JPH0447933A - ポリイミド‐金属複合フィルム - Google Patents
ポリイミド‐金属複合フィルムInfo
- Publication number
- JPH0447933A JPH0447933A JP15506790A JP15506790A JPH0447933A JP H0447933 A JPH0447933 A JP H0447933A JP 15506790 A JP15506790 A JP 15506790A JP 15506790 A JP15506790 A JP 15506790A JP H0447933 A JPH0447933 A JP H0447933A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyimide
- metal composite
- composite film
- layer
- metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000002905 metal composite material Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims abstract description 48
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims abstract description 40
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 11
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 9
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 9
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 7
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 7
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 7
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 7
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 4
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 2
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- DHRKBGDIJSRWIP-UHFFFAOYSA-N 4-(4-aminophenyl)-2,3-bis(trifluoromethyl)aniline Chemical group C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C(C(F)(F)F)=C1C(F)(F)F DHRKBGDIJSRWIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVKGJHAQGWCWDI-UHFFFAOYSA-N 4-[4-amino-2-(trifluoromethyl)phenyl]-3-(trifluoromethyl)aniline Chemical group FC(F)(F)C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1C(F)(F)F NVKGJHAQGWCWDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQMIJLIXKMKFQW-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbenzene-1,2,3,5-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C1C1=CC=CC=C1 CQMIJLIXKMKFQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ポリイミド−金属複合フィルムに係わり、特
に誘電率が小さく、更に透明性に優れたポリイミドを用
いたポリイミド−金属複合フィルムに関する。
に誘電率が小さく、更に透明性に優れたポリイミドを用
いたポリイミド−金属複合フィルムに関する。
プラスチック層と金属層からなるプラスチック−金属複
合フィルムは、種々の用途に用いられている。例えば銅
箔などの金属箔と絶縁性のプラスチックフィルムからな
るフレキシブルプリント配線板は、民生用、情報通信用
などに広く用いられている。このフレキシブルプリント
基板に用いられるプラスチック−複合フィルムには、い
くつかの性能が要求される。フレキシブルプリント基板
上に電子部品を組込む場合には、半田を用いるためフレ
キシブルプリント基板用のプラスチック−金属複合フィ
ルムには耐熱性が要求される。またフレキシブルプリン
ト基板に搭載される電子部品が高速化されてきているこ
とから、プリント基板上の配線も高速化が要求される。
合フィルムは、種々の用途に用いられている。例えば銅
箔などの金属箔と絶縁性のプラスチックフィルムからな
るフレキシブルプリント配線板は、民生用、情報通信用
などに広く用いられている。このフレキシブルプリント
基板に用いられるプラスチック−複合フィルムには、い
くつかの性能が要求される。フレキシブルプリント基板
上に電子部品を組込む場合には、半田を用いるためフレ
キシブルプリント基板用のプラスチック−金属複合フィ
ルムには耐熱性が要求される。またフレキシブルプリン
ト基板に搭載される電子部品が高速化されてきているこ
とから、プリント基板上の配線も高速化が要求される。
配線の高速化を達成するためには、フレキシブルプリン
ト基板に使用されるプラスチックの誘電率が小さいこと
が要求される。
ト基板に使用されるプラスチックの誘電率が小さいこと
が要求される。
またフレキシブルプリント基板以外の用途としては人工
衛星の外側に使用し、人工衛星内部を一定温度に保持す
る役割を持っている熱制御材料がある。この熱制御材料
に用いられるプラスチック−金属複合フィルムは、宇宙
空間で用いられるために耐熱性に優れていることが要求
されると共に、プラスチック層を通過してきた太陽光を
金属層で反射する機能が要求されることから、プラスチ
ック層には透明性が要求される。
衛星の外側に使用し、人工衛星内部を一定温度に保持す
る役割を持っている熱制御材料がある。この熱制御材料
に用いられるプラスチック−金属複合フィルムは、宇宙
空間で用いられるために耐熱性に優れていることが要求
されると共に、プラスチック層を通過してきた太陽光を
金属層で反射する機能が要求されることから、プラスチ
ック層には透明性が要求される。
プラスチック−金属複合フィルムのその他の一般的な用
途としては、静電防止、電磁波シールドを目的とした用
途がある。
途としては、静電防止、電磁波シールドを目的とした用
途がある。
このようにプラスチック−金属複合フィルムには用途に
より、耐熱性、低誘電率性、透明性が要求される。
より、耐熱性、低誘電率性、透明性が要求される。
従来のプラスチック−金属複合フィルムに用いられるプ
ラスチックとしては、主にフレキシブルプリント基板用
として価格が比較的安く、吸湿性が小さいなどの特徴を
有しているポリエステルが民生用を中心として用いられ
ている。
ラスチックとしては、主にフレキシブルプリント基板用
として価格が比較的安く、吸湿性が小さいなどの特徴を
有しているポリエステルが民生用を中心として用いられ
ている。
しかしポリエステルを用いたプラスチック−金属複合フ
ィルムは、耐熱温度が低く、200〜300℃の半田付
工程で熱収縮が起こるため種々の実装上の工夫を施さな
ければならない。これに対してプラスチック−金属複合
フィルムのプラスチックとしてポリイミドを用いた場合
は耐熱性には特に問題はないが、誘電率が比較的大きく
フレキシブルプリント基板とした時に現在要求されてい
る高速化は達成できない。また人工衛星の熱制御材料と
しては、ポリイミドの透明性が悪く、太陽光を反射する
性能に劣るという問題がある。
ィルムは、耐熱温度が低く、200〜300℃の半田付
工程で熱収縮が起こるため種々の実装上の工夫を施さな
ければならない。これに対してプラスチック−金属複合
フィルムのプラスチックとしてポリイミドを用いた場合
は耐熱性には特に問題はないが、誘電率が比較的大きく
フレキシブルプリント基板とした時に現在要求されてい
る高速化は達成できない。また人工衛星の熱制御材料と
しては、ポリイミドの透明性が悪く、太陽光を反射する
性能に劣るという問題がある。
このように従来のプラスチック−金属複合フィルム又は
ポリイミド−金属複合フィルムの中で種々の要求条件を
満足するものはない。
ポリイミド−金属複合フィルムの中で種々の要求条件を
満足するものはない。
本発明は、種々の用途に利用可能なポリイミド−金属複
合フィルムを提供することを目的とする。
合フィルムを提供することを目的とする。
本発明を概説すれば、本発明はポリイミド金属複合フィ
ルムに関する発明であって、ポリイミド層と金属層が主
構成要素であるポリイミド−金属複合フィルムにおいて
、該ポリイミド層が、下記一般式■: (式中R1は4価の有機基を示す)で表される繰返し単
位を有するポリイミド、ポリイミド共重合体、又はポリ
イミド混合物を用いることを特徴とする。
ルムに関する発明であって、ポリイミド層と金属層が主
構成要素であるポリイミド−金属複合フィルムにおいて
、該ポリイミド層が、下記一般式■: (式中R1は4価の有機基を示す)で表される繰返し単
位を有するポリイミド、ポリイミド共重合体、又はポリ
イミド混合物を用いることを特徴とする。
本発明者らは、前記の目的を達成するため、種々のポリ
イミドを製造し、それらの耐熱性、誘電率、透明性につ
いて種々検討した結果、ジアミン成分として下記式■: で表される2、2′−ビス(トリフルオロメチル)−4
,4’−ジアミノビフェニルを用いて製造したポリイミ
ド、ポリイミド共重合体、又はポリイミド混合物は、耐
熱性に優れ、誘電率が小さく、かつ透明性が良好である
ことを見出した。
イミドを製造し、それらの耐熱性、誘電率、透明性につ
いて種々検討した結果、ジアミン成分として下記式■: で表される2、2′−ビス(トリフルオロメチル)−4
,4’−ジアミノビフェニルを用いて製造したポリイミ
ド、ポリイミド共重合体、又はポリイミド混合物は、耐
熱性に優れ、誘電率が小さく、かつ透明性が良好である
ことを見出した。
以下、本発明をより詳細に説明する。
本発明に用いるポリイミド、ポリイミド共重合体、及び
ポリイミド混合物を製造する時に使用するテトラカルボ
ン酸二無水物としては、例えばピロメリット酸二無水物
、3.3’、4.4’−ベンゾフェノンテトラカルボン
酸二無水物、3.3’。
ポリイミド混合物を製造する時に使用するテトラカルボ
ン酸二無水物としては、例えばピロメリット酸二無水物
、3.3’、4.4’−ベンゾフェノンテトラカルボン
酸二無水物、3.3’。
4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2.
2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフル
オロプロパンニ無水物、トリフルオロメチルピロメリッ
ト酸二無水物、1.4−ジ(トリフルオロメチル)ピロ
メリット酸二無水物、1.4−ジ(ペンタフルオロエチ
ル)ピロメリット酸二無水物、ヘプタフル、オロプロビ
ルピロメリット酸二無水物等が挙げられる。この中でピ
ロメリット酸のベンゼン環にフルオロアルキル基を導入
した含フツ素酸二無水物であるトリフルオロメチルピロ
メリット酸二無水物、1.4−ジ(トリフルオロメチル
)ピロメリット酸二無水物、1.4−ジ(ペンタフルオ
ロエチル)ピロメリット酸二無水物、ヘプタフルオロプ
ロピルピロメリット酸二無水物等の製造方法は特願昭6
3−165056号明細書に記載されている。
2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフル
オロプロパンニ無水物、トリフルオロメチルピロメリッ
ト酸二無水物、1.4−ジ(トリフルオロメチル)ピロ
メリット酸二無水物、1.4−ジ(ペンタフルオロエチ
ル)ピロメリット酸二無水物、ヘプタフル、オロプロビ
ルピロメリット酸二無水物等が挙げられる。この中でピ
ロメリット酸のベンゼン環にフルオロアルキル基を導入
した含フツ素酸二無水物であるトリフルオロメチルピロ
メリット酸二無水物、1.4−ジ(トリフルオロメチル
)ピロメリット酸二無水物、1.4−ジ(ペンタフルオ
ロエチル)ピロメリット酸二無水物、ヘプタフルオロプ
ロピルピロメリット酸二無水物等の製造方法は特願昭6
3−165056号明細書に記載されている。
またジアミンとしては2.2′−ビス(トリフルオロメ
チル)−4,4’−ジアミノビフェニルを単独で用いる
のが好ましいが、それ以外のジアミンを併用してもよい
。その場合のジアミンとしては、3.3′−ビス(トリ
フルオロメチル)−4゜4′−ジアミノビフェニル、2
.2’−ジメチル−4゜4′−ジアミノビフェニル、3
.3’−ジメチル−4゜4′−ジアミノビフェニル、4
.4’−ジアミノ−p−テルフェニル等が挙げられる。
チル)−4,4’−ジアミノビフェニルを単独で用いる
のが好ましいが、それ以外のジアミンを併用してもよい
。その場合のジアミンとしては、3.3′−ビス(トリ
フルオロメチル)−4゜4′−ジアミノビフェニル、2
.2’−ジメチル−4゜4′−ジアミノビフェニル、3
.3’−ジメチル−4゜4′−ジアミノビフェニル、4
.4’−ジアミノ−p−テルフェニル等が挙げられる。
2.2′−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジ
アミノビフェニルの製造方法は、例えば日本化学会誌、
第1972巻、第3号、第675〜676頁(1972
)に記載されている。
アミノビフェニルの製造方法は、例えば日本化学会誌、
第1972巻、第3号、第675〜676頁(1972
)に記載されている。
本発明に使用するポリイミド、ポリイミド共重合体、及
びポリイミド混合物の前駆体であるポリアミック酸の製
造方法は、通常のポリアミック酸の製造条件と同じでよ
く、−船釣にはN−メチル−2−ピロリドン、N、N−
ジメチルアセトアミド、N、N−ジメチルホルムアミド
などの極性有機溶媒中で反応させる。本発明においては
ジアミンまたテトラカルボン酸二無水物とも単一化合物
で用いるばかりでなく、複数のジアミン、テトラカルボ
ン酸二無水物を混合して用いる場合がある。その場合は
、複数又は単一のジアミンのモル数の合計と複数又は単
一のテトラカルボン酸二無水物のモル数の合計が等しい
かほぼ等しくなるようにする。
びポリイミド混合物の前駆体であるポリアミック酸の製
造方法は、通常のポリアミック酸の製造条件と同じでよ
く、−船釣にはN−メチル−2−ピロリドン、N、N−
ジメチルアセトアミド、N、N−ジメチルホルムアミド
などの極性有機溶媒中で反応させる。本発明においては
ジアミンまたテトラカルボン酸二無水物とも単一化合物
で用いるばかりでなく、複数のジアミン、テトラカルボ
ン酸二無水物を混合して用いる場合がある。その場合は
、複数又は単一のジアミンのモル数の合計と複数又は単
一のテトラカルボン酸二無水物のモル数の合計が等しい
かほぼ等しくなるようにする。
本発明のポリイミド−金属複合フィルムの製造方法は、
一般のプラスチック−金属複合フィルム、ポリイミド−
金属複合フィルムの製造方法が使用できる。例えば金属
箔上にワニス状のポリイミド樹脂又はポリイミドの前駆
体であるポリアミック酸樹脂をコーティングし、熱処理
して本発明のポリイミド−金属複合フィルムを得ること
ができる。また本発明の構成要素であるポリイミド、ポ
リイミド共重合体、又はポリイミド混合物のフィルムを
あらかじめ作製し、そのフィルム上に金属層を例えば真
空蒸着法により形成して本発明のポリイミド−金属複合
フィルムを得ることができる。
一般のプラスチック−金属複合フィルム、ポリイミド−
金属複合フィルムの製造方法が使用できる。例えば金属
箔上にワニス状のポリイミド樹脂又はポリイミドの前駆
体であるポリアミック酸樹脂をコーティングし、熱処理
して本発明のポリイミド−金属複合フィルムを得ること
ができる。また本発明の構成要素であるポリイミド、ポ
リイミド共重合体、又はポリイミド混合物のフィルムを
あらかじめ作製し、そのフィルム上に金属層を例えば真
空蒸着法により形成して本発明のポリイミド−金属複合
フィルムを得ることができる。
金属層としては、種々のものが使用できるが例えば金、
銀、銅、アルミニウム、ニッケルなどの導電性金属、並
びにこれらの金属を主成分とする合金などが使用できる
。
銀、銅、アルミニウム、ニッケルなどの導電性金属、並
びにこれらの金属を主成分とする合金などが使用できる
。
このような一連の工程を経て、ポリイミド−金属複合フ
ィルムが形成できる。
ィルムが形成できる。
以下実施例により本発明のポリイミド−金属複合フィル
ムについて詳細に説明す、るが、本発明はこれら実施例
に限定されない。
ムについて詳細に説明す、るが、本発明はこれら実施例
に限定されない。
下記各例中、ポリイミドの各特性の数値は以下に示す値
である。誘電率は1 kHzでの値である。熱分解温度
は窒素気流下lO℃/分の昇温速度で測定した。光透過
損失は、ポリイミドフィルムにカブラプリズムを通して
波長633nmのHe−Neレーザのビーム光をフィル
ム内に透過させ、このとき発生する散乱光の強度をフィ
ルム面に垂直な方向から測定し、透過経路に沿う散乱光
強度の変化から光透過損失を計算し、求めた。
である。誘電率は1 kHzでの値である。熱分解温度
は窒素気流下lO℃/分の昇温速度で測定した。光透過
損失は、ポリイミドフィルムにカブラプリズムを通して
波長633nmのHe−Neレーザのビーム光をフィル
ム内に透過させ、このとき発生する散乱光の強度をフィ
ルム面に垂直な方向から測定し、透過経路に沿う散乱光
強度の変化から光透過損失を計算し、求めた。
実施例1
三角フラスコにピロメリット酸二無水物43゜6 g
(0,2mol)と式■の構造式で示される2゜2′−
ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフ
ェニル64.0 g (0,2mol)、及びN、 N
ジメチルアセトアミド(DMA) 1000 gを加
えた。この混合物を窒素雰囲気下、室温で3日間かくは
んし、ポリアミック酸のDMA溶液を得た。この溶液の
粘度は約80ポアズであった。
(0,2mol)と式■の構造式で示される2゜2′−
ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフ
ェニル64.0 g (0,2mol)、及びN、 N
ジメチルアセトアミド(DMA) 1000 gを加
えた。この混合物を窒素雰囲気下、室温で3日間かくは
んし、ポリアミック酸のDMA溶液を得た。この溶液の
粘度は約80ポアズであった。
前記のポリアミック酸溶液を使用して35μmのアルミ
箔及び銅箔上にコーティングし、窒素8囲気下で70℃
で2時間、160℃で1時間、250℃で30分、更に
350℃で1時間で加熱キュアし、金属がアルミニウム
と銅のポリイミド−金属複合フィルムを得た。
箔及び銅箔上にコーティングし、窒素8囲気下で70℃
で2時間、160℃で1時間、250℃で30分、更に
350℃で1時間で加熱キュアし、金属がアルミニウム
と銅のポリイミド−金属複合フィルムを得た。
この金属がアルミニウムのポリイミド−金属複合フィル
ムを10%HCI水溶液に浸し、アルミ箔を溶解して膜
厚30μmのポリイミドフィルムを得た。このポリイミ
ドフィルムの熱分解温度は610℃、波長633nmで
の光透過損失は0.85 dB/ co+、誘電率は3
.2であった。
ムを10%HCI水溶液に浸し、アルミ箔を溶解して膜
厚30μmのポリイミドフィルムを得た。このポリイミ
ドフィルムの熱分解温度は610℃、波長633nmで
の光透過損失は0.85 dB/ co+、誘電率は3
.2であった。
更にこのポリイミドフィルムに銀をイオンブレーティン
グ法で0.2μm蒸着し、金属が銀のポリイミド−金属
複合フィルムを得た。
グ法で0.2μm蒸着し、金属が銀のポリイミド−金属
複合フィルムを得た。
実施例2〜6
実施例1において使用したピロメリット酸無水物の代り
に、後記表1に示した酸無水物を用いて、実施例1と同
様の方法により金属が銅、アルミニウム、銀のポリイミ
ド−金属複合フィルムを得た。これに使用したポリイミ
ドフィルムの熱分解温度、光透過損失、誘電率を表1に
他の例と共に示した。
に、後記表1に示した酸無水物を用いて、実施例1と同
様の方法により金属が銅、アルミニウム、銀のポリイミ
ド−金属複合フィルムを得た。これに使用したポリイミ
ドフィルムの熱分解温度、光透過損失、誘電率を表1に
他の例と共に示した。
実施例7〜15
実施例1において使用したピロメリット酸無水物の代り
に、表1に示した酸無水物の混合物を用いて、実施例1
と同様の方法により金属が銅、アルミニウム、銀のポリ
イミド−金属複合フィルムを得た。これに使用したポリ
イミドフィルムの熱分解温度、光透過損失、誘電率を表
1に示した。
に、表1に示した酸無水物の混合物を用いて、実施例1
と同様の方法により金属が銅、アルミニウム、銀のポリ
イミド−金属複合フィルムを得た。これに使用したポリ
イミドフィルムの熱分解温度、光透過損失、誘電率を表
1に示した。
実施例16
実施例1で作製したポリアミック酸溶液17gと実施例
4で作製したポリアミック酸溶液33gを混合し、実施
例1に示した方法により金属が銅、アルミニウム、銀の
ポリイミド−金属複合フィルムを得た。これに使用した
ポリイミドフィルムの熱分解温度、光透過損失、誘電率
を表1に示した。
4で作製したポリアミック酸溶液33gを混合し、実施
例1に示した方法により金属が銅、アルミニウム、銀の
ポリイミド−金属複合フィルムを得た。これに使用した
ポリイミドフィルムの熱分解温度、光透過損失、誘電率
を表1に示した。
実施例17〜20
実施例16において実施例1で作製したポリアミック酸
溶液と実施例4で作製したポリアミック酸溶液の重量比
を表1の実施例17〜20に示した重量比に置き換え、
実施例16と同様の方法で金属が銅、アルミニウム、銀
のポリイミド−金属複合フィルムを作製した。これに使
用したポリイミドフィルムの熱分解温度、光透過損失、
誘電率を表1に示した。
溶液と実施例4で作製したポリアミック酸溶液の重量比
を表1の実施例17〜20に示した重量比に置き換え、
実施例16と同様の方法で金属が銅、アルミニウム、銀
のポリイミド−金属複合フィルムを作製した。これに使
用したポリイミドフィルムの熱分解温度、光透過損失、
誘電率を表1に示した。
比較例1
比較例1は従来のポリイミドであるピロメリット酸二無
水物と4.4′−ジアミノジフェニルエーテルから得ら
れるポリイミドであり、これに比較して本発明の構成要
素であるポリイミドはいずれも誘電率は小さく、また透
胡性に優れている。
水物と4.4′−ジアミノジフェニルエーテルから得ら
れるポリイミドであり、これに比較して本発明の構成要
素であるポリイミドはいずれも誘電率は小さく、また透
胡性に優れている。
以上述べたように、本発明のポリイミド−金属複合フィ
ルムは、ポリイミド層が耐熱性に優れ、誘電率が小さく
、かつ透明性が良好であるため、例えばフレキシブルプ
リント基板として用いたとき配線の高速化が達成でき、
また熱制御材料として用いたとき太陽光の反射特性が良
好になるという利点がある。
ルムは、ポリイミド層が耐熱性に優れ、誘電率が小さく
、かつ透明性が良好であるため、例えばフレキシブルプ
リント基板として用いたとき配線の高速化が達成でき、
また熱制御材料として用いたとき太陽光の反射特性が良
好になるという利点がある。
特許出願人 日本電信電話株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ポリイミド層と金属層が主構成要素であるポリイミ
ド−金属複合フィルムにおいて、該ポリイミド層が、下
記一般式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼・・・[ I ] (式中R_1は4価の有機基を示す)で表される繰返し
単位を有するポリイミド、ポリイミド共重合体、又はポ
リイミド混合物で形成されていることを特徴とするポリ
イミド−金属複合フィルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15506790A JP2866155B2 (ja) | 1990-06-15 | 1990-06-15 | ポリイミド‐金属複合フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15506790A JP2866155B2 (ja) | 1990-06-15 | 1990-06-15 | ポリイミド‐金属複合フィルム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0447933A true JPH0447933A (ja) | 1992-02-18 |
JP2866155B2 JP2866155B2 (ja) | 1999-03-08 |
Family
ID=15597946
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15506790A Expired - Fee Related JP2866155B2 (ja) | 1990-06-15 | 1990-06-15 | ポリイミド‐金属複合フィルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2866155B2 (ja) |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5858518A (en) * | 1996-02-13 | 1999-01-12 | Nitto Denko Corporation | Circuit substrate, circuit-formed suspension substrate, and production method thereof |
US6040418A (en) * | 1997-08-05 | 2000-03-21 | Ube Industries, Ltd. | Fluorinated polyimides, laminated substrates and polyamic acid solutions |
US6096482A (en) * | 1996-02-13 | 2000-08-01 | Nitto Denko Corporation | Circuit substrate, circuit-formed suspension substrate, and production method thereof |
JP2002154046A (ja) * | 2000-09-11 | 2002-05-28 | Mapal Fab Praezisionswerkzeu Dr Kress Kg | 工作物の機械加工用工具及び加工方法 |
EP1749850A1 (en) * | 2005-08-03 | 2007-02-07 | E.I. Dupont De Nemours And Company | Low color polyimide compositions useful in optical type applications and methods and compositions related thereto |
JP2009148776A (ja) * | 2007-12-19 | 2009-07-09 | Fuji Heavy Ind Ltd | クリーニング装置 |
JP2010031258A (ja) * | 2008-06-26 | 2010-02-12 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 白色ポリイミドフィルム |
JP2010155360A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-15 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 透明絶縁樹脂層を有する配線基板用積層体 |
JP2010201625A (ja) * | 2009-02-27 | 2010-09-16 | Nippon Steel Chem Co Ltd | フレキシブル基板用積層体及び熱伝導性ポリイミドフィルム |
US8288471B2 (en) | 2010-10-18 | 2012-10-16 | Taimide Technology, Inc. | White polyimide film and manufacture thereof |
JP2013075525A (ja) * | 2012-11-30 | 2013-04-25 | Nippon Steel & Sumikin Chemical Co Ltd | ポリイミドフィルム |
WO2013191180A1 (ja) * | 2012-06-19 | 2013-12-27 | 新日鉄住金化学株式会社 | 表示装置及びその製造方法、並びに、表示装置支持基材用ポリイミドフィルム及びその製造方法 |
US8853723B2 (en) | 2010-08-18 | 2014-10-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Light emitting diode assembly and thermal control blanket and methods relating thereto |
JP2015527220A (ja) * | 2012-06-22 | 2015-09-17 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニーE.I.Du Pont De Nemours And Company | ポリイミド金属張積層体 |
JP2018109783A (ja) * | 2012-06-19 | 2018-07-12 | 新日鉄住金化学株式会社 | 表示装置の製造方法 |
KR20220002628A (ko) | 2019-06-27 | 2022-01-06 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 수지필름, 금속박적층체 및 그 제조방법 |
-
1990
- 1990-06-15 JP JP15506790A patent/JP2866155B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5858518A (en) * | 1996-02-13 | 1999-01-12 | Nitto Denko Corporation | Circuit substrate, circuit-formed suspension substrate, and production method thereof |
US6096482A (en) * | 1996-02-13 | 2000-08-01 | Nitto Denko Corporation | Circuit substrate, circuit-formed suspension substrate, and production method thereof |
US6100582A (en) * | 1996-02-13 | 2000-08-08 | Nitto Denko Corporation | Circuit substrate, circuit-formed suspension substrate, and production method thereof |
US6040418A (en) * | 1997-08-05 | 2000-03-21 | Ube Industries, Ltd. | Fluorinated polyimides, laminated substrates and polyamic acid solutions |
JP2002154046A (ja) * | 2000-09-11 | 2002-05-28 | Mapal Fab Praezisionswerkzeu Dr Kress Kg | 工作物の機械加工用工具及び加工方法 |
EP1749850A1 (en) * | 2005-08-03 | 2007-02-07 | E.I. Dupont De Nemours And Company | Low color polyimide compositions useful in optical type applications and methods and compositions related thereto |
JP2007046054A (ja) * | 2005-08-03 | 2007-02-22 | E I Du Pont De Nemours & Co | 光学的応用分野において有用な低着色ポリイミド樹脂組成物ならびにそれに関連する方法および組成物 |
JP2009148776A (ja) * | 2007-12-19 | 2009-07-09 | Fuji Heavy Ind Ltd | クリーニング装置 |
JP2010031258A (ja) * | 2008-06-26 | 2010-02-12 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 白色ポリイミドフィルム |
JP2010155360A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-15 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 透明絶縁樹脂層を有する配線基板用積層体 |
JP2010201625A (ja) * | 2009-02-27 | 2010-09-16 | Nippon Steel Chem Co Ltd | フレキシブル基板用積層体及び熱伝導性ポリイミドフィルム |
US8853723B2 (en) | 2010-08-18 | 2014-10-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Light emitting diode assembly and thermal control blanket and methods relating thereto |
US8288471B2 (en) | 2010-10-18 | 2012-10-16 | Taimide Technology, Inc. | White polyimide film and manufacture thereof |
WO2013191180A1 (ja) * | 2012-06-19 | 2013-12-27 | 新日鉄住金化学株式会社 | 表示装置及びその製造方法、並びに、表示装置支持基材用ポリイミドフィルム及びその製造方法 |
CN104380366A (zh) * | 2012-06-19 | 2015-02-25 | 新日铁住金化学株式会社 | 显示装置及其制造方法、以及显示装置支撑基材用聚酰亚胺膜及其制造方法 |
US9403947B2 (en) | 2012-06-19 | 2016-08-02 | Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd. | Display device, method for manufacturing same, polyimide film for display device supporting bases, and method for producing polyimide film for display device supporting bases |
US9695283B2 (en) | 2012-06-19 | 2017-07-04 | Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd. | Display device, method for manufacturing same, polyimide film for display device supporting bases, and method for producing polyimide film for display device supporting bases |
US9868823B2 (en) | 2012-06-19 | 2018-01-16 | Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd. | Display device, method for manufacturing same, polyimide film for display device supporting bases, and method for producing polyimide film for display device supporting bases |
JP2018109783A (ja) * | 2012-06-19 | 2018-07-12 | 新日鉄住金化学株式会社 | 表示装置の製造方法 |
JP2015527220A (ja) * | 2012-06-22 | 2015-09-17 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニーE.I.Du Pont De Nemours And Company | ポリイミド金属張積層体 |
JP2013075525A (ja) * | 2012-11-30 | 2013-04-25 | Nippon Steel & Sumikin Chemical Co Ltd | ポリイミドフィルム |
KR20220002628A (ko) | 2019-06-27 | 2022-01-06 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 수지필름, 금속박적층체 및 그 제조방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2866155B2 (ja) | 1999-03-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2866155B2 (ja) | ポリイミド‐金属複合フィルム | |
US5338826A (en) | Structures from low dielectric polyimides | |
JP4362917B2 (ja) | 金属箔積層体およびその製法 | |
KR100503984B1 (ko) | 유연한 방향족 폴리이미드 필름/금속 필름 복합 시트 | |
CN109942815B (zh) | 一种低介电常数的聚酰亚胺复合树脂及制备方法与应用 | |
JP3759454B2 (ja) | 積層体及びその製造方法 | |
US8034460B2 (en) | Metallic laminate and method of manufacturing the same | |
CN110669336B (zh) | 一种改性含氟聚酰亚胺树脂组合物及其制备方法 | |
WO2002085616A1 (fr) | Stratifie pour materiau electronique | |
JP4823953B2 (ja) | フレキシブル積層板の製造方法 | |
EP0811648B1 (en) | Polyimide precursor solution, process for the production thereof and process for producing a film or coating therefrom | |
US6962726B2 (en) | Method for preparing substrate for flexible print wiring board, and substrate for flexible print wiring board | |
JP2657700B2 (ja) | 含フッ素ポリイミド光学材料 | |
JP2000043211A (ja) | 接着性の改良されたポリイミドフィルム、その製法および積層体 | |
JP2006051824A (ja) | 積層体及びその製造方法 | |
JPH048734A (ja) | フッ素化ポリイミド共重合体及びその製造方法 | |
US5677418A (en) | Reflective self-metallizing polyimide films | |
JP4615401B2 (ja) | 積層体 | |
US5376209A (en) | Process for preparing an assembly of an article and a polymide which resists dimensional change, delamination and debonding when exposed to changes in temperature | |
JPH02251564A (ja) | 含フッ素ポリイミド組成物及びその製造方法 | |
US5248519A (en) | Process for preparing an assembly of an article and a soluble polyimide which resists dimensional change, delamination, and debonding when exposed to changes in temperature | |
US5025089A (en) | Copolyimides derived from 2,2-bis (amino phenyl) hexafluoropropane | |
KR102491338B1 (ko) | 연성금속박적층체 및 연성금속박적층체용 열가소성 폴리이미드 전구체 조성물 | |
JP4326887B2 (ja) | 配線基板用積層体 | |
JP3001119B2 (ja) | ポリイミド−金属複合フィルム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071218 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081218 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091218 Year of fee payment: 11 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |