JPH0461005B2 - - Google Patents
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- Polymerisation Methods In General (AREA)
Description
本発明は光重合開始剤に関するものであり、詳
しくは、活性光線の露光により、露光部のみが光
重合により硬化し、且つ基材への密着性に優れた
光重合性樹脂組成物に使用される光重合開始剤に
関する。 光重合性樹脂組成物は、活性光線硬化型イン
キ、塗料あるいはフオトレジストとして使用され
ているが、これらにおける大きな問題点として露
光時の塗膜の硬化性が挙げられる。 即ち、塗膜の厚みによつてその硬化性が著しく
影響を受ける。例えば、フオトレジストやスクリ
ーン印刷インキの場合、塗膜の厚みが10〜100μ
mにも達するため塗膜内面の硬化が不良になりや
すい。又、顔料あるいは染料を光重合性樹脂組成
物に加えた場合においてはこの傾向は著しく、塗
膜表面にタツクが残る等、期待した硬化性能が表
われない。 このような硬化性の問題に関して光重合開始剤
を種々組合せることによつて改善が試みられてい
る。例えば、ベンゾフエノンまたはその誘導体と
4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフエノン
との組合せ(特公昭53−37902、特公昭54−
25943)、キサントンと4,4′−ビス(ジアルキル
アミノ)ベンゾフエノンとの組合せ(特開昭52−
92246)などが提案されている。 しかしながら、これらの光重合開始剤は有効で
はあるが、特に染料または顔料を配合した場合に
は塗膜の厚みが10μm以上になると硬化不良を起
しやすく、基材との密着性が悪くなる等、いまだ
十分ではなかつた。 本発明者等は、このような問題を解決するため
に鋭意検討した結果、2,4,5−トリフエニル
イミダゾール二量体とオキシムエステルとの混合
物を光重合開始剤として使用することにより、塗
膜の硬化性に極めて優れ、基材との密着性にも優
れた光重合性組成物が得られることを見い出し、
本発明に到達した。 即ち、本発明は2,4,5−トリフエニルイミ
ダゾール二量体およびオキシムエステルからなる
光重合開始剤を提供するものである。 この本発明の光重合開始剤は、光重合性化合物
高分子バインダーあるいはその他の添加剤等とと
もに光重合性樹脂組成物を形成するが、以下これ
らを含めて具体的に説明する。 本発明の光重合開始剤が好適に用いられる光重
合性化合物は分子内に1個以上の重合性二重結合
を有する光重合可能な化合物からなるものであ
る。そのような化合物としては、例えばスチレ
ン、α−メチルスチレン、クロロスチレンなどの
スチレン系化合物、メチル(メタ)アクリレー
ト、エチル(メタ)アクリレート、n−およびi
−プロピル(メタ)アクリレート、n−sec−お
よびt−ブチル(メタ)アクリレート、テトラヒ
ドロフルフリル(メタ)アクリレート、2−エチ
ルヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘ
キシル(メタ)アクリレートラウリル(メタ)ア
クリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ス
テアリル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル
(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)
アクリレート、フエノキシエチル(メタ)アクリ
レート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、
エトキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチ
レングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロ
ピレングリコール(メタ)アクリレート、などの
一官能(メタ)アクリレート化合物、エチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプ
ロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、
1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレ
ート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アク
リレートなどの二官能(メタ)アクリレート、ト
リメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アク
リレートなどの三官能以上の(メタ)アクリレー
トなどが代表例として挙げられる。これらの重合
性化合物は単独または組合せて使用することがで
き、光重合性樹脂組成物中5〜80重量%、好まし
くは10〜50重量%の割合で使用される。 高分子バインダーとしては、ポリスチレン、ポ
リメチルメタクリレート、メチルメタアクリレー
ト−エチルアクリレート共重合体、ポリ(メタ)
アクリル酸、スチレン−(メタ)アクリル酸共重
合体、(メタ)アクリル酸−メチルメタアクリレ
ート共重合体、ポリビニルブチラール、セルロー
スエステル、ポリアクリルアミド、飽和ポリエス
テル等があり、目的に応じて選択される。 本発明の2,4,5−トリフエニルイミダゾー
ル二量体は、各フエニル基に置換基を有していて
もよく、下記一般式で示されるものが好ましい。 なお、二量体の結合に種々の形が考えられるが
下記一般式の形が好ましい。 (一般式) 〔式中R1は、水素、2−ブロモ、2−クロロ、
2−フルオロ、1〜4個の炭素原子を有する2−
アルキルおよび2,4−ジクロロであり、R2は
水素、2−ブロモ、2−クロロ、2−フルオロ、
4−クロロ、1〜4個の炭素原子を有する2−ア
ルキル、2−シアノおよびアルキル基が1〜4個
の炭素原子を有する2−アルコキシであり、R3
は水素、3,4−ジメトキシ、3,4−ジエトキ
シ、2,3−ジメトキシ、2,4,6−トリメト
キシ、アルキル基が1〜4個の炭素原子を有する
4−アルコキシおよび3,4−メチレンジオキシ
である。〕 本発明のオキシムエステル基は、一般式
しくは、活性光線の露光により、露光部のみが光
重合により硬化し、且つ基材への密着性に優れた
光重合性樹脂組成物に使用される光重合開始剤に
関する。 光重合性樹脂組成物は、活性光線硬化型イン
キ、塗料あるいはフオトレジストとして使用され
ているが、これらにおける大きな問題点として露
光時の塗膜の硬化性が挙げられる。 即ち、塗膜の厚みによつてその硬化性が著しく
影響を受ける。例えば、フオトレジストやスクリ
ーン印刷インキの場合、塗膜の厚みが10〜100μ
mにも達するため塗膜内面の硬化が不良になりや
すい。又、顔料あるいは染料を光重合性樹脂組成
物に加えた場合においてはこの傾向は著しく、塗
膜表面にタツクが残る等、期待した硬化性能が表
われない。 このような硬化性の問題に関して光重合開始剤
を種々組合せることによつて改善が試みられてい
る。例えば、ベンゾフエノンまたはその誘導体と
4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフエノン
との組合せ(特公昭53−37902、特公昭54−
25943)、キサントンと4,4′−ビス(ジアルキル
アミノ)ベンゾフエノンとの組合せ(特開昭52−
92246)などが提案されている。 しかしながら、これらの光重合開始剤は有効で
はあるが、特に染料または顔料を配合した場合に
は塗膜の厚みが10μm以上になると硬化不良を起
しやすく、基材との密着性が悪くなる等、いまだ
十分ではなかつた。 本発明者等は、このような問題を解決するため
に鋭意検討した結果、2,4,5−トリフエニル
イミダゾール二量体とオキシムエステルとの混合
物を光重合開始剤として使用することにより、塗
膜の硬化性に極めて優れ、基材との密着性にも優
れた光重合性組成物が得られることを見い出し、
本発明に到達した。 即ち、本発明は2,4,5−トリフエニルイミ
ダゾール二量体およびオキシムエステルからなる
光重合開始剤を提供するものである。 この本発明の光重合開始剤は、光重合性化合物
高分子バインダーあるいはその他の添加剤等とと
もに光重合性樹脂組成物を形成するが、以下これ
らを含めて具体的に説明する。 本発明の光重合開始剤が好適に用いられる光重
合性化合物は分子内に1個以上の重合性二重結合
を有する光重合可能な化合物からなるものであ
る。そのような化合物としては、例えばスチレ
ン、α−メチルスチレン、クロロスチレンなどの
スチレン系化合物、メチル(メタ)アクリレー
ト、エチル(メタ)アクリレート、n−およびi
−プロピル(メタ)アクリレート、n−sec−お
よびt−ブチル(メタ)アクリレート、テトラヒ
ドロフルフリル(メタ)アクリレート、2−エチ
ルヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘ
キシル(メタ)アクリレートラウリル(メタ)ア
クリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ス
テアリル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル
(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)
アクリレート、フエノキシエチル(メタ)アクリ
レート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、
エトキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチ
レングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロ
ピレングリコール(メタ)アクリレート、などの
一官能(メタ)アクリレート化合物、エチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプ
ロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、
1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレ
ート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アク
リレートなどの二官能(メタ)アクリレート、ト
リメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アク
リレートなどの三官能以上の(メタ)アクリレー
トなどが代表例として挙げられる。これらの重合
性化合物は単独または組合せて使用することがで
き、光重合性樹脂組成物中5〜80重量%、好まし
くは10〜50重量%の割合で使用される。 高分子バインダーとしては、ポリスチレン、ポ
リメチルメタクリレート、メチルメタアクリレー
ト−エチルアクリレート共重合体、ポリ(メタ)
アクリル酸、スチレン−(メタ)アクリル酸共重
合体、(メタ)アクリル酸−メチルメタアクリレ
ート共重合体、ポリビニルブチラール、セルロー
スエステル、ポリアクリルアミド、飽和ポリエス
テル等があり、目的に応じて選択される。 本発明の2,4,5−トリフエニルイミダゾー
ル二量体は、各フエニル基に置換基を有していて
もよく、下記一般式で示されるものが好ましい。 なお、二量体の結合に種々の形が考えられるが
下記一般式の形が好ましい。 (一般式) 〔式中R1は、水素、2−ブロモ、2−クロロ、
2−フルオロ、1〜4個の炭素原子を有する2−
アルキルおよび2,4−ジクロロであり、R2は
水素、2−ブロモ、2−クロロ、2−フルオロ、
4−クロロ、1〜4個の炭素原子を有する2−ア
ルキル、2−シアノおよびアルキル基が1〜4個
の炭素原子を有する2−アルコキシであり、R3
は水素、3,4−ジメトキシ、3,4−ジエトキ
シ、2,3−ジメトキシ、2,4,6−トリメト
キシ、アルキル基が1〜4個の炭素原子を有する
4−アルコキシおよび3,4−メチレンジオキシ
である。〕 本発明のオキシムエステル基は、一般式
【式】で示されるものである。
こゝでR1〜R2は芳香族または脂肪族の炭化水素
あるいは複素環化合物等種々の有機化合物がある
が、好ましくは以下に示す(1)〜(6)のものが例示さ
れる。 即ち、R1,R2としては次の(1)〜(4)が挙げられ
る。こゝでR1,R2は同一でも、異つていてもよ
い。 (1) 炭素数1〜10、好ましくは1〜5の直鎖状あ
るいは分岐状のアルキル基 (2) 置換または非置換のフエニル基、ナフチル
基、アンスリル基であり、置換基としては炭素
数1〜10、好ましくは1〜5の直鎖状あるいは
分岐状のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキ
シル基、ハロゲン、アミノ基、ジメチルアミノ
基、ジエチルアミノ基、メルカプト基等 (3) 2−ピリジル基等のピリジル基または6−キ
ノリル基等のキノリル基あるいは(2)と同様の置
換基を有するピリジル基またはキノリル基 (4) R1とR2が結合して環を形成するフルオレニ
ル基等、あるいは(2)と同様の置換基を有する該
フルオレニル基等。 また、R3としては次の(5)〜(6)が例示される。 (5) メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロ
ピル基、ブチル基、t−ブチル基等の炭素数1
〜5のアルキル基 (6) フエニル基または置換フエニル基であり、置
換基は前述の(2)で示した置換基と同様である。 以上述べたオキシムエステルには種々のケトン
−O−アシルオキシムがあり、具体的には ジメチルケトン−O−アセチルオキシム ジエチルケトン−O−アセチルオキシム アセトフエノン−O−アセチルオキシム アセトフエノン−O−ベンゾイルオキシム アセトフエノン−O−(p−メチルベンゾイル)
オキシム p−メチルアセトフエノン−O−(p−トリル
カルボニル)オキシム 9−アンスリルメチルケトン−O−アセチルオ
キシム 2−ナフチルメチルケトン−O−ベンゾイルオ
キシム ベンゾフエノン−O−アセチルオキシム ベンゾフエノン−O−フエニルアセチルオキシ
ム ベンゾフエノン−O−(p−クロロベンゾイル)
オキシム ジメチルアミノアセトフエノン−O−アセチル
オキシム p,p′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフエノ
ン−O−アセチルオキシム p,p′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフエノ
ン−O−ベンゾイルオキシム フルオレノン−O−(p−メチルベンゾイル)
オキシム フルオレノン−O−アセチルオキシム 2−ピリジルメチルケトン−O−アセチルオキ
シム di(2−ピリジル)ケトン−O−アセチルオキ
シム 6−キノリルメチルケトン−O−エチルカルボ
ニルオキシム 6−キノリルフエニルケトン−O−アセチルオ
キシム 等がある。 これらのオキシムエステルあるいは前述の2,
4,5−トリフエニルイミダゾール二量体はそれ
ぞれ2種以上併用してもよい。 また、本発明の光重合開始剤にベンゾイン、ベ
ンゾイルアルキルエーテル、ベンゾフエノン、ベ
ンジル、パラアミノフエニルケトンまたは、これ
らの誘導体等公知の光増感剤を加えて使用するこ
ともできる。 本発明における2,4,5−トリフエニルイミ
ダゾール二量体とオキシムエステルとの使用比率
は、それらの種類あるいは光重合性化合物等の種
類により適宜選択されるが、おおよそ、重量比で
2,4,5−トリフエニルイミダゾール二量体/
オキシムエステル=1/100〜10/1の比率で、
好ましくは1/10〜1/1の比率で使用される。 また、本発明の混合開始剤は光重合性組成物
(固形分)中0.1〜20重量%、好ましくは1〜10重
量%の範囲で使用される。 本発明により得られる光重合性樹脂組成物は、
公知の方法により基材に塗布されたのち、活性光
線を照射され、光重合反応が誘起される。 使用される活性光源としては200〜300nmに強
い発光をもつ遠紫外光源(Hg−Xe灯、低圧水銀
灯)やエキシマーレーザー、さらに300nm以上の
発光スペクトルを有するHg灯、キセノン灯、高
圧水銀灯、さらにはN2レーザー、アルゴンレー
ザー、He−Neレーザー等が挙げられる。 次に本発明を実施例により説明する。 実施例 ポリメチルメタクリレート(スミペツクス−
BH) 50g トリメチロールプロパントリアクリレート
25g テトラエチレングリコールジアクリレート
20g 2,4,5−トリフエニルイミダゾール二量
体 1.0g ベンゾトリアゾール 0.20g ロイコクリスタルバイオレツト 0.15g N−メチルジエタノールアミン 0.0,5g ビクトリアブルー 0.04g ベンゾフエノン−O−アセチルオキシム
3.0g メチルエチルケトン 1,37g 上記組成物を機械的攪拌により十分混合したの
ち、銅板に厚さ25μmで塗工したのち、75℃で5
分間乾燥させる。 次に、ステツプタブレツト(Fuji Film製15
段)を重ねて超高圧水銀灯(2KW)を45cmの距
離から10秒照射した。これをクロロセンにて未露
光部を洗い出すことにより現像した。その結果、
8段までの良好な画像を生じた。 実施例 2 ポリメチルメタクリレート 50g トリメチロールプロパントリアクリレート
45g 2,4,5−トリフエニルイミダゾール二量
体 1.0g p−メチルアセトフエノン−O−アセチルオ
キシム 3.5g ベンゾトリアゾール 0.20g ビクトリアブルー 0.04g メチルエチルケトン 137g 上記組成物を実施例1と同様に塗工、乾燥、露
光、現像すると、9段までの良好な画像が得られ
た。 実施例 3 ポリ(メチルメタクリレート/メタクリル酸)
50g (70/30) トリメチロールプロパントリアクリレート
40g 2,4,5−トリフエニルイミダゾール二量
体 1.0g p−メチルアセトフエノン−O−アセチルオ
キシム 4.0g ビクトリアブルー 0.04g 1,4−ジオキサン 137g 上記組成物を実施例1と同様に塗工、乾燥、露
光したのち、1%炭酸ソーダ水溶液(40℃)で現
像すると、9段までの良好な画像が得られた。 実施例 4 ポリメチルメタクリレート 50g トリメチロールプロパントリアクリレート
40g 2,4,5−トリフエニルイミダゾール二量
体 1.5g p,p′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフエ
ノン−O−アセチルオキシム 3.5g ビクトリアブルー 0.04g メチルエチルケトン 137g 上記組成物を実施例1と同様に塗工、乾燥、露
光、現像すると、9段までの良好な画像が得られ
た。 実施例 5 実施例2の組成物を銅板上に5μmの厚さで塗
工、乾燥したのち、クロムマスク(石英製)を重
ねて500W、Hg−Xe灯(ウシオ電機製)を照射
してクロロセンで現像すると、5μmまでの良好
な画像が生じた。 比較例 1 ポリメチルメタクリレート 50g トリメチロールプロパントリアクリレート
45g ベンゾフエノン−O−アセチルオキシム
5.0g ベンゾトリアゾール 0.20g ビクトリアブルー 0.04g メチルエチルケトン 137g 上記組成物を実施例1と同様の処理をすると、
60秒照射しても、ほとんどが未露光部と同様に洗
い出されて画像を生じなかつた。
あるいは複素環化合物等種々の有機化合物がある
が、好ましくは以下に示す(1)〜(6)のものが例示さ
れる。 即ち、R1,R2としては次の(1)〜(4)が挙げられ
る。こゝでR1,R2は同一でも、異つていてもよ
い。 (1) 炭素数1〜10、好ましくは1〜5の直鎖状あ
るいは分岐状のアルキル基 (2) 置換または非置換のフエニル基、ナフチル
基、アンスリル基であり、置換基としては炭素
数1〜10、好ましくは1〜5の直鎖状あるいは
分岐状のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキ
シル基、ハロゲン、アミノ基、ジメチルアミノ
基、ジエチルアミノ基、メルカプト基等 (3) 2−ピリジル基等のピリジル基または6−キ
ノリル基等のキノリル基あるいは(2)と同様の置
換基を有するピリジル基またはキノリル基 (4) R1とR2が結合して環を形成するフルオレニ
ル基等、あるいは(2)と同様の置換基を有する該
フルオレニル基等。 また、R3としては次の(5)〜(6)が例示される。 (5) メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロ
ピル基、ブチル基、t−ブチル基等の炭素数1
〜5のアルキル基 (6) フエニル基または置換フエニル基であり、置
換基は前述の(2)で示した置換基と同様である。 以上述べたオキシムエステルには種々のケトン
−O−アシルオキシムがあり、具体的には ジメチルケトン−O−アセチルオキシム ジエチルケトン−O−アセチルオキシム アセトフエノン−O−アセチルオキシム アセトフエノン−O−ベンゾイルオキシム アセトフエノン−O−(p−メチルベンゾイル)
オキシム p−メチルアセトフエノン−O−(p−トリル
カルボニル)オキシム 9−アンスリルメチルケトン−O−アセチルオ
キシム 2−ナフチルメチルケトン−O−ベンゾイルオ
キシム ベンゾフエノン−O−アセチルオキシム ベンゾフエノン−O−フエニルアセチルオキシ
ム ベンゾフエノン−O−(p−クロロベンゾイル)
オキシム ジメチルアミノアセトフエノン−O−アセチル
オキシム p,p′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフエノ
ン−O−アセチルオキシム p,p′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフエノ
ン−O−ベンゾイルオキシム フルオレノン−O−(p−メチルベンゾイル)
オキシム フルオレノン−O−アセチルオキシム 2−ピリジルメチルケトン−O−アセチルオキ
シム di(2−ピリジル)ケトン−O−アセチルオキ
シム 6−キノリルメチルケトン−O−エチルカルボ
ニルオキシム 6−キノリルフエニルケトン−O−アセチルオ
キシム 等がある。 これらのオキシムエステルあるいは前述の2,
4,5−トリフエニルイミダゾール二量体はそれ
ぞれ2種以上併用してもよい。 また、本発明の光重合開始剤にベンゾイン、ベ
ンゾイルアルキルエーテル、ベンゾフエノン、ベ
ンジル、パラアミノフエニルケトンまたは、これ
らの誘導体等公知の光増感剤を加えて使用するこ
ともできる。 本発明における2,4,5−トリフエニルイミ
ダゾール二量体とオキシムエステルとの使用比率
は、それらの種類あるいは光重合性化合物等の種
類により適宜選択されるが、おおよそ、重量比で
2,4,5−トリフエニルイミダゾール二量体/
オキシムエステル=1/100〜10/1の比率で、
好ましくは1/10〜1/1の比率で使用される。 また、本発明の混合開始剤は光重合性組成物
(固形分)中0.1〜20重量%、好ましくは1〜10重
量%の範囲で使用される。 本発明により得られる光重合性樹脂組成物は、
公知の方法により基材に塗布されたのち、活性光
線を照射され、光重合反応が誘起される。 使用される活性光源としては200〜300nmに強
い発光をもつ遠紫外光源(Hg−Xe灯、低圧水銀
灯)やエキシマーレーザー、さらに300nm以上の
発光スペクトルを有するHg灯、キセノン灯、高
圧水銀灯、さらにはN2レーザー、アルゴンレー
ザー、He−Neレーザー等が挙げられる。 次に本発明を実施例により説明する。 実施例 ポリメチルメタクリレート(スミペツクス−
BH) 50g トリメチロールプロパントリアクリレート
25g テトラエチレングリコールジアクリレート
20g 2,4,5−トリフエニルイミダゾール二量
体 1.0g ベンゾトリアゾール 0.20g ロイコクリスタルバイオレツト 0.15g N−メチルジエタノールアミン 0.0,5g ビクトリアブルー 0.04g ベンゾフエノン−O−アセチルオキシム
3.0g メチルエチルケトン 1,37g 上記組成物を機械的攪拌により十分混合したの
ち、銅板に厚さ25μmで塗工したのち、75℃で5
分間乾燥させる。 次に、ステツプタブレツト(Fuji Film製15
段)を重ねて超高圧水銀灯(2KW)を45cmの距
離から10秒照射した。これをクロロセンにて未露
光部を洗い出すことにより現像した。その結果、
8段までの良好な画像を生じた。 実施例 2 ポリメチルメタクリレート 50g トリメチロールプロパントリアクリレート
45g 2,4,5−トリフエニルイミダゾール二量
体 1.0g p−メチルアセトフエノン−O−アセチルオ
キシム 3.5g ベンゾトリアゾール 0.20g ビクトリアブルー 0.04g メチルエチルケトン 137g 上記組成物を実施例1と同様に塗工、乾燥、露
光、現像すると、9段までの良好な画像が得られ
た。 実施例 3 ポリ(メチルメタクリレート/メタクリル酸)
50g (70/30) トリメチロールプロパントリアクリレート
40g 2,4,5−トリフエニルイミダゾール二量
体 1.0g p−メチルアセトフエノン−O−アセチルオ
キシム 4.0g ビクトリアブルー 0.04g 1,4−ジオキサン 137g 上記組成物を実施例1と同様に塗工、乾燥、露
光したのち、1%炭酸ソーダ水溶液(40℃)で現
像すると、9段までの良好な画像が得られた。 実施例 4 ポリメチルメタクリレート 50g トリメチロールプロパントリアクリレート
40g 2,4,5−トリフエニルイミダゾール二量
体 1.5g p,p′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフエ
ノン−O−アセチルオキシム 3.5g ビクトリアブルー 0.04g メチルエチルケトン 137g 上記組成物を実施例1と同様に塗工、乾燥、露
光、現像すると、9段までの良好な画像が得られ
た。 実施例 5 実施例2の組成物を銅板上に5μmの厚さで塗
工、乾燥したのち、クロムマスク(石英製)を重
ねて500W、Hg−Xe灯(ウシオ電機製)を照射
してクロロセンで現像すると、5μmまでの良好
な画像が生じた。 比較例 1 ポリメチルメタクリレート 50g トリメチロールプロパントリアクリレート
45g ベンゾフエノン−O−アセチルオキシム
5.0g ベンゾトリアゾール 0.20g ビクトリアブルー 0.04g メチルエチルケトン 137g 上記組成物を実施例1と同様の処理をすると、
60秒照射しても、ほとんどが未露光部と同様に洗
い出されて画像を生じなかつた。
Claims (1)
- 1 2,4,5−トリフエニルイミダゾール二量
体およびオキシムエステルからなる光重合開始剤
であつて、2,4,5−トリフエニルイミダゾー
ル二量体とオキシムエステルとの使用比率が重量
比で1/2〜1/5である事を特徴とする光重合
開始剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10428783A JPS59230003A (ja) | 1983-06-13 | 1983-06-13 | 光重合開始剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10428783A JPS59230003A (ja) | 1983-06-13 | 1983-06-13 | 光重合開始剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59230003A JPS59230003A (ja) | 1984-12-24 |
JPH0461005B2 true JPH0461005B2 (ja) | 1992-09-29 |
Family
ID=14376709
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10428783A Granted JPS59230003A (ja) | 1983-06-13 | 1983-06-13 | 光重合開始剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59230003A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5140903B2 (ja) * | 2004-07-02 | 2013-02-13 | 三菱化学株式会社 | 着色樹脂組成物、カラーフィルタ及び液晶表示装置 |
KR100814232B1 (ko) | 2005-12-01 | 2008-03-17 | 주식회사 엘지화학 | 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물을포함하는 착색 감광성 조성물 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5533195A (en) * | 1978-08-25 | 1980-03-08 | Agfa Gevaert Nv | Improved photopolymerizable recording material |
JPS55100543A (en) * | 1979-01-24 | 1980-07-31 | Agfa Gevaert Nv | Photosensitive composition containing ethylenic unsaturated comound* initiator* and sensitizer |
JPS5815531A (ja) * | 1981-07-21 | 1983-01-28 | Toyobo Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JPS5849703A (ja) * | 1981-09-18 | 1983-03-24 | Matsushita Electric Works Ltd | 硬化性樹脂組成物 |
US4414312A (en) * | 1980-09-03 | 1983-11-08 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Photopolymerizable polyamide ester resin compositions containing an oxygen scavenger |
-
1983
- 1983-06-13 JP JP10428783A patent/JPS59230003A/ja active Granted
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5533195A (en) * | 1978-08-25 | 1980-03-08 | Agfa Gevaert Nv | Improved photopolymerizable recording material |
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US4414312A (en) * | 1980-09-03 | 1983-11-08 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Photopolymerizable polyamide ester resin compositions containing an oxygen scavenger |
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JPS5849703A (ja) * | 1981-09-18 | 1983-03-24 | Matsushita Electric Works Ltd | 硬化性樹脂組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59230003A (ja) | 1984-12-24 |
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