JPH0456132A - 半導体基板洗浄装置 - Google Patents
半導体基板洗浄装置Info
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- JPH0456132A JPH0456132A JP16382990A JP16382990A JPH0456132A JP H0456132 A JPH0456132 A JP H0456132A JP 16382990 A JP16382990 A JP 16382990A JP 16382990 A JP16382990 A JP 16382990A JP H0456132 A JPH0456132 A JP H0456132A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ultrasonic
- semiconductor substrate
- oscillation
- cleaning
- output
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 13
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims abstract description 14
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 5
- 239000010453 quartz Substances 0.000 abstract description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 4
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 abstract description 3
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 abstract 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体製造装置における半導体基板洗浄装置に
関する。
関する。
従来、この種の半導体基板洗浄装置は、超音波発振機の
出力モニターは有るが洗浄槽内のモニターが無く、実際
の発振状態を確認する事はできなかった。
出力モニターは有るが洗浄槽内のモニターが無く、実際
の発振状態を確認する事はできなかった。
11発明が解決しようとする課題〕
上述した従来の超音波を使った半導体基板洗浄装置は、
洗浄槽内の超音波発振モニターが無し)為、実際の発振
状態の確認は超音波によるキャビテーション現象又は液
分解による気泡を人が確認する事で代用しており、個人
差による判断の違いから非常に不明確なものとなってい
た。この為、超音波発振不良による洗浄効果の低下を発
見できないという欠点がある。
洗浄槽内の超音波発振モニターが無し)為、実際の発振
状態の確認は超音波によるキャビテーション現象又は液
分解による気泡を人が確認する事で代用しており、個人
差による判断の違いから非常に不明確なものとなってい
た。この為、超音波発振不良による洗浄効果の低下を発
見できないという欠点がある。
上述した従来の超音波を使った半導体基板洗浄装置に対
し、本発明は、洗浄槽内に超音波発振のモニターセンサ
ーを設けたという相違点を有する。
し、本発明は、洗浄槽内に超音波発振のモニターセンサ
ーを設けたという相違点を有する。
本発明の超音波を使った半導体基板洗浄装置は、洗浄槽
内に設けた超音波発振モニターセンサーと、モニターし
た値を補正演算し、発振出力と周波数を表示する演算回
路表示器とを有している。
内に設けた超音波発振モニターセンサーと、モニターし
た値を補正演算し、発振出力と周波数を表示する演算回
路表示器とを有している。
第1図は本発明の一実施例力縦断面図である。
超音波発振機1の出力て発振板2がら出た超音波は石英
製の洗浄槽3及び液体中を伝播し、半導体基板4の洗浄
効果を増す。二の時、液体中を伝播した超音波は石英管
に入ったマイクロフォンの超音波モニターセンサー5に
て検知され、補正演算回路6で石英管による減衰等を補
正し、表示器7に発振出力と周波数を表示する。
製の洗浄槽3及び液体中を伝播し、半導体基板4の洗浄
効果を増す。二の時、液体中を伝播した超音波は石英管
に入ったマイクロフォンの超音波モニターセンサー5に
て検知され、補正演算回路6で石英管による減衰等を補
正し、表示器7に発振出力と周波数を表示する。
以上説明したように本発明は、超音波洗浄槽内に発振状
態を確認するモニターセンサーを設けることで、超音波
発進の強度及び周波数をモニターでき、超音波の発振不
良を早期に発見てきると共に超音波発振不良による半導
体基板洗浄不足を未然に防ぐ事かできる。
態を確認するモニターセンサーを設けることで、超音波
発進の強度及び周波数をモニターでき、超音波の発振不
良を早期に発見てきると共に超音波発振不良による半導
体基板洗浄不足を未然に防ぐ事かできる。
4・・・半導体基板、5・・・超音波モニターセンサー
6・・・補正演算回路、7・・表示器。
6・・・補正演算回路、7・・表示器。
Claims (1)
- 超音波による洗浄を行う洗浄槽を有する半導体基板洗
浄装置において、超音波洗浄槽内に超音波の発振状態を
確認するモニターセンサーを有することを特徴とする半
導体基板洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16382990A JPH0456132A (ja) | 1990-06-21 | 1990-06-21 | 半導体基板洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16382990A JPH0456132A (ja) | 1990-06-21 | 1990-06-21 | 半導体基板洗浄装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0456132A true JPH0456132A (ja) | 1992-02-24 |
Family
ID=15781539
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16382990A Pending JPH0456132A (ja) | 1990-06-21 | 1990-06-21 | 半導体基板洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0456132A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11196493A (ja) * | 1997-12-30 | 1999-07-21 | Honda Electron Co Ltd | キャビテーション検出方法及び音響フィルター付き マイクロホン |
US6378536B1 (en) * | 2000-11-07 | 2002-04-30 | Industrial Technology Research Institute | Ultrasonic cleaning device fault detector |
-
1990
- 1990-06-21 JP JP16382990A patent/JPH0456132A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11196493A (ja) * | 1997-12-30 | 1999-07-21 | Honda Electron Co Ltd | キャビテーション検出方法及び音響フィルター付き マイクロホン |
US6378536B1 (en) * | 2000-11-07 | 2002-04-30 | Industrial Technology Research Institute | Ultrasonic cleaning device fault detector |
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