JP4537367B2 - 全反射蛍光x線分析用試料点滴基板および全反射蛍光x線分析装置ならびに全反射蛍光x線分析方法 - Google Patents
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60W・4分間に設定され、電球82の放射熱により液体試料が加熱される。液体試料70は加熱乾燥されると、試料乾燥痕の形成の第1行程を示す図6、第2行程を示す図7および第3行程を示す図8に示すように液滴70が徐々に小さくなり凝縮され液滴71となり、乾燥が終了すると約2φの試料乾燥痕72が形成される。電球82に通電する電力と通電時間を30W・4分間以上に設定して加熱乾燥する場合もある。
8 乾燥手段
14 1次X線
15 全反射蛍光X線分析用試料点滴基板
15K 平面基板
16 蛍光X線
17 検出器
30 基板載置台
41 合成樹脂点滴乾燥痕
70 液体試料
72 試料乾燥痕
Claims (4)
- 液体試料を点滴乾燥させるための試料点滴基板であって、
表面が鏡面研磨され、その上に疎水性のシリコンコートまたはテフロン(登録商標)コートを施された平面基板と、
前記平面基板の表面の所定の部位に、合成樹脂を有機溶剤にて所定の濃度に溶解された合成樹脂溶液の所定量を点滴乾燥された直径1mm以下の大きさで親水性の合成樹脂点滴乾燥痕と、
を有する全反射蛍光X線分析用試料点滴基板。 - 請求項1において、
前記合成樹脂がアクリル樹脂である全反射蛍光X線分析用試料点滴基板。 - 請求項1または2に記載の全反射蛍光X線分析用試料点滴基板と、
前記全反射蛍光X線分析用試料点滴基板の合成樹脂点滴乾燥痕上に点滴された液体試料を乾燥させる乾燥手段と、
前記乾燥手段によって乾燥された試料乾燥痕に1次X線を照射するX線源と、
前記1次X線が照射される前記試料乾燥痕から発生する蛍光X線を検出する検出器と、
を有する全反射蛍光X線分析装置。 - 請求項1または2に記載の全反射蛍光X線分析用試料点滴基板の合成樹脂点滴乾燥痕上に液体試料の所定量を点滴し、
点滴された前記液体試料を乾燥させ試料乾燥痕を生成し、
前記試料乾燥痕が生成された前記蛍光X線分析用試料点滴基板を全反射蛍光X線分析装置の基板載置台にセットし、
測定を開始して前記試料乾燥痕から発生する蛍光X線の強度を測定し、
前記液体試料中に含有される成分を分析する全反射蛍光X線分析方法。
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