JPH045566A - 薄層クロマトプレートの水平展開方法及び転写方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はガラスなどの支持プレート上に固定相が展着さ
れた薄層クロマトプレートに試料を展開させる方法と、
そのような薄層クロマトプレートに展開された試料スポ
ットを赤外分光分析法により分析するのに好都合な媒体
に転写する方法に関するものである。

（従来の技術） 薄層クロマトグラフィでは、薄層クロマトプレートの端
部に試料がつけられ、展開溶媒がその端部から他端に向
かって移動することにより試料が面内方向に展開されて
試料スポットが形成される。

試料を展開させるには、試料がつけられた薄層クロマト
プレートが、その試料側の端部が展開槽の展開溶媒に浸
されて展開槽内にほぼ垂直方向に立てられる。

それに対し、薄層クロマトプレートを水平方向において
展開させる方法も試みられている。１つの方法は、固定
相が上向きになるように薄層クロマトプレートが水平方
向に保持され、所定の位置に展開溶媒が滴下させられて
試料が展開させられる。

他の水平展開方法では、固定相が下向きになるように薄
層クロマトプレートが水平方向に支持され、両端部がガ
ラス板で挾まれてそのガラス板の下部が展開溶媒に浸さ
れ、展開溶媒が毛細管現象により両端部のガラス板をっ
たって固定相に到達し、固定相中を移動して試料を展開
させる。

展開した試料スポットを検出するには光学的手段を用い
るのが一般的であるが、薄層クロマトプレートに展開さ
れた成分をフーリエ変換赤外分光分析法（ＦＴ　Ｉ　Ｒ
）によって分析する試みもなされている。ＦＴＩＲで分
析するには、展開した試料スポットにそのまま赤外線を
絞って照射し、拡散反射スペクトルを測定する方法（Ａ
ｎａｌ、　Ｃｈｅｍ。

１９８９、６１．６１５−６１８参照）、分画部分をか
き取って抽出した後、ＫＢｒやＫＣＱの粉末ペレット上
に滴下し、乾燥させた後にＦＴＩＲで測定する方法（Ａ
ｎａｌ、　Ｃｈｅｍ、　１９８７．５９．４１５−４１
８参照）、薄層クロマトプレートの端部に赤外非吸収物
質の粉末を置いて薄層プレートからその粉末へガラスフ
ァイバを経て試料スポット成分を転写させる方法（Ａｎ
ａｌ、　Ｃｈｅｗ、　肥８６．５８．２７０８−２７１
４参照）などが試みられている。

（発明が解決しようとする課題） 薄層プレートを水平方向に保持して試料を展開させるの
に、展開溶媒を滴下させる方法は、手間がかかる欠点が
ある。

固定相を下向きに保持して展開させる方法では、固定相
を傷めやすい欠点がある。

ＦＴＩＲ測定のために、薄層クロマトプレートに赤外線
を直接光てる方法は、薄層クロマトプレートの固定相の
赤外吸収が大きいため、実用性に乏しい。

試料スポットをかき取って抽出し、ＫＢｒやＫＣＱの粉
末ペレット上に滴下してＦＴＩＲ測定する方法は、試料
が損失したり、分解したり、汚染されるなど不正確であ
る上に、手間がかかって面倒である。

薄層プレートの端部でガラスファイバを用いて分画成分
を転写する方法では、端部に設けられるガラスファイバ
のピッチによって展開方向の分解能が決まる。

本発明は薄層クロマトプレートを水平方向において効率
よく試料を展開させる方法を提供することを目的とする
ものである。

また、本発明は試料スポットの赤外分光分析を行なう際
に、試料スポットのかき取りを行なわず、薄層クロマト
プレートに展開されたスポットを赤外非吸収物質粉末層
に転写することにより、正確な赤外分光分析を行なうこ
とができるようにすることを目的とするものである。

（課題を解決するための手段） 本発明の展開方法では、展開溶媒が入れられて密閉され
る展開槽中で、支持プレート上に固定相が展着された薄
層クロマトプレートを支持台により固定相が上面になる
ように水平方向に支持し、試料がつけられた端部を支持
する支持台は多孔質性とし、その多孔質性支持台を薄層
クロマトプレートの固定相と接触させるとともに、その
多孔質性支持台の下部を展開溶媒に浸し、展開溶媒をそ
の多孔質性支持台を経て固定相へ移動させて試料を展開
させる。

本発明の転写方法では、支持プレート上に固定相が展着
され固定相に試料が一次元展開された薄層クロマトプレ
ートと、スリット状の穴に赤外非吸収物質粉末が充填さ
れた転写枠とを前記赤外非吸収物質粉末層が前記薄層ク
ロマトプレートの試料スポットと密着するように重ね、
前記薄層クロマトプレートの試料スポット展開方向と平
行な２辺を多孔質性支持台により固定相と接触させて支
持し、かつ、これらの多孔質性支持台の下部を転写溶媒
に浸し、転写溶媒を前記支持台を経て固定相から赤外非
吸収物質粉末層へ移動させ、赤外非吸収物質粉末層表面
から揮散させて薄層クロマトプレート中の試料を赤外非
吸収物質粉末層に転写させる。

（作用） 本発明の展開方法においては、多孔質性支持台が展開溶
媒を吸い上げ、その多孔質支持台から薄層クロマトプレ
ートの固定相に展開溶媒が移動し、展開溶媒がそのプレ
ートの一端部から他端部に向かって移動していくことに
より、その一端部近傍につけられた試料が展開されてい
く。

本発明の転写方法においては、多孔質性支持台が転写溶
媒を吸い上げ、その多孔質性支持台から薄層クロマトプ
レートの固定相に転写溶媒が移動し、さらに固定相から
赤外非吸収物質粉末層へ転写溶媒が移動して赤外非吸収
物質粉末層表面から揮散することにより、薄層クロマト
プレート中の試料スポットが転写溶媒の移動に伴って赤
外非吸収物質粉末層に移動し、転写が行なわれる。

赤外非吸収物質粉末が転写枠のスリット状の穴に充填さ
れているので、展開方向に沿って並んだ複数個の試料ス
ポットを同時に赤外非吸収物質粉末層に転写することが
でき、その転写後の赤外非吸収物質粉末層を試料として
拡散反射法でＦＴＩＲ測定を行なえば、クロマトグラム
を得ることができる。このとき、スリットの幅を試料ス
ポットの大きさに対応した大きさに設定しておけば、転
写の際に試料がスリット幅方向に広がることが防止され
る。

（実施例） 第１図は本発明の水平展開方法の一実施例を表わしてい
る。第２図は第１図における薄層クロマトプレートと支
持台を表わす平面図である。

２は底の浅い展開槽であり、内部には展開溶媒４が入れ
られ、蓋６により展開槽２内が密閉できるようになって
いる。展開槽２内には多孔質性支持台８と非多孔質性支
持台１０が対向して設けられ、それらの支持台８，１０
の下部は展開溶媒４に浸されている。支持台８，１０に
は薄層クロマトプレートを支持する凹部が水平方向に延
びて形成されており、それらの凹部に挾まれて固定相が
上向きになるように薄層クロマトプレート１２が水平方
向に支持されている。多孔質性支持台８側では固定相１
６と支持台８が接触している。固定相１６には多孔質性
支持台８と接触する端部側に試料１８がつけられている
。

薄層クロマトプレート１２は厚さが例えば１〜３ｍｍの
支持プレート１４上に吸着剤が固定相１６として厚さが
例えば０．２〜０．５ｍｍ程度に展着されたものである
。薄層クロマトプレート１２は既存のものを用いること
ができる。例えば支持プレート１４はガラス、プラスチ
ック又はアルミニウムなどであり、固定相１６はシリカ
ゲル、アルミナなどである。展開溶媒４も既存のもので
あり、一般には低沸点溶媒で試料の極性に適応した極性
のもので、溶出力の強いものであり、例えばメタノール
やクロロホルムなどである。多孔質性支持台８の材質は
、溶媒を吸い上げる性質の強い材質であり、例えば多孔
質性セラミックス、ガラスフィルタ、紙、布などである
。

次に１本実施例の動作について説明する。

第１図に示されるように、試料がつけられた薄層クロマ
トプレート１２を支持台８，１０で支持して展開槽２内
に置き、展開溶媒４を入れて蓋６を被せる。支持台８が
展開溶媒４を吸い上げ、固定相１６に展開溶媒４がしみ
込んでいく。展開溶媒４が第２図で矢印で示される方向
に移動することにより、試料１８が水平方向に展開され
ていく。

展開槽２は蓋６により密閉されているので、展開槽２内
の空間が展開溶媒４の蒸気により飽和状態となり、固定
相１６での展開が効率よく行なわれる。

展開槽２の空間の容積が小さい程飽和状態になりやすい
ので、展開槽２の深さを蓋６が支持台８゜１０と接近す
る程度に浅くしておくのが好ましい。

また、展開槽２の底部に適当な大きさのブロックを置く
ことにより、必要な展開溶媒４の量を少なくすることが
できる。

第１図及び第２図の実施例では、一方の支持台８のみを
多孔質性としているが、両方の支持台８゜１０をともに
多孔質性とすれば、薄層クロマトプレート１２の両端か
らの展開が可能となる。例えば、ＨＰＴＬＣなどで展開
距離が短かくても分離できる試料の場合には、支持台と
接触している両端部に試料をつけることにより、薄層ク
ロマトプレート１２を２倍に使用することができ、薄層
クロマトプレートを節約することができる。

第３図及び第４図は本発明の転写方法の一実施例を表わ
す図である。第３図は薄層プレートと転写枠を示す分解
斜視図、第４図は支持台の下部を転写溶媒に浸して転写
を行なっている状態を表わす断面図であり、第４図は第
３図におけるＡ−Ａ′位置で切断した状態で示されてい
る。

２０は試料が一次元展開された薄層クロマトプレートで
あり、支持プレート２２上に固定相２４が展着され、固
定相２４には試料が展開された試料スポット２６が存在
している。

２８は転写枠であり、スリット状の穴が開けられ、その
穴には赤外非吸収物質粉末３０が高密度に、かつ、均一
に充填されている。赤外非吸収物質粉末３ｏが充填され
ているスリット状穴は、幅が試料スポット２６より少し
小さ目であり、長さが展開方向に並んだ全ての試料スポ
ット２６を含む長さに形成されている。試料スポット２
６の大きさは５〜１０ｍｍ程度であるので、スリット状
穴の幅は数ｍｍ程度が適当である。３２は穴の開けられ
ていないプレートである。転写枠２８が薄層クロマトプ
レート２０の固定相側になり、かつ、赤外非吸収物質粉
末３０が充填された穴が試料スポット２６上にくるよう
に位置決めされ、薄層クロマトプレート２０の裏側には
プレート３２を置いて、転写枠２８とプレート３２の間
にスペーサ３４．３４を挾んで挾み具合を調整しながら
、試料スポット２６が赤外非吸収物質粉末３０の下にく
るようにネジ３６．３６で固定されている。転写枠２８
の赤外非吸収物質粉末３０は転写枠２８を薄層クロマト
プレート２ｏに固定した後に穴に充填してもよく、予め
赤外非吸収物質粉末３０を充填した転写枠２８を薄層ク
ロマトプレート２０に固定するようにしてもよい。

このように、薄層クロマトプレート２ｏに転写枠２８を
固定し、転写枠２８の穴に赤外非吸収物質粉末３０が充
填された状態のものを、第４図に示されるように、多孔
質性支持台３８．４０で転写枠２８が上向きになるよう
に水平方向に支持する。支持台３８．４０には薄層クロ
マトプレート２０を水平方向に支持し、かつ、固定相２
４と接触するように水平方向に延びる凹部が形成されて
いる。支持台３８．４０の下部を容器４２に入れられた
転写溶媒４４に浸す。

薄層クロマトプレート２０は第１図の薄層クロマトプレ
ート１２と同じものとし、多孔質支持台３８．４０も第
１図の支持台８と同じものとすることができる。また、
転写溶媒４４は第１図における展開溶媒４と同じものと
することができる。

赤外非吸収物質粉末３ｏとしてはＫＢｒやＫＣＱなどの
粉末状のものを用いることができる。

次に、第５図により本実施例の動作を説明する。

転写溶媒４４は矢印で示されるように、支持台３８．４
０により吸い上げられて上昇し、固定相２４にしみ込ん
でいき、赤外非吸収物質粉末層３０を通って赤外非吸収
物質粉末層３０の表面から揮散する。このとき薄層クロ
マトプレート２０の固定相２４に展開していた試料スポ
ット２６は転写溶媒４４の移動に従って赤外非吸収物質
粉末層３ｏに移動し、転写される。

試料スポット２６の転写後、赤外非吸収物質粉末層３０
を拡散反射法によりＦＴＩＲで測定すれば、連続的なＩ
Ｒクロマトグラムを得ることができ、また、分解能の高
いＩＲスペクトルを得ることができる。

転写の際、転写枠２８の穴のスリット帳を試料スポット
２６のサイズより小さくしておけば、スリット幅方向に
対する転写溶媒の移動方向を規制することができて、試
料スポットが拡散するのを防止することができる。

転写の際には転写溶媒を入れる容器は密閉せず、例えば
赤外非吸収物質粉末層３０の表面に温風を吹きつけると
転写溶媒の揮散が促進されて転写速度が速められる。

（発明の効果） 本発明の展開方法では、多孔質支持台を用いて展開溶媒
を導き、水平方向に展開させることができるので、展開
溶媒を滴下したり濾紙など不安定なものを用いて展開溶
媒を導く方法に比べて、安定して効率よく展開させるこ
とができる。また、固定相を上向きに設置できるので、
下向きに設置するのに比べて固定相を傷めることがない
。

本発明の転写方法では、赤外非吸収物質粉末を充填した
転写枠を薄層クロマトプレート上に重ね、多孔質性支持
台を用いて転写溶媒を導き、薄層クロマトプレートから
赤外非吸収物質粉末層に試料スポットを転写させるよう
にしたので、固定相などの不純物の影響を受けることな
く、拡散反射法によって赤外クロマトグラムや赤外吸収
スペクトルを測定することができる。

本発明の転写方法は操作が簡単であり、手間が少なくて
短時間に行なうことができる。

転写の際、転写枠の穴のスリット幅を試料スポットのサ
イズより小さくすれば、試料スポットの拡散を防止し、
転写と同時に濃縮も行なうことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の水平展開方法の一実施例を示す垂直断
面図、第２図は第１図における薄層クロマトプレートと
支持台を示す平面図、第３図は本発明の転写方法の一実
施例における薄層プレートと転写枠を示す分解斜視図、
第４図は転写方法の一実施例を示す垂直断面図で、第３
図におけるＡ−Ａ’線位置で切断した状態で示されてい
る。第５図は転写動作を示す垂直断面図である。 ２・・・・・展開槽、４・・・・・・展開溶媒、６・・
・・・・蓋、８゜３８．４０・・・・・・多孔質性支持
台、１２．２０・・・・・薄層クロマトプレート、１４
．２２・・・・・・支持プレート、１６．２４・・・・
・・固定相、１８・・・・・・試料、２６・・・・・・
試料スポット、２８・・・・・・転写枠、３０・・・・
・・赤外非吸収物質粉末、４４・・・・・・転写溶媒。 特許出願人　株式会社島津製作所

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）展開溶媒が入れられて密閉される展開槽中で、支
   持プレート上に固定相が展着された薄層クロマトプレー
   トを支持台により固定相が上面になるように水平方向に
   支持し、試料がつけられた端部を支持する支持台は多孔
   質性とし、その多孔質性支持台を薄層クロマトプレート
   の固定相と接触させるとともに、その多孔質性支持台の
   下部を展開溶媒に浸し、展開溶媒をその多孔質性支持台
   を経て固定相へ移動させる薄層クロマトプレートの水平
   展開方法。
2. （２）支持プレート上に固定相が展着され固定相に試料
   が一次元展開された薄層クロマトプレートと、スリット
   状の穴に赤外非吸収物質粉末が充填された転写枠とを前
   記赤外非吸収物質粉末層が前記薄層クロマトプレートの
   試料スポットと密着するように重ね、前記薄層クロマト
   プレートの試料スポット展開方向と平行な２辺を多孔質
   性支持台により固定相と接触させて支持し、かつ、これ
   らの多孔質性支持台の下部を転写溶媒に浸し、転写溶媒
   を前記支持台を経て固定相から赤外非吸収物質粉末層へ
   移動させ、赤外非吸収物質粉末層表面から揮散させる転
   写方法。