JPH0453Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案はスパツタリング装置の基板保持機構に
関するものである。

（従来の技術と解決すべき課題） 従来、スパツタリング装置の基板保持機構とし
て、永久磁石を利用したものがある。

しかしながら、前記形式のものでは、永久磁石
からの磁束が外部空間に漏洩する。

したがつて、この基板保持機構を、電離雰囲気
（各種プラズマ、イオンおよび電子の存在空間）
中で使用すると雰囲気に種々の影響を与えるた
め、使用できない。

また、垂直状態の回転パレツトに設けた円形開
口部に基板を保持して、この基板を自転・公転さ
せながらスパツタ処理するスパツタリング装置に
おいては、基板を回転パレツトの円形開口部に回
転自在に取り付ける必要があるが、前記基板保持
機構を用いると、構造は簡単であるが、前記理由
により採用出来なかつた。

そのため、基板の回転パレツトへの取り付け
は、基板内外周にカバーをネジ止めして、両カバ
ーで回転パレツトに取り付けるネジ止め方式や、
基板をスプリングクリツプで回転パレツトに取り
付けるスプリングクリツプ方式で採用されてい
る。

しかしながら、いずれの方式も装着は確実に行
えるが、前者にあつては脱着が面倒である。ま
た、後者にあつては基板がプラスチツク等の柔ら
かい材料であると、基板に歪みが生じやすく、か
つ、脱着時にスプリングと基板との摩擦によりダ
ストが生じやすいという問題点を有する。

したがつて、本考案は、前記永久磁石を使用す
るものの磁束の外部への漏洩を防止または軽減
し、電離雰囲気中でも使用することのできるスパ
ツタリング装置の基板保持機構を提供することを
目的とする。

（課題を解決すべき手段） 本考案は、前記目的を達成するために、垂直状
態の回転パレツトに設けた円形開口部に基板を保
持して、この基板を自転・公転させながらスパツ
タ処理するスパツタリング装置の基板保持機構に
おいて、前記基板保持機構を、前記円形開口部に
回転自在な遊嵌状態に設けた環状基体と、該環状
基体に吸着固定され、前記基板を保持する磁性材
からなる環状の被吸着体とで構成するとともに、
前記環状基体に、所定間隔をもつて並設され、互
いに磁極が逆となつた永久磁石対を少なくとも一
対設けたものである。

（実施例） 次に、本考案の実施例を図面にしたがつて説明
する。

第１図および第２図は、本考案の第１実施例を
示し、スパツタリング装置２０は、モータ等の駆
動装置２１により回転する垂直状態の回転パレツ
ト２２に設けた円形開口部２３に、本考案に係る
基板保持機構２５により基板２４を保持して、回
転パレツト２２の回転により基板２４を自転・公
転させながらスパツタ処理を行うものである。

基板保持機構２５は、基体である環状ホルダー
本体２６と、この環状ホルダー本体２６の両側に
位置して、環状ホルダー本体２６とで２枚の基板
２４を保持する被吸着体である環状カバー３２，
３２とからなる。

すなわち、環状ホルダー本体２６は、回転パレ
ツト２２の開口部２３に回転自在な遊嵌状態に配
設されるもので、その外周中央部に、前記開口部
２３よりやや小径の環状溝部２７を有する一方、
その内周中央部に前記基板２４の外径よりやや小
径の開口部２８を有する。

また、環状ホルダー本体２６の開口部２８の周
囲に両側から基板２４の外径より大径の環状段部
２９，２９が設けられ、その中間に仕切部３０が
形成されている。さらに、前記環状段部２９，２
９より外方の環状ホルダー本体２６の環状基部３
１には、所定間隔をもつて並設され、磁性が互い
に逆となつた永久磁石対３５，３５が複数対設け
てある。

一方、環状カバー３２，３２は前記環状ホルダ
ー本体２６の外側に配置されるもので、その外径
は前記回転パレツト２２の開口部２３の外径より
大きく、かつ、内周部に前記環状ホルダー本体２
６の段部２９に嵌合する環状突部３３を有する。
また、この環状突部３３には前記基板２４が嵌合
する段部３４を有する。

なお、前記環状ホルダー本体２６と環状カバー
３２とはいずれも磁性材からなる。

そして、２枚の基板２４，２４を回転パレツト
２２に装着するには、まず、環状カバー３２の段
部３４に基板２４を嵌合し、その後、環状ホルダ
ー本体２６の段部２９内に環状カバー３２の環状
突部３３を嵌合すれば、永久磁石対３５の磁力に
より環状カバー３２，３２と環状カバー本体２６
を固定するものである。

したがつて、基板２４を回転パレツト２２の開
口部２３に装着した状態では、第３図に示すよう
に、その磁束は閉ループを形成し、磁束が外部に
漏洩することがない。

第４図は、第１実施例が回転パレツト２２の開
口部２３に２枚の基板２４を装着する場合である
に対し、１枚の基板２４を装着する第２実施例を
示し、１枚の環状カバー３２で基板２４を環状ホ
ルダー本体２６に装着するもので、前記環状カバ
ー３２は基板２４の成膜側に位置させて、スパツ
タ処理に実質的に影響がある一方側（成膜側）の
みに磁束の閉ループを形成するようにしたもの
で、他の構成は第１実施例とほぼ同様のため、第
１実施例と同一部分に同一符号を付し説明を省略
する。

（考案の効果） 以上の説明で明らかなように、本考案において
は、被吸着体は磁性材からなり、かつ、基体に設
ける永久磁石対は、その磁極を逆にして所定間隔
をもつて並設されているため、被吸着体が基体に
吸着されると、その磁束は閉ループを形成するた
め外部に磁束が漏洩することがない。

したがつて、本考案に係るスパツタリング装置
の基板保持機構は、電離雰囲気中でも使用するこ
とができ、また、基板等の脱着を簡単容易に行う
ことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は本考案の第１実施例を示
し、第１図はスパツタリング装置の概略図、第２
図は基板保持機構の断面図、第３図は本考案に係
る磁石対の磁束を示す図で、第４図は第２実施例
を示す断面図である。 ２２……回転パレツト、２３……開口部、２４
……基板、２６……基体、３２……被吸着体、３
５……永久磁石対。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 垂直状態の回転パレツトに設けた円形開口部に
   基板を保持して、この基板を自転・公転させなが
   らスパツタ処理するスパツタリング装置の基板保
   持機構において、前記基板保持機構を、前記円形
   開口部に回転自在な遊嵌状態に設けた環状基体
   と、該環状基体に吸着固定され、前記基板を保持
   する磁性材からなる環状の被吸着体とで構成する
   とともに、前記環状基体に、所定間隔をもつて並
   設され、互いに磁極が逆となつた永久磁石対を少
   なくとも一対設けたことを特徴とするスパツタリ
   ング装置の基板保持機構。