JP2007198826A - 電気光学装置用基板の検査方法及び電気光学装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】基板の欠陥を容易に検出することが可能な電気光学装置用基板の検査方法及び電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】電気光学装置に用いられる基板の欠陥を検出する電気光学装置用基板の検査方法であって、溶媒にガスを溶解させた溶液に基板10を浸し、基板10の表面から気泡16の発生状態を観察することにより欠陥15を検出することを特徴とする。
【選択図】図1
【解決手段】電気光学装置に用いられる基板の欠陥を検出する電気光学装置用基板の検査方法であって、溶媒にガスを溶解させた溶液に基板10を浸し、基板10の表面から気泡16の発生状態を観察することにより欠陥15を検出することを特徴とする。
【選択図】図1
Description
本発明は、電気光学装置用基板の検査方法及び電気光学装置の製造方法に関する。
従来、液晶層の溶存ガス、電子部品中の水分の検出を目的として気泡を発生させた後、カメラで観察する方式等が提案されている(例えば、特許文献1及び特許文献2参照)。この特許文献1に記載の液晶表示素子の検査方法及び検査装置は、液晶表示素子の外部を減圧した後、液晶表示素子に外部刺激エネルギー(機械的な衝撃や押圧、振動、加熱、光照射等)を付与する方法である。すなわち、基板の微小な欠陥やシール部に微小な欠陥があると、その欠陥部分から微量の気体が流入しているため、外部刺激エネルギーとして、例えば、レーザ光を液晶層に当てることにより、液晶層に気泡が発生する。この気泡をCCDカメラ等のモニターにより観察することで、液晶層内に溶存しているガスの変化を知ることができ、極小な欠陥の気体漏れを検出することができる。
また、電子部品や基板内部に残留または吸着された微量な水分を検査する方法が特許文献2に提案されている。この特許文献2に記載の電子部品の検査方法は、疎水性有機溶剤内に電子部品を浸漬して、電子部品内の残留水分を気化させることにより、残留水分は気泡となって発生する。この気泡の発生箇所などから水分が含まれていた場所を視覚的に確認することにより、電子部品や基板内部に残留または吸着されていた水分量を比較することが可能となっている。また、この方法は、基板表面にクラックがある場合には、クラック部分から気泡が発生するため、この気泡を監視カメラ等で観察することにより、基板の不良の発見を可能としている。
特開2000−258743号公報
特開2003−344329号公報
しかしながら、上記特許文献1及び特許文献2に記載の検査方法を、ガラス基板のような平坦な基板に、極めて微細な異物が付着している場合に適用した際には、発生する気泡の大きさは非常に小さいため、欠陥箇所が分かりづらいという欠点がある。また、CCDカメラを用いた方式では、CCDカメラの分解能力により微小異物の検出が困難である。さらには、異物そのものが極めて微小であるために、異物からの気泡の発生そのものが望めない場合がある。
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、基板の欠陥を容易に検出することが可能な電気光学装置用基板の検査方法及び電気光学装置の製造方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明は、以下の手段を提供する。
本発明の電気光学装置用基板の検査方法は、電気光学装置に用いられる基板の欠陥を検出する電気光学装置用基板の検査方法であって、溶媒にガスを溶解させた溶液に前記基板を浸し、前記基板の表面から気泡の発生状態を観察することにより前記欠陥を検出することを特徴とする。
本発明の電気光学装置用基板の検査方法は、電気光学装置に用いられる基板の欠陥を検出する電気光学装置用基板の検査方法であって、溶媒にガスを溶解させた溶液に前記基板を浸し、前記基板の表面から気泡の発生状態を観察することにより前記欠陥を検出することを特徴とする。
本発明に係る電気光学装置用基板の検査方法では、ガスとして、例えば、二酸化炭素を用い、この二酸化炭素を溶解させた溶液に、被検査物である基板を浸す。これにより、基板の内部に異物が付着していたり、表面に傷等の微細な欠陥がある場合、基板上に気泡が発生する。そして、この気泡を観察することにより、異物の有無、欠陥箇所等を検出することが可能となる。すなわち、溶媒にガスを溶解させた溶液を用いることにより、欠陥部分から発生した気泡を成長させることができる。したがって、従来では、観察することができなかった微細な異物や傷等の欠陥を容易に検出することが可能となる。また、薄膜が形成された基板についても同様に、薄膜に付着した異物の有無や欠陥箇所等を容易に検出することが可能となる。
また本発明に係る電気光学装置用基板の検査方法では、前記溶液中のガスの濃度C1が、前記溶媒に対する前記ガスの飽和濃度をC2としたとき、0.7C2≦C1≦C2であることが好ましい。
本発明に係る電気光学装置用基板の検査方法では、溶液中のガスの濃度C1が、0.7C2≦C1≦C2を満たすため、欠陥部分から発生する気泡をより早く成長させることが可能となる。
本発明に係る電気光学装置用基板の検査方法では、溶液中のガスの濃度C1が、0.7C2≦C1≦C2を満たすため、欠陥部分から発生する気泡をより早く成長させることが可能となる。
また、本発明の電気光学装置用基板の検査方法は、前記基板を収納するチャンバと、該チャンバ内の雰囲気を制御する制御部とを備えた検査装置を用い、前記基板を前記溶液に浸した際、前記制御部によりチャンバ内の雰囲気を制御することが好ましい。
本発明に係る電気光学装置用基板の検査方法では、制御部によりチャンバ内の雰囲気を制御することで、欠陥部分からの気泡の発生を促進させることが可能となる。したがって、異物や傷等の欠陥をさらに容易に検出することが可能となる。
また、本発明の電気光学装置用基板の検査方法は、前記基板を前記溶液に浸した際、前記基板に超音波による振動を付与することが好ましい。
本発明に係る電気光学装置用基板の検査方法では、超音波振動を基板に付与することにより、欠陥部分からの気泡の発生を促進させることが可能となる。したがって、異物や傷等の欠陥をさらに容易に検出することが可能となる。
本発明の電気光学装置の製造方法は、一対の基板のうち一方の基板上に薄膜を形成する薄膜形成工程と、前記一対の基板を貼り合せる貼合せ工程とを備えた電気光学装置の製造方法であって、前記一方の基板を上記の電気光学装置用基板の検査方法により検査する検査工程を有することを特徴とする。
本発明に係る電気光学装置の製造方法では、上述した電気光学装置用基板の検査方法により一方の基板を検査することにより、基板や基板上の薄膜に付着した異物及び傷等の欠陥を容易に検出することが可能となる。したがって、状態が良好な基板を用いて電気光学装置を組み立てることができるので、基板の欠陥に起因する電気光学装置の不良の発生を抑えることができる。
また、本発明に係る電気光学装置の製造方法では、前記検査工程が、前記薄膜形成工程の前に行われることが好ましい。
また、本発明に係る電気光学装置の製造方法では、検査工程が薄膜形成工程の前に行われることにより、基板に付着した異物及び傷等の欠陥を早期に検出することが可能となる。したがって、不良の基板を早期に発見することで、基板の状態に起因する電気光学装置の不良が発生数を抑えることができるため、歩留まりを向上させることが可能となる。
また、本発明に係る電気光学装置の製造方法では、前記検査工程が、前記薄膜形成工程と前記貼合せ工程との間に行われることが好ましい。
本発明に係る電気光学装置の製造方法では、検査工程が薄膜形成工程と貼合せ工程との間に行われることにより、基板上に形成された薄膜に付着した異物及び傷等の欠陥を検出することが可能となる。したがって、基板上の薄膜の状態に起因する電気光学装置の不良が発生数を抑えることができるため、歩留まりを向上させることが可能となる。
以下、図面を参照して、本発明に係る電気光学装置用基板の検査方法及び電気光学装置の製造方法の実施形態について説明する。なお、以下の図面においては、各部材を認識可能な大きさとするために、各部材の縮尺を適宜変更している。
[第1実施形態]
次に、電気光学装置用基板の検査方法について説明する。
電気光学装置用基板の検査方法は、電気光学装置として、例えば、液晶表示装置に用いられるガラス基板(基板)10に付着している異物、傷等の欠陥を検出する検査方法である。
次に、電気光学装置用基板の検査方法について説明する。
電気光学装置用基板の検査方法は、電気光学装置として、例えば、液晶表示装置に用いられるガラス基板(基板)10に付着している異物、傷等の欠陥を検出する検査方法である。
まず、図1に示すように、水溶液11が貯留された容器12にガラス基板10を浸す。この水溶液11は、常圧において、純水(溶媒)中の二酸化炭素(ガス)の濃度C1が、純水に対する二酸化炭素の飽和濃度をC2としたとき、0.7C2≦C1≦C2を満たすようになっている。このとき、ガラス基板10に欠陥15がある場合、この欠陥15を核として、気泡16が発生する。気泡16は、水溶液11内において成長し、例えば、純水のみにガラス基板10を浸した場合に比べ、気泡16の大きさは約10倍の大きさとなる。
なお、ガスとしては、二酸化炭素の他に、窒素、アルゴン等の、水に溶解可能なガスであれば良い。
なお、ガスとしては、二酸化炭素の他に、窒素、アルゴン等の、水に溶解可能なガスであれば良い。
次に、気泡16を観察装置(観察手段)20により観察する。
観察装置20は、図2に示すように、レーザ光をガラス基板10に向けて射出するレーザ光源21と、ガラス基板10において反射した散乱光を検出する光検出素子としてフォトマル22とを備えている。なお、光検出素子としては、フォトマルに限らず、光を分析することが可能なCCDカメラ、分光計、色彩計等であっても良い。
観察装置20は、図2に示すように、レーザ光をガラス基板10に向けて射出するレーザ光源21と、ガラス基板10において反射した散乱光を検出する光検出素子としてフォトマル22とを備えている。なお、光検出素子としては、フォトマルに限らず、光を分析することが可能なCCDカメラ、分光計、色彩計等であっても良い。
観察装置20による観察方法としては、まず、レーザ光源21によりガラス基板10にレーザ光を照射する。そして、ガラス基板10上の気泡16によりレーザ光が散乱し、この散乱光をフォトマル22において受光する。このように、フォトマル22が、散乱光を検出することにより、基板の欠陥15の有無及び欠陥15の箇所を検出することができる。
本実施形態に係る電気光学装置用のガラス基板10の検査方法では、純水に二酸化炭素を溶解させた水溶液を用いることにより、従来の気泡の大きさに比べ、約10倍の大きさとなる。したがって、従来では、観察することができなかった微細な異物や傷等の欠陥を容易に検出することが可能となる。具体的には、従来の欠陥を検出する方法では、0.3μm以上の異物の検出が可能であったが、本発明の検査方法を用いることにより、0.1μm程度の異物の検出が可能になるため、極めて微細な欠陥を検出することができる。
なお、純水中の二酸化炭素の濃度C1が、純水に対する二酸化炭素の飽和濃度をC2としたとき、0.7C2≦C1≦C2であるとしたが、C1が0.7C2未満でも気泡16は成長するが、0.7C2≦C1≦C2の範囲であると、欠陥15から発生する気泡16をより早く成長させることが可能となる。
また、本実施形態において、ガラス基板10の検査方法について説明したが、図3に示すように、ガラス基板10の表面10aに薄膜31が形成された基板の欠陥を検出することも可能である。この構成では、薄膜31に異物が付着していたり、表面31aに傷等の欠陥32があると、水溶液11に浸すことにより、上記ガラス基板10の検査方法と同様に、欠陥32から気泡33が発生する。そして、観察装置20により、この気泡33を観察することで、基板の欠陥32の有無及び欠陥32の箇所を認識することができる。
また、観察装置20は、レーザ光源21及びフォトマル22を備えた構成にしたが、これに限らず、例えば、図4に示すように、CCDカメラ35により、ガラス基板10全体を観察可能な構成であっても良い。
また、本実施形態において、ガラス基板10の検査方法について説明したが、図3に示すように、ガラス基板10の表面10aに薄膜31が形成された基板の欠陥を検出することも可能である。この構成では、薄膜31に異物が付着していたり、表面31aに傷等の欠陥32があると、水溶液11に浸すことにより、上記ガラス基板10の検査方法と同様に、欠陥32から気泡33が発生する。そして、観察装置20により、この気泡33を観察することで、基板の欠陥32の有無及び欠陥32の箇所を認識することができる。
また、観察装置20は、レーザ光源21及びフォトマル22を備えた構成にしたが、これに限らず、例えば、図4に示すように、CCDカメラ35により、ガラス基板10全体を観察可能な構成であっても良い。
[第2実施形態]
次に、本発明に係る第2実施形態について、図5を参照して説明する。なお、以下に説明する各実施形態において、上述した第1実施形態に係る電気光学装置用のガラス基板10と共通の構成である箇所は、同一符号を付けて説明を省略することにする。
本実施形態に係る電気光学装置用のガラス基板10の検査方法は、容器12がチャンバ(検査装置)40内に収納されている点で、第1実施形態と異なる。
チャンバ40には、内部の雰囲気の圧力を制御する制御部(検査装置)41が設けられている。また、チャンバ10内には観察装置20が配置されている。
圧力制御部41は、チャンバ40内の圧力を計測する圧力計41aと、真空ポンプ41bと、チャンバ40内と連通した開閉バルブ40cと、圧力計41aに応じてチャンバ40内の圧力を制御する制御部41dとを備えている。
次に、本発明に係る第2実施形態について、図5を参照して説明する。なお、以下に説明する各実施形態において、上述した第1実施形態に係る電気光学装置用のガラス基板10と共通の構成である箇所は、同一符号を付けて説明を省略することにする。
本実施形態に係る電気光学装置用のガラス基板10の検査方法は、容器12がチャンバ(検査装置)40内に収納されている点で、第1実施形態と異なる。
チャンバ40には、内部の雰囲気の圧力を制御する制御部(検査装置)41が設けられている。また、チャンバ10内には観察装置20が配置されている。
圧力制御部41は、チャンバ40内の圧力を計測する圧力計41aと、真空ポンプ41bと、チャンバ40内と連通した開閉バルブ40cと、圧力計41aに応じてチャンバ40内の圧力を制御する制御部41dとを備えている。
次に、電気光学装置用基板の検査方法について説明する。
まず、図5に示すように、チャンバ40内に設けられた容器12内の水溶液11に基板10を浸す。そして、圧力制御部41の制御部41により、チャンバ40内の雰囲気の圧力を圧力計41aに基づいて、真空ポンプ41bにより減圧する。このとき、ガラス基板10に欠陥15がある場合、第1実施形態と同様に、気泡16が発生する。すなわち、チャンバ40内の雰囲気の圧力が低下しているため、気泡16は成長が促進され、第1実施形態に比べ、気泡16は大きくなる。
まず、図5に示すように、チャンバ40内に設けられた容器12内の水溶液11に基板10を浸す。そして、圧力制御部41の制御部41により、チャンバ40内の雰囲気の圧力を圧力計41aに基づいて、真空ポンプ41bにより減圧する。このとき、ガラス基板10に欠陥15がある場合、第1実施形態と同様に、気泡16が発生する。すなわち、チャンバ40内の雰囲気の圧力が低下しているため、気泡16は成長が促進され、第1実施形態に比べ、気泡16は大きくなる。
以上より、本実施形態に係る電気光学装置用のガラス基板10の検査方法では、ガラス基板10の異物や傷等の欠陥をさらに容易に検出することが可能となる。
なお、チャンバ40内の雰囲気の圧力を低下させて、気泡16の成長を促進させたが、これに代えて、ガラス基板10に超音波による振動を付与しても、上記実施形態と同様に気泡の発生を促進させることが可能となり、異物や傷等の欠陥をさらに容易に検出することが可能となる。
なお、本実施形態の基板の検査方法を用いて、図3に示すような、ガラス基板10の表面10aに形成された薄膜31の欠陥を検出することも可能である。
また、制御部41が、チャンバ40内部の雰囲気の圧力を制御するとしたが、制御部41は、チャンバ40内の温度を上昇させるものであっても良く、この場合も、気泡の発生を促すことができる。
なお、チャンバ40内の雰囲気の圧力を低下させて、気泡16の成長を促進させたが、これに代えて、ガラス基板10に超音波による振動を付与しても、上記実施形態と同様に気泡の発生を促進させることが可能となり、異物や傷等の欠陥をさらに容易に検出することが可能となる。
なお、本実施形態の基板の検査方法を用いて、図3に示すような、ガラス基板10の表面10aに形成された薄膜31の欠陥を検出することも可能である。
また、制御部41が、チャンバ40内部の雰囲気の圧力を制御するとしたが、制御部41は、チャンバ40内の温度を上昇させるものであっても良く、この場合も、気泡の発生を促すことができる。
[第3実施形態]
次に、本発明に係る第3実施形態について、図6から図8を参照して説明する。
本実施形態では、上記電気光学装置用のガラス基板10の検査方法を応用した技術として、本発明の電気光学装置の製造方法を説明する。
この電気光学装置の製造方法は、ガラスからなるTFTアレイ基板(基板)とカラーフィルタ基板(基板)との間に液晶が挟持されてなる液晶表示装置の製造方法である。
まず、液晶表示装置について説明する。図6は液晶表示装置について、各構成要素とともに示す対向基板側から見た平面図であり、図7は図6のH−H’線に沿う断面図である。
次に、本発明に係る第3実施形態について、図6から図8を参照して説明する。
本実施形態では、上記電気光学装置用のガラス基板10の検査方法を応用した技術として、本発明の電気光学装置の製造方法を説明する。
この電気光学装置の製造方法は、ガラスからなるTFTアレイ基板(基板)とカラーフィルタ基板(基板)との間に液晶が挟持されてなる液晶表示装置の製造方法である。
まず、液晶表示装置について説明する。図6は液晶表示装置について、各構成要素とともに示す対向基板側から見た平面図であり、図7は図6のH−H’線に沿う断面図である。
図6及び図7において、液晶表示装置50は、対をなすTFTアレイ基板51と対向基板52とが封止材であるシール材55によって貼り合わされたものである。また、図7に示すようにTFTアレイ基板51及び対向基板52には、それぞれの内面にITO等からなる電極61、62が形成されており、これら電極61、62を覆って配向膜66,67がそれぞれ形成されている。シール材55は、基板面内の領域において閉ざされた枠状に形成されており、このシール材55によって区画された領域内には、液晶56が封入、保持(挟持)されている。
シール材55の形成領域の内側の領域には、図6に示すように遮光性材料からなる周辺見切り57が形成されている。シール材55の外側の領域には、データ線駆動回路101及び実装端子102がTFTアレイ基板51の一辺に沿って形成されており、この一辺に隣接する2辺に沿って走査線駆動回路104が形成されている。TFTアレイ基板51の残る一辺には、画像表示領域の両側に設けられた走査線駆動回路104の間を接続するための複数の配線105が設けられている。また、対向基板52のコーナー部の少なくとも1箇所においては、TFTアレイ基板51と対向基板52との間で電気的導通をとるための基板間導通材106が配設されている。
このような構成からなる液晶表示装置50を製造するには、図8のフローにしたがって、各製造工程を行う。
まず、TFTアレイ基板51及び対向基板52を用意する(S1)。次に、TFTアレイ基板51及び対向基板52の検査を行う。このTFTアレイ基板51及び対向基板52の検査方法は、上述した第1実施形態あるいは第2実施形態の本発明の電気光学装置用基板の検査方法を用いる(S2)。すなわち、TFTアレイ基板51及び対向基板52を水溶液11に浸し、気泡16の発生の有無を観察装置20により観察する。TFTアレイ基板51,対向基板52から気泡16が発生した場合、TFTアレイ基板51,対向基板52内に異物が付着しているか、表面に傷等の欠陥が生じていることになる。このようにして、TFTアレイ基板51,対向基板52が良品であるか不良品であるかを判定し、良品の基板のみを次工程に送る。
まず、TFTアレイ基板51及び対向基板52を用意する(S1)。次に、TFTアレイ基板51及び対向基板52の検査を行う。このTFTアレイ基板51及び対向基板52の検査方法は、上述した第1実施形態あるいは第2実施形態の本発明の電気光学装置用基板の検査方法を用いる(S2)。すなわち、TFTアレイ基板51及び対向基板52を水溶液11に浸し、気泡16の発生の有無を観察装置20により観察する。TFTアレイ基板51,対向基板52から気泡16が発生した場合、TFTアレイ基板51,対向基板52内に異物が付着しているか、表面に傷等の欠陥が生じていることになる。このようにして、TFTアレイ基板51,対向基板52が良品であるか不良品であるかを判定し、良品の基板のみを次工程に送る。
次いで、TFTアレイ基板51上に絶縁膜(SiO2)を形成し(薄膜形成工程:S3)、この絶縁膜上にアモルファスシリコンからなる半導体膜(薄膜形成工程:S4)を形成する。さらに、半導体膜にレーザ光を照射しポリシリコン膜(薄膜形成工程:S5)に結晶化する。そして、TFTアレイ基板51には、前記のデータ線駆動回路101や走査線駆動回路104、電極61を形成し、対向基板52には、カラーフィルタ(図示略)及びカラーフィルタ上に電極(透明電極)62を形成する。
次に、それぞれのTFTアレイ基板51及び対向基板52の内面に、ポリイミドを用いて配向膜66,67を形成した後(S6)、ラビング処理を行う。このようにして、TFTアレイ基板51及び対向基板52とを用意した後、これら基板51,52をシール材55によって接合・接着するとともに、このシール材55によって区画された領域内に液晶56を封入し基板51,52間に挟持させることにより、液晶パネル50を組み立てる(S7)。
以上より、本実施形態に係る電気光学装置の製造方法では、上述した基板の検査方法を用いることにより、基板51,52の欠陥を容易に検出することが可能となる。また、まず初めに、TFTアレイ基板51及び対向基板52を検査することにより、状態が良好な基板51,52を用いて液晶表示装置50を組み立てることが可能になり、基板51,52の状態に起因する液晶表示装置50の不良の発生を抑えることができる。
なお、TFTアレイ基板51及び対向基板52を準備した後工程において、基板51,52の検査を行ったが、薄膜形成工程(S3,S4,S5)の後工程にも基板51,52の検査を行っても良い。すなわち、基板51上の薄膜(絶縁膜,半導体膜,ポリシリコン膜)の検査を行うことにより、これら薄膜の状態に起因する液晶表示装置50の不良が発生数を抑えることができるため、歩留まりを向上させることが可能となる。
なお、TFTアレイ基板51及び対向基板52を準備した後工程において、基板51,52の検査を行ったが、薄膜形成工程(S3,S4,S5)の後工程にも基板51,52の検査を行っても良い。すなわち、基板51上の薄膜(絶縁膜,半導体膜,ポリシリコン膜)の検査を行うことにより、これら薄膜の状態に起因する液晶表示装置50の不良が発生数を抑えることができるため、歩留まりを向上させることが可能となる。
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、第1,第2,第3実施形態において、電気光学装置のガラス基板10として、液晶表示装置に用いられるガラス基板10の検査方法について説明したが、これに限らず、例えば、有機EL(エレクトロルミネッセンス)装置に用いられるガラス基板やガラス基板上に形成されたシリコン酸化膜を検査することも可能である。
また、ガス濃度が高いほど、より低減圧で気泡の発生を促進することができる。なお、ここで言う低減圧とは、減圧の最小値が水の蒸気圧(25℃、23.7mmHg)以上であることが好ましい。すなわち、これ以上の減圧を行うと、水の蒸発が加速され、チャンバ内の雰囲気の維持が困難になってしまうためである。
例えば、第1,第2,第3実施形態において、電気光学装置のガラス基板10として、液晶表示装置に用いられるガラス基板10の検査方法について説明したが、これに限らず、例えば、有機EL(エレクトロルミネッセンス)装置に用いられるガラス基板やガラス基板上に形成されたシリコン酸化膜を検査することも可能である。
また、ガス濃度が高いほど、より低減圧で気泡の発生を促進することができる。なお、ここで言う低減圧とは、減圧の最小値が水の蒸気圧(25℃、23.7mmHg)以上であることが好ましい。すなわち、これ以上の減圧を行うと、水の蒸発が加速され、チャンバ内の雰囲気の維持が困難になってしまうためである。
10…ガラス基板(基板)、11…水溶液、15,32…欠陥、16,33…気泡、31…薄膜、40…チャンバ(検査装置)、41…圧力制御部(検査装置)、50…液晶表示装置(電気光学装置)
Claims (6)
- 電気光学装置に用いられる基板の欠陥を検出する電気光学装置用基板の検査方法であって、
溶媒にガスを溶解させた溶液に前記基板を浸し、前記基板の表面から気泡の発生状態を観察することにより前記欠陥を検出することを特徴とする電気光学装置用基板の検査方法。 - 前記基板を収納するチャンバと、
該チャンバ内の雰囲気を制御する制御部とを備えた検査装置を用い、
前記基板を前記溶液に浸した際、前記制御部によりチャンバ内の雰囲気を制御することを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置用基板の検査方法。 - 前記基板を前記溶液に浸した際、前記基板に超音波による振動を付与することを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置用基板の検査方法。
- 一対の基板のうち一方の基板上に薄膜を形成する薄膜形成工程と、
前記一対の基板を貼り合せる貼合せ工程とを備えた電気光学装置の製造方法であって、
前記一方の基板を請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の電気光学装置用基板の検査方法により検査する検査工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 前記検査工程が、前記薄膜形成工程の前に行われることを特徴とする請求項4に記載の電気光学装置の製造方法。
- 前記検査工程が、前記薄膜形成工程と前記貼合せ工程との間に行われることを特徴とする請求項5に記載の電気光学装置の製造方法。
Priority Applications (1)
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JP2006016057A JP2007198826A (ja) | 2006-01-25 | 2006-01-25 | 電気光学装置用基板の検査方法及び電気光学装置の製造方法 |
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---|---|---|---|---|
JP2009115580A (ja) * | 2007-11-06 | 2009-05-28 | Kirin Techno-System Co Ltd | ボトルの残液検査装置 |
KR20200110089A (ko) * | 2019-03-15 | 2020-09-23 | 한국세라믹기술원 | 기포 검출 방식의 렌즈 모듈의 고장 검출 방법 |
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2006
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JP2009115580A (ja) * | 2007-11-06 | 2009-05-28 | Kirin Techno-System Co Ltd | ボトルの残液検査装置 |
KR20200110089A (ko) * | 2019-03-15 | 2020-09-23 | 한국세라믹기술원 | 기포 검출 방식의 렌즈 모듈의 고장 검출 방법 |
KR102181704B1 (ko) * | 2019-03-15 | 2020-11-24 | 한국세라믹기술원 | 기포 검출 방식의 렌즈 모듈의 고장 검출 방법 |
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