す。
A60g1メタクリル酸n−ブチル(以下n −B M
Aという)60g、GMA80g、(CO(CH2)
4C00(C2H,0)3CO(CH,)、C00O)
IQ−23gを用い、第2段重合時にDMF 557
g、CF3(CF2)7CH2CH20COCH= C
Hz 300 gの混合溶液を用いた以外は、実施例6
と全て同じ条件でブロック共重合体を合成した。
及び分析を実施例6.7と同゛じ条件で行った。不飽和
基の導入反応時の反応溶液の組成と、得られた結果を表
−3及び表−4に併せて示す。
の略号の意味と同じであり、注(1)は重合体粉末10
0g中のブロック共重合体/フッ素を含有しない重合体
/含フッ素重合体の構成比率を表す。
と同じブロック共重合体と、イソシアネート化合物、H
EMA (比較例1)又はHEA(比較例2)を反応さ
せることにより、不飽和基の導入を行った。
たものと同じ重合体溶液を120g仕込み、さらにヘキ
サメチレンジイソシアネートのビューレット体(旭化成
工業株式会社製商品名ジュラネート24A)52gとジ
ブチル錫ジラウレー)200ppmを仕込んで、70℃
に加温して反応させた。次に、反応液を室温まで冷却さ
せた後にI−(EMA54g(比較例1)、又はHEA
48g(比較例2)、ハイドロキノンジメチルエーテル
50ppmを加えて65℃に加温して4時間反応させた
。反応終了後、アセトンで2倍量に希釈して大過剰のメ
タノール中に攪拌しながら投入し重合体の再沈、精製を
行った。
20%溶液を調製したが、溶解、分散がしに<<、実施
例6の場合と比較して長時間を要した。25℃における
粘度を測定したところ、11ポイズであった。比較例2
の化合物は、乾燥時にゲルが生じ、再溶解が不可能であ
った。
GMAXCF3(CFり7CH2CH20COCH=
CH2との四元重合反応によりランダム共重合体を合成
した。次いで、実施例7と同様に不飽和基の導入反応を
行い、不飽和基を含有する含フッ素ランダム共重合体を
得た。
F239gを仕込み、窒素ガスを吹き込みながら80°
Cに加温し、MMA36 g、 n−BMA 36 g
、 GMA 48 g、 CF3(CF2)7C1(2
CH20COCH”CH2180g、 CL(CH2)
3CH(C2H+、)COOOC(CH3)3 11
g、 DMF 200 gの混合溶液を2時間かけて滴
下し、さらに同温度で10時間反応することにより得た
。GC分析による各単量体の転化率は97%以上であっ
た。得られた重合体溶液をDMFで希釈して30%溶液
とした。
、実施例8と同じ条件、同じ方法によりアクリル酸との
反応を行った。アクリル酸の反応率は約60%であり、
実施例8と比べ12%程低い値を示した。精製後、GP
C分析から低分子化金物が含有されていないこと、IR
分析から不飽和基の導入されていることがわかった。ま
た、NMR分析を行ったところ重合体のグリシジル基の
約60%が消失して不飽和基が導入されていることが明
らかとなった。導入率は実施例7と比較して12%程低
い値であった。また、DMFの20%溶液を調製したと
ころ、溶液の状態が不安定であり、静置後まもなく重合
体の沈澱がみられたため、粘度の測定が出来なかった。
となった。
タクリル酸との反応を行った。メタクリル酸の反応率、
重合体への不飽和基の導入率は比較例3とほぼ同一であ
った。また、DMFの20%溶液を調製したところ、溶
液の状態が不安定であり、静置後まもなく重合体の沈澱
が見られたため、粘度の測定ができなかった。DMFで
15%まで希釈してはじめて安定な重合体溶液となった
。
る含フッ素重合体の紫外線(UV)に対する感応性を評
価し、合わせて各種の試験を行った。
合開始剤(メルク社製ダロキュア−1173)又は増感
剤(5−ニトロアセナフテン)を重合体100gに対し
4g加えて試験溶液を用意した。次いで、アルミニウム
板(日本テストバネ/L4f:製A 1100 )又は
軟質塩ビフィルム(D。
ーコーターで塗布後、基材がアルミニウムの場合は12
0℃で5分、軟質塩ビフィルムの場合は、70℃で1時
間加熱乾燥させて試験板を作成した。この試験板に対し
、2kwの高圧水銀灯を20cmの距離から所定時間を
照射した。
験板塗工時の成膜溶剤を用いて、基材がアルミ板の場合
は、常温で24時間の浸漬試験を行った。塩ビフィルム
の場合は、溶剤を潰した木綿布で表面を20往復擦った
。評価基準は次の通りである。
性を評価した。
繰り返した後の塗膜の剥離度合いを評価した。
す。
5−ニトロアセナフテン 上記表−5及び表−6の結果から、本発明の実施例1〜
9における不飽和基を有する含フッ素ブロック共重合体
が、UVに感応して硬化反応をしていることが明らかと
なった。また、基材に対する密着性と、表面における撥
水撥油性がきわめて良好であることがわかった。さらに
、UVを照射していない場合は、溶剤に対し良好な溶解
性を示し、塗膜が不溶となるUVが照射された場合に比
べ著しい差がみられた。これらの結果から、レジスト材
料としても、充分に応用出来ることがわかる。
れたが、実施例8等の重合体と比べ、表面の撥水撥油性
が不足した。また、UVに対する感応性も実施例8の場
合よりも鈍い傾向を示した。
の膜の、溶剤に対する溶解性の差があまり太き(ないこ
とかわかった。また、比較例3.4のランダム共重合体
の場合、実施例8.9の重合体と比べ、基材に対する密
着性が不足し、感応性も低い傾向を示した。
.3.4の重合体の表面改質剤としての性能を評価した
。
ールで重合体の濃度が20%になるように希釈した。
P−1506)30g、ウレタンアクリレート(東亜合
成化学工業株式会社製商品名M−1,1100)30、
エチレングリコールシアクリ゛レート35g、ベンゾイ
ンイソブチルエーテル5gからなる溶液を調製し、この
溶液100gに対して前記の20%溶液を各々10g添
加した。次に、参考例1で使用したアルミ板にアプリケ
ーターを用いて膜厚が35μmとなるように塗布した。
の距離から10秒間照射して硬化膜を作成した。この硬
化膜をアセトン、10%硫酸水に48時間浸漬し、浸漬
前後の表面の撥水撥油性を評価した。この結果を表−7
及び表−8に示す。
重合体を活性エネルギー線硬化型樹脂に添加した場合、
表面にフッ素の持つ機能である撥水撥油性が付与できる
ことがわかった。特に、アセトン浸漬後も、撥水撥油性
はほとんど低下せず、マトリックスポリマーと化学結合
して、改質効果の持続性が非常に優れていることがわか
った。
、硫酸水浸漬後の性能低下は少ないものの、アセトン浸
漬後撥水撥油性が低下する傾向を示した。また、比較例
1.3.4の重合体では、初期改質効果が不足する傾向
を示した。
した。
溶解して20%溶液とし、光重合開始剤(前記ダロキュ
ア−1173)を重合体100gに対し4g加えて試験
溶液を調製した。この溶液に参考例6〜9で調製した溶
液を各々3g加えた後、参考例1と同様の方法でアルミ
板上に成膜、乾燥して試験板を作成した。
した。その後参考例13と同じ10%硫酸水浸漬試°験
を行った。幅5 cmの積水化学工業株式会社製の粘着
テープ上に2kgのローラーを2往復させて、粘着テー
プを硬化膜上に圧着した。この状態で50℃に3日間放
置後テープを引き剥がして、テープ表面をESCA分析
(X線光電子分析装置による分析)して、フッ素成分の
転写がないかどうかを評価した。その結果を表−9に示
す。
た場合、硫酸水浸漬によっても表面の性能に低下が見ら
れず、また、被着体に対してもフッ素成分の転写がない
ことがわかった。
る不飽和基か導入された重合体部分によって活性エネル
ギー線硬化型樹脂に対する混和性、活性エネルギー線に
対する感応性と現像性、基材に対する密着性等の特性が
発揮されるとともに、含フッ素重合体部分によってフッ
素の有する撥水撥油性等の特性か発揮され、従って各種
の活性エネルギー線硬化型樹脂の表面改質剤、レジスト
材料等として有用であるという優れた効果を奏する。
単位(A)が一般式(n)から誘導される重合体部分を
所定量有するものであっても、上記第1の発明の効果が
有効に発揮されるという効果を奏する。
式(II)から誘導される重合体部分及び一般式(IV
)から誘導される重合体部分からなる構造単位(B1)
からなる含フッ素ブロック共重合体に対し、一般式(V
)で示される化合物を反応させることにより、エポキシ
基とカルボキシル基との反応に基づいて不飽和基の熱重
合が抑制された状態で目的とするブロック共重合体が容
易に得られるという優れた効果を奏する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記一般式( I )から誘導される構造単位(A)
と、下記一般式(II)から誘導される重合体部分及び下
記一般式(III)を単位とする重合体部分からなる構造
単位(B)からなり、構造単位(A)/構造単位(B)
の割合が重量比で80/20〜10/90であり、構造
単位(B)の良溶剤である非フッ素系有機溶剤に溶解又
は分散させて20重量%に調整した溶液の粘度が25℃
において0.05〜10ポイズであることを特徴とする
不飽和基を含有する含フッ素ブロック共重合体。 CH_2=CR_1COOR_2Rf・・・・・・(
I )式中、R_1は水素原子又はメチル基、R_2は−
C_pH_2_p−、−C(C_pH_2_p_+_1
)H−、−CH_2C(C_pH_2_p_+_1)H
−又は−CH_2CH_2O−、RfはC_mF_2_
m_+_1、(CF_2)_mH、(CF_2)_pO
C_mH_2_mC_1F_2_l_+_1、(CF_
2)_pOC_mH_2_mC_1F_2_lH、▲数
式、化学式、表等があります▼ である。但し、pは1〜10、nは1〜16、mは0〜
10、lは0〜16の整数である。 CH_2=CR_3R_4・・・・・・(II)式中、R
_3は水素原子又はメチル基又はCH_2COOH、R
_4はCOOR_5(式中、R_5は水素原子、▲数式
、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等が
あります▼、▲数式、化学式、表等があります▼ 、−CH_2CH_2N(C_sH_2_s_+_1、
)_2、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、
化学式、表等があります▼、 直鎖状又は分岐状のC_mH_2_m_+_1、直鎖状
又は分岐状のC_pH_2_p_+_1OH、−CH_
2CH(OH)CH_3、(C_2H_4O)_rC_
sH_2_s_+_1、〔CH_2CH(CH_3)O
〕_rC_sH_2_s_+_1である。 但し、Pは1〜10、nは1〜16、rは2〜20、s
は0〜8の整数である。)、−CONR_6R_7(式
中、R_6は水素原子又はC_pH_2_p_+_1、
R_7は水素原子、直線状又は分岐状のC_pH_2_
p_+_1、O又はCH_2OHである。但し、pは1
〜10の整数である。)、▲数式、化学式、表等があり
ます▼、−CONHC(C H_3)_2CH_2COCH_3、−CONHC(C
H_3)_2CH_2SO_3H、▲数式、化学式、表
等があります▼、−CN又は−OCOC_mH_2_m
_+_1、(式中、nは1〜16の整数であり、直鎖状
、分岐状のいずれでもよい。)▲数式、化学式、表等が
あります▼・・・・・・(III) 式中、R_8は水素原子又はメチル基、R_9はCH_
2=CH−、CH_2=C(CH_3)−、▲数式、化
学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があり
ます▼である。 2、前記構造単位(A)が一般式( I )から誘導され
る重合体部分40重量%以上及び一般式(II)から誘導
される重合体部分60重量%以下からなることを特徴と
する請求項1に記載の不飽和基を含有する含フッ素ブロ
ック共重合体。 3、前記一般式( I )から誘導される構造単位(A)
と、前記一般式(II)から誘導される重合体部分及び下
記一般式(IV)から誘導される重合体部分からなる構造
単位(B′)からなる含フッ素ブロック共重合体、又は
前記一般式( I )から誘導される重合体部分40重量
%以上及び前記一般式(II)から誘導される重合体部分
60重量%以下からなる構造単位(A)と、前記一般式
(II)から誘導される重合体部分及び下記一般式(IV)
から誘導される重合体部分からなる構造単位(B′)か
らなる含フッ素ブロック共重合体と、下記一般式(V)
で示される化合物とを反応させて、不飽和基を含有する
含フッ素ブロック共重合体を製造することを特徴とする
請求項1又は2に記載の不飽和基を含有する含フッ素ブ
ロック共重合体の製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(IV) 式中、R_8は水素原子又はメチル基である。 R_9−COOH・・・・・・(V) 式中R_9は、CH_2=CH−、CH_2=C(CH
_3)−、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式
、化学式、表等があります▼ である。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17555390A JP2867642B2 (ja) | 1990-07-02 | 1990-07-02 | 不飽和基を含有する含フッ素ブロック共重合体及びその製造方法並びに活性エネルギー線硬化型樹脂用表面改質剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17555390A JP2867642B2 (ja) | 1990-07-02 | 1990-07-02 | 不飽和基を含有する含フッ素ブロック共重合体及びその製造方法並びに活性エネルギー線硬化型樹脂用表面改質剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0463820A true JPH0463820A (ja) | 1992-02-28 |
JP2867642B2 JP2867642B2 (ja) | 1999-03-08 |
Family
ID=15998098
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17555390A Expired - Fee Related JP2867642B2 (ja) | 1990-07-02 | 1990-07-02 | 不飽和基を含有する含フッ素ブロック共重合体及びその製造方法並びに活性エネルギー線硬化型樹脂用表面改質剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2867642B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6903173B2 (en) | 2002-08-02 | 2005-06-07 | 3M Innovative Properties Co. | Fluorinated polymers |
US7632916B2 (en) | 2002-08-02 | 2009-12-15 | 3M Innovative Properties Company | Process to modify polymeric materials and resulting compositions |
-
1990
- 1990-07-02 JP JP17555390A patent/JP2867642B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6903173B2 (en) | 2002-08-02 | 2005-06-07 | 3M Innovative Properties Co. | Fluorinated polymers |
US7632916B2 (en) | 2002-08-02 | 2009-12-15 | 3M Innovative Properties Company | Process to modify polymeric materials and resulting compositions |
JP2011099112A (ja) * | 2002-08-02 | 2011-05-19 | Three M Innovative Properties Co | ポリマー材料の変性方法および得られる組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2867642B2 (ja) | 1999-03-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI306884B (ja) | ||
TW201529762A (zh) | 印刷配線板用白色硬化型組成物、使用此之硬化塗膜及印刷配線板 | |
CN101790551A (zh) | 光固化性树脂组合物及其制造方法 | |
JP3186868B2 (ja) | 光硬化性導電塗料組成物 | |
JPH1036462A (ja) | 活性エネルギー線硬化型組成物 | |
JP3021746B2 (ja) | 不飽和基を含有する含フッ素ブロック共重合体及びその製造方法並びに活性エネルギー線硬化用材料 | |
TWI830749B (zh) | 活性能量線硬化性組成物、其硬化膜及抗反射薄膜 | |
JPH0463820A (ja) | 不飽和基を含有する含フッ素ブロック共重合体及びその製造方法並びに活性エネルギー線硬化型樹脂用表面改質剤 | |
JPH08193107A (ja) | 不飽和基含有型含フッ素ブロック共重合体組成物及びその製造方法 | |
JP2844849B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化型高分子材料用表面改質剤及びその製造方法 | |
EP0457610B1 (en) | Unsaturated group and fluorine containing block copolymers, process for preparing the same and use | |
JPH0465409A (ja) | 活性エネルギー線硬化型高分子材料用表面改質剤及びその製造方法 | |
JPH04110315A (ja) | 不飽和基を含有する含フッ素ブロック共重合体及びその製造方法 | |
JP3216262B2 (ja) | 車両灯具用加熱硬化型防曇剤組成物及び車両灯具 | |
JPS6152169B2 (ja) | ||
JP6776395B2 (ja) | 含フッ素共重合体含有コーティング組成物 | |
JP4253977B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化型組成物 | |
JPH08269387A (ja) | 加熱硬化型被覆組成物 | |
JPH01182306A (ja) | 活性エネルギー線硬化性組成物 | |
JPH0655920B2 (ja) | 架橋可能なフッ素化共重合体をベースとした塗料・ワニス用組成物 | |
JPS6368604A (ja) | 光硬化性重合体の製造方法 | |
JPH04103610A (ja) | 溶液型塗料 | |
JP6509710B2 (ja) | 含フッ素共重合体含有コーティング組成物 | |
JPH04110329A (ja) | 活性エネルギー線硬化型高分子材料用表面改質剤及びその製造方法 | |
JP3978894B2 (ja) | 塗料 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071225 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081225 Year of fee payment: 10 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081225 Year of fee payment: 10 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081225 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091225 Year of fee payment: 11 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |