JPH0442435A - ディスク状磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明はディスク状磁気記録媒体の製造方法に関するも
のである。

口、従来技術 従来、スチルビデオ用、コンピューター用等のディスク
状の磁気記録媒体として、強磁性合金粉末を結合剤中に
分散させた磁性層を非磁性支持体上に塗設した磁気記録
媒体が用いられている。

こうしたディスク状磁気記録媒体、例えば電子スチルビ
デオフロッピーは通常、次のようにして作製される。即
ち磁性粉（強磁性金属粉末）を含有した磁性塗料を調整
した後、この磁性塗料を濾過して分散不良成分を除去し
、ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ＝３２μ
ｍ）の両面に、それぞれの乾燥厚が３．５μｍになるよ
うにリバースロールコータ−を用いて塗布し、加熱下に
溶剤を除去した後、カレンダー処理を行う０次いで、磁
性層中のポリイソシアネート化合物のための加熱硬化（
キュア）を行ない、その後に磁性層に対して潤滑剤含浸
工程を行った後、直径２インチの円盤状に打ち抜き、電
子スチルビデオフロッピーを製造する。上記の打ち抜き
工程の前（潤滑剤含浸工程の後）にはバーニッシュ（表
面研磨）工程を行う。

ところが、本発明者が上記の如き製造方法について検討
を加えた結果、次の如き欠点があることを見出した。即
ち、従来の方法では、潤滑剤含浸工程の後にバーニッシ
ュ工程を行うために、磁性層 層に含浸させた潤滑剤が特にその表面積から削り取られ
てしまう、この結果、媒体の走行耐久性が劣化し易くな
り、特に表面積の大きい微細な磁性粉を用いたとき磁性
層からの剥離によるドロップアウトが大きくなってしま
う。

ハ０発明の目的 本発明の目的は、耐久性を向上させ、高い電磁変換特性
のディスク状磁気記録媒体の製造方法を提供することに
ある。

二０発明の構成 即ち、本発明は、磁性層に対する潤滑剤含浸工程と、デ
ィスク形状への打ち抜き工程と、前記磁性層に対するキ
ュア工程と、バーニッシュ工程とを有し、前記潤滑゛剤
含浸工程の前に前記バーニッシュ工程を行うディスク状
磁気記録媒体の製造方法に係るものである。

本発明によるディスク状磁気記録媒体の製造方法は、基
本的には、例えば磁性塗料の塗布→乾燥→カレンダー処
理を経た後に、少なくとも潤滑剤含浸工程、ディスク形
状への打ち抜き工程、磁性層に対するキュア工程及びバ
ーニッシュ工程を行うに際し、潤滑剤含浸工程の前にバ
ーニッシュ工程を行うことを特徴とするものである。

即ち、上記の塗布、乾燥、カレンダー処理は公知の順序
で公知の方法で行ってよいが、それ以降の工程において
は、特に潤滑剤を磁性層に含浸さる（例えば潤滑剤を磁
性層表面にオーバーコートする）前にバーニッシュを行
うので、磁性層の表面を研磨して適度な表面性を出して
から潤滑剤を含浸させることができる。従って、含浸さ
れた潤滑剤はもはや削り取られること−へ、磁性層に十
二分に保持されるので、媒体の使用中での磁性層の摩擦
係数を常に小さく維持でき、摺擦に十二分に耐える耐久
性を実現できるのである。これは特に、表面積の大きい
微細な磁性粉を用いるときにや 効果である。

本発明において、上記のバーニッシュによって磁性層の
表面が研磨され、表面性が向上することになるが、この
研磨はあまり行いすぎると却ってヘッド等との当たりが
激しくなる（摩擦が増大する）から、これを防止する範
囲で研磨するのがよい、即ち、これによって、表面性向
上による電磁変換特性の向上と摩擦低減による耐久性の
維持とが保証される。しかも、それに加えて、上記した
潤滑剤の含浸によって更に耐久性が向上することになる
。

本発明による方法の主要段階については、第１図〜第４
図に例示した工程の組み合せがある。第１図は、バーニ
ッシュを行った後に潤滑剤含浸工程を行い、次いで、デ
ィスク形状への打ち抜き、更にはキュアを行うものであ
る。第２図は、第１図においてキュアを打ち抜き前に行
う方法を示す。

第３図は、第１図において打ち抜きを潤滑剤含浸の前に
行う方法を示す、更に第４図は、第３図において打ち抜
きをバーニッシュの前に行う方法を示す。

いずれの方法でも、本発明によるバーニッシュ→潤滑剤
含浸という順序を有しているで、打ち抜きをどの時点で
行っても、上記したように潤滑剤を十分な量で磁性層に
含浸させることができ、耐久性を向上させることができ
る。そして、潤滑剤含浸をキュアの前に行うと、磁性層
中の結合剤が未硬化（未キユア）状態にあって架橋構造
を未だ形成していない、ので、潤滑剤は磁性層中に十分
な量で侵入することができ、そして次のキュアによる架
橋構造内に適度に保持されることになる。

換言すれば、架橋構造によて潤滑剤分子が保持されると
共に、磁性層表面で不足が生じたときには磁性層内部か
ら潤滑剤が浸み出して供されることになるから、耐久性
が良好となる。また、打ち抜き工程は潤滑剤含浸工程の
後に行う方が、潤滑剤の含浸作業（オーバーコート）が
容易となり、量産性も良くなる。

次に、上記において、潤滑剤の含浸工程に用いる潤滑剤
としては、脂肪酸エステル（例えばイソオクチルパルミ
テート）、−塩基性脂肪酸（例えばステアリン酸）や、
シリコーンオイル、グラファイト、二硫化モリブデン、
二硫化タングステン等があげられるが、脂肪酸エステル
が好ましい。

潤滑剤は溶媒に所定濃度に溶解させ、この溶液をロール
コーティング等で塗布し、所定温度で乾燥させて磁性層
中に含浸させることができる。この含浸量は２０〜６０
■／ｄがよく、３０〜５０■／ｄが更に良い。また、打
ち抜き後の潤滑剤の含浸は、ディスク体を回転させなが
ら潤滑剤を塗布するスピンコードに依ってもよい。

また、バーニッシュ工程は例えば研磨テープによって磁
性層表面を研磨することによって行うが、他の方法（例
えばダイヤモンドホイル）によってもよい。バーニッシ
ュによる研磨量は、バーニッシュ後に磁性層の表面粗さ
が下記のようにＲａで０．００１〜０．００２程度小さ
くなるようにするのがよい。

（バーニッシュ前）（バーニッシュ後）Ｒａ　０．０１
２〜０．Ｃ０５Ｒａ　Ｏ，０１１〜０．００４（更に好
ましくは　　　　　（更に好ましくはＲａ　Ｏ，０１０
〜０．００８　）　　　　Ｒａ　０．００９〜０．００
７　）バーニッシュ条件は例えば下記の通りとする。

線圧　３ｋｇ／ｃｍ １つ 回転数　２５００ｒｐ園（但、打抜さ株ｒへ−＝ツ職ｔ
む５ぴ）バーニッシュ時間　１秒（Ｉｌ） 研磨テープ　Ｃ，Ｃ１００００番（ミクロコーティング
社製） また、上記の打ち抜き工程は、媒体半製品を搬送しなが
ら型によって打ち抜く方法（パンチング）によって行う
ことができ、その方法自体は公知のものである。

更に、上記のキュアについては、磁性層中の未反応の硬
化剤を結合剤と完全に反応させて架橋構造を形成するた
めの加熱工程であるが、例えば５０〜７５°Ｃで２４〜
７２時間、望ましくは６５〜７０°Ｃで４８〜６０時間
行うのがよい。

また、上記した磁性塗料の塗布、乾燥、カレンダー処理
は公知の方法によって行うことができる。

ここで、磁性層の磁性粉としてＦｅ−Ａｌ系等の金属磁
性粉（強磁性合金粉末）を用いるのがよいが、こうした
強磁性金属粉末には、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏをはじめ、Ｆｅ
−Ａｌ系、Ｆｅ−Ａ１−Ｎｉ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃｏ系、
Ｆｅ−Ｎｉ−３ｉ系、Ｆｅ−Ａｊ！−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｎ
ｉ−Ｃｏ系、Ｆｅ−Ｍｎ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ系、Ｆｅ
−Ｎｉ　−Ａｌ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ−
Ｍｎ系、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ１−Ｐ系、Ｃｏ−Ｎｉ系、Ｆｅ
。

Ｎｉ、Ｃｏ等、を主成分とするメタル磁性粉等の強磁性
粉が挙げられる。なかでも、耐蝕性及び分散性の点で特
にＦｅ−Ａｎ、Ｆｅ−Ａｊ！−Ｎｉ、Ｆｅ−Ａｊ！−Ｚ
ｎ、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｎｉ−Ａｌ
５Ｆｅ−Ｎｉ−Ｚｎ、Ｆｅ−Ｎ１−Ａ／！−３ｔ−Ｚｎ
、Ｆｅ−Ｎ１−Ａｆ！−５ｉＭｎの系のメタル磁性粉が
好ましい。

こうしたメタル磁性粉は飽和磁化、保持力が大きく、高
密度記録に優れている。また、比表面積が４０ｒｒｆ／
ｇ以上、特に４２ｎｆ／ｇ以上の比表面積（ＢＥＴ値）
の上記の強磁性合金粉末を用いることにより、非常にＮ
Ｔｌ１変換特性が向上する。また、強磁性金属粉末の保
磁力（抗磁力）は、通常、１００００ｅ以上（好ましく
は１２０００　ｅ以上）である。

また、本発明で使用することができる磁性粉の形状に特
に制限はなく、例えば、針状、球状等のものを使用する
ことができる。

上記の磁性粉は、メタル磁性粉であるから、分散を十分
に行い難いものであるが、これは磁性層に下記のポリウ
レタン系樹脂を結合剤として用いることによって十分に
防止でき、分散性を高めることができる。

即ち、使用するポリウレタン系樹脂は 一３Ｏ，Ｍ、　０３０３Ｍ、−ＰＯ（ＯＭ’　）ｔ、Ｏ
Ｐ　Ｏ（ＯＭ’　）ｚ　（但し、Ｍは水素又はリチウム
、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属、Ｍ′は水素
、リチウム、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属）
からなる陰性官能基（親水性極性基）を１種又は２種以
上含有しているのがよい。こうした分子内の極性基によ
って、樹脂と磁性粉とのなじみが向上し、これによって
磁性粉の分散性を良くし、かつ磁性粉の４ｆ集も防止し
て塗液安定性を一層向上させることができ、ひいては媒
体の耐久性をも向上させ得る。

こうしたポリウレタン系樹脂の合成に関しては、一般に
利用される方法であるポリオールとポリイソシアネート
との反応を用いることができる。ポリオール成分として
一般には、ポリオールと多塩基酸との反応によって得ら
れるポリエステルポリオールが使用される。従って、上
記の極性基を有するポリエステルポリオールを原料とし
て利用すれば、極性基を有するポリウレタンを合成する
ことができる。

使用可能なポリオールとしては、フタル酸、アジピン酸
、三量化リルイン酸、マレイン酸等の有機二塩基酸と、
エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレン
グリコール、ジエチレングリコール等のグリコール類若
しくはトリメチロールプロパン、ヘキサントリオール、
グリセリン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリト
ール等の多価アルコール類若しくはこれらのグリコール
類及び多価アルコール類の中から選ばれた任意の２種以
上のポリオールとの反応によって合成されたポリエステ
ルポリオール；又は、Ｓ−カプロラクタム、α−メチル
−１−カプロラクタム、Ｓ−メチルーＳ−カプロラクタ
ム、Ｔ−ブチロラクタム等のラクタム類から合成される
ラクトン系ポリエステルポリオール；又はエチレンオキ
サイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等
から合成されるポリエーテルポリオール等これらのポリ
オールは、トリレンジイソシアネート（ＴＤ■）、ヘキ
サメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）、メチレンジ
イソシアネート、メタキシリレンジイソシアネート、ジ
フェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート（ＭＤＩ
）、１．５−ナフタレンジイソシアネート（ＮＤＪ）、
トリジンジイソシアネート（ＴＯＤＩ）、リジンイソシ
アネートメチルエステル（ＬＤＩ）等のイソシアネート
化合物と反応せしめ、これによってウレタン化したポリ
エステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタンや、
ホスゲンやジフェニルカーボネートでカーボネート化し
たポリカーボネートポリウレタンが合成される。これら
のポリウレタンは通常は主として、ポリイソシアネート
とポリオールとの反応で製造され、そして遊離イソシア
ネート基及び／又はヒドロキシル基を含有するウレタン
樹脂又はウレタンプレポリマーの形でも、或いはこれら
の反応性末端基を含有しないもの（例えばウレタンエラ
ストマーの形）であってもよい。

ポリウレタン、ウレタンプレポリマー、ウレタンエラス
トマーの製造方法、硬化架橋方法等については公知であ
るので、その詳細な説明は省略する。

また、例えば、多官能−ＯＨが導入されたポリウレタン
樹脂を製造し、このポリウレタン樹脂と以下に記載する
極性基及び塩素を含有する化合物とを反応（脱塩酸反応
）させてポリウレタン樹脂に極性基を導入する方法を利
用することができる。

ＣｆＣＨｌ　ＣＨｚ　ｓｏ、Ｍ。

ｃｚｃＨｚ　ＣＨ，ｏｓｏｓ　Ｍ。

ＣＩＣＨｌ　ＣＯＯＭ ＣｆＣＨｚ　ＰＯ（ＯＭ’　）！、 このポリウレタン系樹脂の重量平均分子量は一般には１
〜１５万（好ましくは２．０〜６万）の範囲内となるよ
うに反応条件を設定するのがよい。

また、上記ポリウレタン系樹脂は、極性基を有する繰り
返し単位の共重合体中における含有率が通常０．０１〜
５モル％（好ましくはＯ，Ｌ〜２．０モル％）の範囲内
にあるものがよい。

なお、ポリウレタンへの極性基の導入に関しては、特公
昭５Ｂ−４１５６５号、特開昭５７−９２４２２号、同
５７−９２４２３号、同５９−８１２７号、同５９−５
４２３号、同５９−５４２４号、同６２−１２１９２３
号等の公報に記載があり、本発明においてもこれらを利
用することができる。

上記のポリウレタン系樹脂によって、磁性層の耐摩耗性
が一層良くなり、適度な柔軟性も付与できる。そして、
このポリウレタン系樹脂と併用して塩化ビニル系樹脂を
用いると、磁性粉の分散が良好となり、かつ、磁性層の
機械的強度を向上させることができる。この場合、通常
、塩化ビニル系樹脂とポリウレタン系樹脂とは重量比で
８０７２０〜２０　：　８０　（好ましくは７０　：　
３０〜４０　：　６０）の範囲内にて使用するのがよい
。

使用可能な塩化ビニル系樹脂は、例えば塩化ビニル−ビ
ニルアルコール共重合体等、ＯＨＭを含有する共重合体
に下記のような極性基及び塩素原子を含有する化合物と
の反応により付加して合成することができる。

Ｃｌ１ＣＨ，ｃＨｔ　ｓｏｗ　Ｍ。

Ｃ１２ＣＨｚ　ＣＨｚ　ＯＳ　Ｏｓ　Ｍ。

Ｃｊ！　ＣＨｚ　Ｐ　Ｏ（ＯＭ’　）　ｚ、ＣｊＩＣ）
（ｔ　Ｃ００Ｍ これらの中からＣＩＣＨ，ＣＨ，ｓｏ、Ｎａを例として
示すと、 −（ＣＢｚＣＨ）　　＋　Ｃ１（Ｃｕｔ）　ｚ　　ＳＯ
３ＮａＢ →　　　　　　−（ＣＨｔ−ＣＩ）　　＋　　ＨＣｌ１
Ｏ（ＣＨｔ）ｚ−５ＯＪａ のようになる。

また、すべて共重合性のモノマーとして共重合させる方
法がある。即ち、極性基を含む繰り返し単位が導入され
る不飽和結合を有する反応性モノマーを所定量オートク
レーブ等の反応容器に注入し、−船釣な重合開始剤、例
えばＢＰＯ（ベンゾイルパーオキサイド）、ＡＩＢＮ（
アゾビスイソブチロニトリル）等のラジカル重合開始剤
やレドックス重合開始剤、アニオン重合開始剤、カチオ
ン重合開始剤等の重合開始剤を使用して重合できる。例
えば、スルホン酸若しくはその塩を導入するための反応
性七ツマ−の具体例としては、ビニルスルホン酸、アリ
ルスルホン酸、メタクリルスルホン酸、ｐ−スチレンス
ルホン酸等の不飽和炭化水素スルホン酸及びこれらの塩
が挙げられる。

更に、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホ
ン酸、（メタ）アクリル酸スルホエチルエステル、（メ
タ）アクリル酸スルホプロシルエステル等のアクリル酸
又はメタクリル酸のスルホアルキルエステル類及びこれ
らの塩、或いはアクリル酸−２−スルホン酸エチル等を
挙げることができる。

カルボン酸若しくはその塩を導入（ＣＯＯＭ（７）導入
）する時には、（メタ）アクリル酸、マレイン酸等を、
リン酸若しくはその塩を導入する時には、（メタ）アク
リル酸−２−リン酸エステルを用いれば良い。

また、塩化ビニル系共重合体にはエポキシ基が導入され
ていることが好ましい。エポキシ基の導入により塩化ビ
ニル系共重合体の熱安定性が向上する。エポキシ基を導
入する場合、エポキシ基を有する繰り返し単位の共重合
体中における含有率は好ましくは１〜３０モル％（より
好ましくは１〜２０モル％）である、導入するためのモ
ノマーとしてはグリシジルアクリレートが好ましく用い
られる。

なお、塩化ビニル共重合体への極性基の導入に関しては
、特開昭５７−４４２２７号、同５Ｂ−１０８０５２号
、同５９−８１２７号、同６０−１０１１６１号、同６
０−２３５８１４号、同６０−２３８３０６号、同６０
−２３８３７１号、同６２−１２１９２３号、同６２−
１４６４３２号、同６２−１４６４３３号等の公報に記
載があり、本発明においてもこれらを利用することがで
きる。

本発明においては前記結合剤の他、必要に応じて、従来
用いられている非変性の塩ビ系樹脂、ポリウレタン樹脂
或いはポリエステル樹脂を混用又は単用することもでき
るし、更に繊維素系樹脂、フェノキシ樹脂或いは特定の
使用方式を有する熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型
樹脂、電子線照射硬化型樹脂等を併用しても良い。

上記磁性層には、上記の磁性粉、結合剤の他、潤滑剤（
例えばシリコーンオイル、グラファイト、二硫化モリブ
デン、二硫化タングステン、−塩基性脂肪酸（例えばス
テアリン酸）、脂肪酸エステル等）等を添加してよい。

また、非磁性研磨剤粒子として、アルミナ（α−Ａｆｔ
　Ｏｓ　　（コランダム）等）、人造コランダム、溶融
アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、ダイヤモンド、α
−Ｆｅ、Ｏ。

（ヘマタイト）、人造ダイヤモンド、ザクロ石、エメリ
ー（主成分：コランダムと磁鉄鉱）等も少量併用してよ
い。上記磁性層には、カーボンブランク等の帯電防止剤
を添加してもよい。

磁性塗料に使用可能な溶剤としては、ケトン類（例えば
メチエチルケトン）、エーテル類（例えばジエチルエー
テル）、エステル類（例えば酢酸エチル）、芳香族系溶
剤（例えばトルエン）、アルコール類（例えばメタノー
ル）等を挙げることができ、これらは単独、或いは混合
しても使用することができる。

本発明の方法で得られるディスク状磁気記録媒体は、例
えば第４図に１０で示すように、非磁性支持体２１の両
面に、必要あれば中間層２２を介して磁性層２４を設け
たものである。必要あれば更に、オーバーコート層（図
示せず）が磁性層上に設けられていてよい。

磁性層２４の乾燥膜厚は０．５〜４．５μｍであるのが
よく、３．０〜４．０μｍが更によい。

磁性層下に中間層２２を設けるときは、上記した各種結
合剤の塗布によって下引き層を形成してよい。この中間
層は、接着剤層又は下引き層として、磁性層と支持体と
の接着性の向上、導電性の向上等を目的として設けられ
る。

また、支持体２１の素材としては、ポリエチレンテレフ
タレート及びポリエチレン−２，６−ナフタレート等の
ポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類
、セルローストリアセテート及びセルロースダイアセテ
ート等のセルロース誘導体、ならびに、ポリカーボネー
ト等のプラスチックを挙げることができる。更にＣｕ、
Ａｆ、Ｚｎ等の非磁性金属、ガラス、いわゆるニューセ
ラミック等をも使用することができる。

これらの素材を用いて形成される支持体の厚みは通常１
０〜８０μｍの範囲内にある。

支持体の少なくとも一方の面には、磁性層が設けられて
いるが、通常は、上記のように他の面にも磁性層を有す
る。このように両面に磁性層を設けることにより、磁気
ディスクの変形（カーリング）を有効に防止することが
できる。但し、裏面にバックコート層を設けてカーリン
グを防止することも可能である。

なお、本発明は、例えば電子スチルカメラ用のビデオフ
ロッピー、データフロッピー等の磁気ディスクに適用し
てよい。

ホ、実施例 以下、本発明の詳細な説明する。

以下に示す成分、割合、操作順序等は、本発明の精神か
ら逸脱しない範囲において種々変更しうる。

（実施例１） 以下に示す成分をデイスパーニーダ及びボールミルを用
いて十分に混練、分散し、次いで、塗布直前にポリイソ
シアネート化合物（コロネートＬ二日本ポリウレタン■
製）５重量部を添加し混合して磁性塗料［１）を調製し
た。

一■性！料ユ土り 鉄−アルミニウム系強磁性合金粉末　１００重量部（ア
ルミニウム含有率：４重量％、 比表面積：４８ｎｆ／ｇ、 抗磁力（ＨＣ）　：　１４５００　ｅ ポリウレタン樹脂　　　　　　　　　　６重量部（東洋
紡績社製のＵ　Ｒ−８２００ニ ーＳｏ、Ｎａ基含有） 塩化ビニル系共重合体　　　　　　　　１０重量部（日
本ゼオン製のＭＲＩＩＯ： ＳＯ，に基含有） 酸化アルミナＡｌｔｏｓ　　　　　　　　１０重量部（
平均粒子径＝０．４μｍ） カーボンブラック　　　　　　　　　　０．５重量部（
平均粒子径：５５ｎｍ ＢＥＴ比表面積：３２ポ／ｇ ＤＢＰ吸油量：　　１８０ａｆ／１００　ｇ　）オレイ
ン酸　　　　　　　　　　　　　１重量部イソオクチル
パルミテート　　　　　　　１重量部シクロへキサノン
　　　　　　　　　　１００重量部メチルエチルケトン
　　　　　　　　１００重量部トルエン　　　　　　　
　　　　　　１００重量部得られた磁性塗料を濾過して
分散不良成分を除去し、ポリエチレンテレフタレートフ
ィルム（厚さ＝３２μｍ）の両面に、それぞれの乾燥厚
が３．５μｍになるようにリバースロールコータ−を用
いて塗布し、加熱下に溶剤を除去した後、カレンダー処
理を行なった。

その後、研磨テープによって、媒体を搬送しながらバー
ニッシュ研磨を行った。研磨条件は、線圧：３ｋｇ／ｃ
ｍ、 特訓＝４→Ｈ研磨テープ：　ＣＣ１００００番（ミクロ
コーティング社製）とした。次いで、磁性層に対して、
イソオクチルパルミテートの１％溶液（溶媒はｎ−ヘキ
サノン）をリバースロールコータ−で塗布し、９０℃で
１０秒間乾燥することによって、磁性層に潤滑剤（イソ
オクチルパルミテート）を含浸させた。この潤滑剤含浸
工程後に、直径２インチの円盤状に打ち抜き、更に６５
℃で５０分間の加熱処理によって、磁性層中の上記ポリ
イソシアネート化合物のための加熱硬化（キュア）を行
なった。その後、カセットに収容して電子スチルビデオ
フロッピーを製造した。

（実施例２） 実施例１において、カレンダー処理を行った後、同様に
してバーニッシュ工程、次いで潤滑剤含浸工程を行ない
、次いでポリイソシアネート化合物のための加熱硬化（
キュア）を行なった。次いで、直径２インチの円盤状に
打ち抜き、電子スチルビデオフロッピーを製造した。

（実施例３） 実施例１において、カレンダー処理を行った後、同様に
してバーニッシュ工程、次いで直径２インチの円盤状に
打ち抜き、その後に潤滑剤含浸工程を行ない、次いでポ
リイソシアネート化合物のための加熱硬化（キュア）を
行ない、電子スチルビデオフロッピーを製造した。

（実施例４） 実施例１において、カレンダー処理を行った後、同様に
して直径２インチの円盤状に打ち抜き、バーニッシュ工
程、その後に潤滑剤含浸工程を行ない、次いでポリイソ
シアネート化合物のための加熱硬化（キュア）を行ない
、電子スチルビデオフ実施例１において、カレンダー処
理を行った後、潤滑剤含浸工程を行い、次いでバーニッ
シュ工程、その後に直径２インチの円盤状に打ち抜き、
次いでポリイソシアネート化合物のだめの加熱硬化（キ
ュア）を行なった以外は同様にして、電子スチルビデオ
フロッピーを製造した。

（比較例２） 実施例１において、カレンダー処理を行った後、潤滑剤
含浸工程を行い、次いでポリイソシアネート化合物のた
めの加熱硬化（キュア）を行ない、次いでバーニッシュ
工程、その後に直径２インチの円盤状に打ち抜いた以外
は同様にして、電子スチルビデオフロッピーを製造した
。

（比較例３） 実施例１において、カレンダー処理を行った後、潤滑剤
含浸工程を行い、その後にポリイソシアネート化合物の
ための加熱硬化（キュア）を行ない、直径２インチの円
盤状に打ち抜き、バーニッシュ工程をした以外は同様に
して、電子スチルビデオフロッピーを製造した。

（比較例４） 実施例１において、バーニッシュ工程を行わなかった以
外は同様にして、電子スチルビデオフロッピーを製造し
た。

上記の各ビデオフロッピーについて、以下の性能評価を
行い、結果を下記表に示した。

′−シーク 市販の電子スチルビデオフロッピーレコーダー（ＡＧ８
００、松下電器産業蛛製）を用いて、予め画像信号を５
０トラツクすべてに記録した電子スチルビデオフロッピ
ーのスチルモードで各トラック４秒の再生を１〜５０ト
ラツクまで連続して繰り返し、再生出力が初期値から３
ｄＢ低下する迄、若しくは再ＨＥ西像にドロップアウト
等の画質低下が起こる迄の時間を測定した。結果を下記
表に示す。

なお、同表において、３００時間以上とは、３００時間
の再生によっても再生出力の低下が３ｄＢに至らず、か
つ画質低下が起こらなかったことを意味する。

ヱ」」比カ ラニー■製のＭ　Ｖ　Ｒ５，ＪＯＯを用いて７ＭＨｚの
正弦波信号を記録し、再生ＲＦ出力を測定した。測定し
た再生ＲＦ出力を、ゴールドリファレンスの値に対する
相対値として下記表に記した。ＲＦ比出力値が大きい程
、良好な電子スチルビデオフロッピーであることを示す
。

この結果から、本発明に基いてバーニッシュ→潤滑剤含
浸という順序で製造することによって、耐久性を向上さ
せることができ、かつＲＦ比出力良好である。バーニッ
シュを行わないものは耐久性は良いがＲＦ比出力低下す
る。

へ０発明の作用効果 本発明は上述したように、バーニッシュ後に潤滑剤含浸
を行っているので、潤滑剤を十分な量で磁性層に含浸さ
せることができ、耐久性を向上させることができる。従
って、媒体の使用中での磁性層の摩擦係数を常に小さく
維持でき、摺擦に十二分に耐える耐久性を実現でき、か
つ電磁変換特性も良好に維持することができる。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明を説明するためのものであって、第１図、
第２図、第３図、第４図はディスク状媒体の製造工程の
主要なフローを示す各チャート、 第５図は本発明によるディスク状媒体の一例の断面図 である。 なお、図面に示す符号において、 ２１・・・・・・・・・非磁性支持体 ２２・！・・・・・・・中間層 ２４・・・・・・・・・磁性層 である。 代理人　　　弁理士　　逢坂　宏 第１図 第２図 第５図 ｎ 第３図 第４図 （自引手続補正書 平成２年７月２０日 平成２年　特許願第１５０３９９号 ２、発明の名称 ディスク状磁気記録媒体の製造方法 ３、補正をする者 事件との関係　　特許出願人 住　所　東京都新宿区西新宿１丁目２６番２号名　称　
（１２７）コニカ株式会社 ４、代理人 住　所　東京都立川市柴崎町２−４−１１ＦＩＮＥビル
ｅ　　０４２５−２４−５４１１（ｆｅＪ氏名（７６０
５）弁理士逢坂　丈 （１）、明細書第６頁３行目の「いない。ので」を「い
ないので」と訂正します。 （２）、同第６頁６行目の「によて」を「によって」と
訂正します。 （３）、同第９頁９行目のｒＭｎの系」をｒＭｎの各県
」と訂正します。 一以 上一

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、磁性層に対する潤滑剤含浸工程と、ディスク形状へ
   の打ち抜き工程と、前記磁性層に対するキュア工程と、
   バーニッシュ工程とを有し、前記潤滑剤含浸工程の前に
   前記バーニッシュ工程を行うディスク状磁気記録媒体の
   製造方法。