JPH03115973A - クロマトグラフの転写装置 - Google Patents

クロマトグラフの転写装置

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JPH03115973A
JPH03115973A JP25577589A JP25577589A JPH03115973A JP H03115973 A JPH03115973 A JP H03115973A JP 25577589 A JP25577589 A JP 25577589A JP 25577589 A JP25577589 A JP 25577589A JP H03115973 A JPH03115973 A JP H03115973A
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JP
Japan
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plate
thin layer
layer plate
transfer
eluent
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JP25577589A
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English (en)
Inventor
Kiyoshi Wada
潔 和田
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Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
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Publication date
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  • Treatment Of Liquids With Adsorbents In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は薄層クロマトグラフィ(TLC)やペーパーク
ロマトグラフィにおいて、′II1.Mクロマトグラフ
ィのプレートやペーパークロマトグラフィのペーパー(
これらを総称して薄層プレートという)に展開された試
料スポットを赤外分光分析法により分析するのに好都合
な媒体に転写する装置に関するものである。
(従来の技術) wIMクロマトグラフィーで用いるプレートとしては、
一般にガラス基板やアルミニウムシート上にシリカゲル
を塗布したものが用いられている。
ペーパークロマトグラフィーでは濾紙が用いられる。試
料は溶離液によってシリカゲル層や濾紙の面内方向に展
開され、試料スポットを形成する。
薄層プレートに展開された成分をフーリエ変換赤外分光
分析法(FT I R)によって分析する試みもなされ
ている。F T I Rで分析するには、展開した試料
スポットにそのまま赤外線を絞って照射し、拡散反射ス
ペクトルを測定する方法(Anal、。
Cham、1989..61,615−618参照)1
分画部分をかき取って抽出した後、KBrやに、CQの
粉末ペレット上に滴下し、乾燥させた後にFTIRで測
定する方法(Anal、Chem、1987,59,4
15−418参照)、薄層プレートの端部に赤外非吸収
物質の粉末を置いて8Mプレートからその粉末へガラス
ファイバを経てスポット成分を転写させる方法(Ana
l、Chem、I986.58.2708−2714参
照)などが試みられている。
(発明が解決しようとする課題) FTIRilll定のために、薄層プレートに赤外線を
直接当てる方法は、薄層プレートの固定相のシリカゲル
やペーパーでの赤外吸収が大きいため。
実用性に乏しい。
試料スポットをかき取って抽出し、KErやKCQの粉
末ペレット」二に滴下してFTIR測定する方法は、試
料が損失したり、分解したり、汚染されるなど不正確で
ある上に、手間がかかって面倒である。
薄層プレートの端部でガラスファイバを用いて分画成分
を転写する方法では、端部に設けられるガラスファイバ
のピッチによって展開方向の分解能が決まるうえ、−次
元に展開された薄層プレートにしか適用することができ
ない。
本発明者らは、試料スポットの赤外分光分析を行なう際
に、試料スポットのかき取りを行なわず、薄層プレート
に展開されたスポットを赤外非吸収物質に転写すること
により、正確な赤外分光分析を行なうことができるよう
にする方法を既に提案している(特開平]、、 −19
9706号)。
本発明は」−記転写方法を実現するために、正確で、自
動的に転写することのできる装置を提供することを目的
とするものである。
(課題を解決するための手段) 本発明は、穴に充填された赤外非吸収物質をもち、試料
スポットが展開されているamプレートを前記赤外非吸
収物質に接触させて固定する転写枠と、一部が溶離液に
浸された多孔質物質板と、前記薄層プレートが前記多孔
質物質板と接触した状態から予め設定された時間後に前
記薄層プレートを前記多孔質物質板から離す解除機構と
を備えている。
(作用) 試料が展開され分離された薄層プレートの一方の面に赤
外非吸収物質を密着させておき、N/!プレートの他方
の側から溶離液を毛管現象で赤外非吸収物質のある側へ
移動させると1分離酸分が赤外非吸収物質の方向へ移動
して転写される。
分離成分を赤外非吸収物質に転写する時間を予め設定し
ておくと、その時間の経過後に解除機構が転写枠と薄層
プレートとを多孔質物質板から離す。これにより、多孔
質物質板から薄層プレート及び赤外非吸収物質への溶離
液の供給が絶たれ、薄層プレートと赤外非吸収物質に含
まれている溶離液は揮散する。
(実施例) 第1図は一実施例を示す概略構成図、第2図は第1図の
A−A ’線位置での断面図、第3図は薄層プレートを
固定している転写枠を表わす斜視図である。
2は容器で、その中には溶離液4が入れられ、溶離液4
には多孔質物質板6がその一部が浸るように入れられて
いる。多孔質物質板4としては、例えばガラスフィルタ
材、セラミック基板、高分子材料、ペーパー又は布のよ
うな溶液浸透性のある材質のものを用いる。溶離液6と
しては種々の溶媒を用いることができるが、溶出力が強
く、低沸点のものが好ましい。そのような溶媒としては
例えばクロロホルムを用いることができる。
8は転写枠であり、転写枠8には穴があけられ、その穴
には赤外非吸収物質10が高密度に、かつ、均一に充填
されている。転写枠8の穴は薄層プレートに展開された
試料スポットの大きさよりも少し小さめの幅をもち、複
数個の試料スポットを含むスリット状に形成さ九でいる
。試料スポットの大きさは5〜10mm程度であるので
、転写枠8のスリット状穴の幅は数mm程度が適当であ
る。
赤外非吸収物質10としてばKBrやKCQなどの粉末
状のものを用いる。14は支持枠であり。
支持枠14にも転写枠8と同様の、ただし少し大きめの
穴があけられている。転写枠8と支持枠14の間には薄
層プレート12が挾まれ、転写枠8と支持枠14は両端
部がねじ16で互いに固定されることにより、薄層プレ
ート12が転写枠8と支持枠14の間に挾み込まれて固
定され、転写枠8の穴に充填された赤外非吸収物質10
と薄層プレート12が密着する。
薄層プレート12は薄層クロマトグラフィーの一 プレートであって、支持材を用いないプレートである。
そのような薄層プレートとしてはEmpore TLc
シート(Analytichem IntOrnati
onal、Inc、社の商品)やガラス焼結プレート、
セラミックスプレートなどを用いることができる。%’
1Mプレート12としてはまた。ペーパークロマトグラ
フィー用ペーパーを用いることもできる。薄層プレー1
・12にはすでに試料が展開されてスポットが存在して
いる。
薄層プレート12を転写枠8と支持枠14で挾み込んだ
状態で多孔質物質板6と薄層プレート12とを接触させ
るために、多孔質物質板6の表面には支持枠14の穴に
入って薄層プレー1〜12と接触する隆起部6aが形成
されている。
転写枠8と支持枠14の両端部には糸20で吊るすため
に支持部材18が嵌め込まれ、支持部材18に糸20が
取りつけられている。薄層プレート12を挾み込んだ転
写枠8と支持枠14の両端の支持部材18に取りつけら
れた糸20は、第」図に示されるように、プーリ22を
経て5モーター7= 24の回転軸に取りつけられたプーリ2Gにより巻き取
られるようになっている。
28はモータ24の駆動装置、3oはタイマであり、タ
イマ30には任意の時間を設定することができる。駆動
装置28はタイマ30に設定された時間の経過後にモー
タ24を駆動させ、糸24を巻き取る。
多孔質物質板6の」1方にはファンヒータ31が設けら
れており、ファンヒータ31は多孔質物質板6上にある
転写枠の赤外非吸収物質10に対しても、また、転写枠
が引き上げられた位置8aにあるときの赤外非吸収物質
10に対しても温風32を吹きつけることができる。
34はカバーであり、容器2.多孔質物質板6、薄層プ
レート12を挾み込んだ転写枠8と支持枠14、及びフ
ァンヒータ31を被っており、溶離液4の蒸気が作業者
のいる環境へ漏れださないようにしている。
次に1本実施例の動作について説明する。
第3図のように、赤外非吸収物質10を穴に充填した転
写枠8と穴のおいている支持枠14とで薄層プレー1〜
12を挾み込んで固定する。これを第2図に示されるよ
うに、薄層プレート12が多孔質物質板6の表面と接触
する状態に置く。タイマ30には転写に必要な時間を設
定する。ファンヒータ31を作動させて赤外非吸収物質
10の表面に温風32を供給する。この状態で溶離液4
が多孔質物質板6を通り、薄層プレート12中を上昇し
て赤外非吸収物質]−〇に至り、その表面から揮散する
。このとき、薄層プレート12中の試料成分は溶離液4
の移動にともなって上方に移動し、赤外非吸収物質10
に転写される。赤外非吸収物質10の表面には温風32
が吹きつけられているので、溶離液の揮散が促進され、
速やかに転写が行なわれる。
赤外非吸収物質が転写枠のスリット状の穴に充填されて
いるので、展開方向に沿って並んだ複数個の試料スポッ
トを同時に赤外非吸収物質に転写することができ、その
転写後の赤外非吸収物質を試料として拡散反射法でFT
IR測定を行なえば、クロマトグラムを得ることができ
る。このとき、スリットの幅が試料スポットの大きさに
対応した大きさであるので、転写の際に試料がスリット
幅方向に広がることが防止される。
タイマ30に設定した時間になると、駆動装置28が働
いてモータ24を作動させ、糸20を巻き取ることによ
り薄層プレー1〜j2は転写枠8及び支持枠14ととも
に引き上げられ、多孔質物質板6と薄層プレート1−2
との接触状態が解除される。
ファンヒータ31からは引き上げられた状態の転写枠8
の穴の赤外非吸収物質10に温風32が吹きつけられて
溶媒が揮散し、赤外非吸収物質10が乾燥する。これに
より、薄層プレート12から赤外非吸収物質10への転
写が完了したことになる。その後、赤外非吸収物質10
を充填した状態の転写枠8を薄層プレート12から離し
、例えば拡散反射法によりFTIRで赤外スペクトルを
測定する。赤外スペクトル測定では、スリット状の穴の
長さ方向に走査することにより赤外クロマトゲラムを得
ることができる。
実施例では、カバー34を設けて溶離液の蒸気が外部に
漏れださないようにしたので、作業者が溶離液蒸気を吸
引することを少なくして作業の安全性を高めることがで
きる。
転写枠8の赤外非吸収物質を充填する穴の形状は実施例
に示されたスリット状のものには限らない。例えば穴の
形状を試料スポットサイズと同程度の大きさの円形の穴
にすることもできる。赤外非吸収物質が転写枠の円形の
穴に充填されたものであるときは、試料スポットごとに
赤外非吸収物質に転写して赤外分光分析を行なうことが
できる。
このときは、試料スポットの転写部分が穴によって規制
され、広がることが防止される。また、穴の寸法は薄層
プレートと接触する側の寸法よりもその反対側の寸法の
方を小さくすることにより、転写にともなって試料を濃
縮させることもできる。
薄層プレートから赤外非吸収物質への転写を終了させる
時間になったときに薄層プレートと多孔質物質板との接
触状態を解除する機構は、実施例1 のようにモータにより糸を巻き一■二げる機構だけでは
なく、例えばアームの先端に転写枠、薄層プレート及び
支持枠を一体化したものを取りつけ、それを多孔質物質
板との接触状態と1両者を引き離した状態の間で移動さ
せるようにしてもよい。また、転写枠、Vj層プレート
及び支持枠を一体化したものを支持しておき、予め設定
した時間になると多孔質物質板の方を下方向に移動させ
ることにより接触状態を解除するようにしてもよい。
実施例のファンヒータ31に代えて中、に風を吹きつけ
るファンにすることもできる。
(発明の効果) 本発明では支持材をもたない薄層プレートに転写枠によ
り溶離液の移動方法が規制される赤外非吸収物質を密着
させておき、溶離液を薄層プレートの下側から赤外非吸
収物質方向に移動させることにより、薄層プレート中に
展開された試料成分を赤外非吸収物質に転写するように
したので、薄層プレートに含まれる固定相などの不純物
の影響を受けることなく、拡散反射法によって赤外吸収
2 スペクトルを測定することができる。
転写時間を予め設定できるようにしたので、溶離液の種
類や転写しようとする成分によって転写時間を定めるこ
とができ、再現性良く転写を行なうことができる。
転写しようとする薄層プレートと転写枠を多孔質物質板
上にセットすると、転写から乾燥までの操作が自動的に
行なわれるので、作業者が薄層プレートに触れる機会が
少なくなり、薄層プレートが汚染されることを防ぐこと
ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は一実施例を示す概略構成図、第2図は第1図の
A−A ’線位置での断面図、第3図は薄層プレートを
固定している転写枠と支持枠を表わす斜視図である。 4・・・・・溶離液、6・・・・・多孔質物質板、8・
・・・・転写枠、10・・・・・・赤外非吸収物質、1
2・・・・・・薄層プレート、20・・・・・・紐、2
4・・・・・・モータ、28・・・・・・即動装置、3
0・・・・タイマ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)穴に充填された赤外非吸収物質をもち、試料スポ
    ットが展開されている薄層プレートを前記赤外非吸収物
    質に接触させて固定する転写枠と、一部が溶離液に浸さ
    れた多孔質物質板と、前記薄層プレートが前記多孔質物
    質板と接触した状態から予め設定された時間後に前記薄
    層プレートを前記多孔質物質板から離す解除機構とを備
    えたクロマトグラフの転写装置。
JP25577589A 1989-09-29 1989-09-29 クロマトグラフの転写装置 Pending JPH03115973A (ja)

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