JPH04146523A - ディスク状磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
ディスク状磁気記録媒体の製造方法Info
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ、産業上の利用分野
本発明はディスク状磁気記録媒体の製造方法に関するも
のである。
のである。
口、従来技術
従来、スチルビデオ用、コンピューター用等ノディスク
状の磁気記録媒体として、強磁性合金粉末を結合剤中に
分散させた磁性層を非磁性支持体上に塗設した磁気記録
媒体が用いられている。
状の磁気記録媒体として、強磁性合金粉末を結合剤中に
分散させた磁性層を非磁性支持体上に塗設した磁気記録
媒体が用いられている。
こうしたディスク状磁気記録媒体、例えば電子スチルビ
デオフロッピーは通常、次のようにして作製される。即
ち磁性粉(強磁性金属粉末)を含有した磁性塗料を調整
した後、この磁性塗料を濾過して分散不良成分を除去1
,7、ポリエチl/ンテレフタレートフィルム(厚さ2
32μm)の両面ニ、それぞれの乾燥厚が3.5μmに
なるようにリバースロールコータ−を用いて塗布し、加
熱下に溶剤を除去した後、カレンダー処理を行う。次い
で、磁性層中のポリイソシアネート化合物のための加熱
硬化(キュア)を行ない、その後に磁性層に対して潤滑
剤含浸工程を行った後、直径2インチの円盤状に打ち抜
き、電子スチルビデオフロッピーを製造する。上記の打
ち抜き工程の前(潤滑剤含浸工程の後)にはバーニッシ
ュ(表面研磨)工程を行う。
デオフロッピーは通常、次のようにして作製される。即
ち磁性粉(強磁性金属粉末)を含有した磁性塗料を調整
した後、この磁性塗料を濾過して分散不良成分を除去1
,7、ポリエチl/ンテレフタレートフィルム(厚さ2
32μm)の両面ニ、それぞれの乾燥厚が3.5μmに
なるようにリバースロールコータ−を用いて塗布し、加
熱下に溶剤を除去した後、カレンダー処理を行う。次い
で、磁性層中のポリイソシアネート化合物のための加熱
硬化(キュア)を行ない、その後に磁性層に対して潤滑
剤含浸工程を行った後、直径2インチの円盤状に打ち抜
き、電子スチルビデオフロッピーを製造する。上記の打
ち抜き工程の前(潤滑剤含浸工程の後)にはバーニッシ
ュ(表面研磨)工程を行う。
ところが、本発明者が上記の如き製造方法について検討
を加えた結果、次の如き問題があることを見出した。
を加えた結果、次の如き問題があることを見出した。
従来の方法では、上記の磁性塗料の調製段階において結
合剤剤として添加するポリウレタン系樹脂は弱塩基性で
あって、強塩基性の金属磁性粉と吸着し難く、従って金
属磁性粉の分散性が悪くなり易い。他方、塩化ビニル系
樹脂は強酸性であって、金属磁性粉とば酸−塩基相互作
用Qこよってなじみがよく、分散性が向上する。従来の
方法において、ポリウレタンと塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体樹脂とを同時に混練する場合は、希釈、分散後
の塗料の粘度が高く、磁性層の光沢性、電磁変換特性、
走行耐久性が劣化してしまう。これは、ポリウレタンと
塩化ビニル系樹脂とが、競争吸着する際、金属磁性粉に
対して塩化ビニル系樹脂の方が吸着し易く、このために
ポリウレタンの分散が悪くなるためであると考えられる
。
合剤剤として添加するポリウレタン系樹脂は弱塩基性で
あって、強塩基性の金属磁性粉と吸着し難く、従って金
属磁性粉の分散性が悪くなり易い。他方、塩化ビニル系
樹脂は強酸性であって、金属磁性粉とば酸−塩基相互作
用Qこよってなじみがよく、分散性が向上する。従来の
方法において、ポリウレタンと塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体樹脂とを同時に混練する場合は、希釈、分散後
の塗料の粘度が高く、磁性層の光沢性、電磁変換特性、
走行耐久性が劣化してしまう。これは、ポリウレタンと
塩化ビニル系樹脂とが、競争吸着する際、金属磁性粉に
対して塩化ビニル系樹脂の方が吸着し易く、このために
ポリウレタンの分散が悪くなるためであると考えられる
。
また、混練時の結合剤が塩化ビニル系樹脂であり、その
後の分散時に添加する結合剤がボリウI/タンであると
(特開昭60−138732号、同61−8726号)
、ポリウレタンの分散が不十分となり、走行耐久性、電
磁変換特性が悪化する。
後の分散時に添加する結合剤がボリウI/タンであると
(特開昭60−138732号、同61−8726号)
、ポリウレタンの分散が不十分となり、走行耐久性、電
磁変換特性が悪化する。
このように、磁性塗料の調製段階における結合剤の添加
条件によって、性能が大きく変化するので、適切な条件
を見出す必要がある。特に、電子スチルビデオフロッピ
ー等の磁気ディスクの場合、繰り返し再生の頻度等が激
しいために非常に苛酷な条件で使用され、耐摩耗性、耐
久性を高めることが極めて重要となる。
条件によって、性能が大きく変化するので、適切な条件
を見出す必要がある。特に、電子スチルビデオフロッピ
ー等の磁気ディスクの場合、繰り返し再生の頻度等が激
しいために非常に苛酷な条件で使用され、耐摩耗性、耐
久性を高めることが極めて重要となる。
ハ2発明の目的
本発明の目的は、耐久性器こ優れ、高い電磁変換特性の
ディスク状磁気記録媒体の製造方法を提供することにあ
る。
ディスク状磁気記録媒体の製造方法を提供することにあ
る。
二9発明の構成及びその作用効果
即ち、本発明の第1の発明は、磁性粉と結合剤とを含有
する磁性塗料の塗布によって形成された磁性層を有する
ディスク状磁気記録媒体の製造方法において、 (a)、金属磁性粉と塩化ビニル系樹脂とを混練する第
1混練工程と、 0))。この第1混練工程で得られた混練物をウレタン
系樹脂と混練する第2混練工程と、(c)、この第2混
練工程で得られた混練物を分散助剤と混練する第3混練
工程と を有することを特徴とするディスク状磁気記録媒体の製
造方法に係るものである。
する磁性塗料の塗布によって形成された磁性層を有する
ディスク状磁気記録媒体の製造方法において、 (a)、金属磁性粉と塩化ビニル系樹脂とを混練する第
1混練工程と、 0))。この第1混練工程で得られた混練物をウレタン
系樹脂と混練する第2混練工程と、(c)、この第2混
練工程で得られた混練物を分散助剤と混練する第3混練
工程と を有することを特徴とするディスク状磁気記録媒体の製
造方法に係るものである。
また、本発明の第2の発明は、磁性粉と結合剤とを含有
する磁性塗料の塗布によって形成された磁性層を有する
ディスク状磁気記録媒体の製造方法において、 (a)、金属磁性粉と塩化ビニル系樹脂とを混練する第
1混練工程と、 (b)、この第1混練工程で得られた混練物を分散助剤
と混練する第2混練工程と、 (c)、この第2混練工程で得られた混練物をウレタン
系樹脂と混練する第3混練工程と を有することを特徴とするディスク状磁気記録媒体の製
造方法に係るものである。
する磁性塗料の塗布によって形成された磁性層を有する
ディスク状磁気記録媒体の製造方法において、 (a)、金属磁性粉と塩化ビニル系樹脂とを混練する第
1混練工程と、 (b)、この第1混練工程で得られた混練物を分散助剤
と混練する第2混練工程と、 (c)、この第2混練工程で得られた混練物をウレタン
系樹脂と混練する第3混練工程と を有することを特徴とするディスク状磁気記録媒体の製
造方法に係るものである。
本発明によるディスク状磁気記録媒体の製造方法は、第
1及び第2の発明とも基本的には、第1混練工程におい
て金属磁性粉と塩化ビニル系樹脂とを混練しているため
、金属磁性粉に対してまず塩化ビニル系樹脂を十分に吸
着させることができる。これによって、結果的に結合剤
中での磁性粉の分散性を十分にしておくことができる。
1及び第2の発明とも基本的には、第1混練工程におい
て金属磁性粉と塩化ビニル系樹脂とを混練しているため
、金属磁性粉に対してまず塩化ビニル系樹脂を十分に吸
着させることができる。これによって、結果的に結合剤
中での磁性粉の分散性を十分にしておくことができる。
そして次に、第2混練工程において、第1の発明では第
1図のようにウレタン系樹脂を添加しているが、この段
階ではウレタン系樹脂の分散は十分でないので、次の第
3混練段階で分散助剤を添加することによってウレタン
系樹脂の分散を良くし、金属磁性粉に対する吸着性を塩
化ビニル系樹脂のみならずウレタン系樹脂についても向
上させている。
1図のようにウレタン系樹脂を添加しているが、この段
階ではウレタン系樹脂の分散は十分でないので、次の第
3混練段階で分散助剤を添加することによってウレタン
系樹脂の分散を良くし、金属磁性粉に対する吸着性を塩
化ビニル系樹脂のみならずウレタン系樹脂についても向
上させている。
また、第2の発明では、第2図のように第2混練工程で
分散助剤を十分に分布させてから、第3混練工程でウレ
タン系樹脂を混練しているので、第1の発明と同様にウ
レタン系樹脂の分散(吸着)も良好となるのである。更
に、本発明の方法は、各結合剤の添加をニーダ−等によ
る混練で行っているので、ボールミル等による通常の分
散とは違って分散性が著しく向上している。
分散助剤を十分に分布させてから、第3混練工程でウレ
タン系樹脂を混練しているので、第1の発明と同様にウ
レタン系樹脂の分散(吸着)も良好となるのである。更
に、本発明の方法は、各結合剤の添加をニーダ−等によ
る混練で行っているので、ボールミル等による通常の分
散とは違って分散性が著しく向上している。
このように、本発明による方法は、結合剤である塩化ビ
ニル系樹脂及びポリウレタン系樹脂は共に分散が良くな
り、金属磁性粉への吸着状態が良好となるため、金属磁
性粉の充填密度が向上し、Bm等の電磁変換特性が大き
く向上する。また、ポリウレタン系樹脂の分散が良いた
め、磁性層の耐摩耗性、耐久性が十分となり、かつ、塩
化ビニル系樹脂の分散も良いことから磁性層の機械的強
度が向上する。
ニル系樹脂及びポリウレタン系樹脂は共に分散が良くな
り、金属磁性粉への吸着状態が良好となるため、金属磁
性粉の充填密度が向上し、Bm等の電磁変換特性が大き
く向上する。また、ポリウレタン系樹脂の分散が良いた
め、磁性層の耐摩耗性、耐久性が十分となり、かつ、塩
化ビニル系樹脂の分散も良いことから磁性層の機械的強
度が向上する。
本発明による方法では、第1混練段階で、強磁性粉末1
00重量部、塩化ビニル系樹脂3〜15重量部及び溶剤
10〜60重量部の比率で混練し、第2混線段階又は第
3混練段階でウレタン系樹脂3〜15重量部を添加して
さらに混線を行うのがよい。
00重量部、塩化ビニル系樹脂3〜15重量部及び溶剤
10〜60重量部の比率で混練し、第2混線段階又は第
3混練段階でウレタン系樹脂3〜15重量部を添加して
さらに混線を行うのがよい。
この場合、各混練段階とも、0.05〜0.5kw(磁
性粉1kg当たり)の消費電力の負荷を5〜120分間
混練装置に与えて混練を行うことが望ましい。
性粉1kg当たり)の消費電力の負荷を5〜120分間
混練装置に与えて混練を行うことが望ましい。
そして、混練時の雰囲気は酸素濃度が5%以下とするこ
とが、金属磁性粉の酸化防止(ひいては電磁変換特性、
分散性の向上)にとって望ましい。
とが、金属磁性粉の酸化防止(ひいては電磁変換特性、
分散性の向上)にとって望ましい。
本発明において、磁性層の磁性粉としてFeAl系等の
金属磁性粉(強磁性合金粉末)を用いるのがよいが、こ
うした強磁性金属粉末には、Fe、Ni、Coをはじめ
、Fe−Aj!系、Fe−Aj!−Ni系、Fe−Al
2−Co系、Fe−NiSi系、Fe−An!−Zn系
、Fe−N1−C。
金属磁性粉(強磁性合金粉末)を用いるのがよいが、こ
うした強磁性金属粉末には、Fe、Ni、Coをはじめ
、Fe−Aj!系、Fe−Aj!−Ni系、Fe−Al
2−Co系、Fe−NiSi系、Fe−An!−Zn系
、Fe−N1−C。
系、Fe−Mn−Zn系、Fe−Ni系、Fe−N1−
Aj!系、Fe−Ni−Zn系、Fe−Ni−Mn系、
Fe−Co−N1−P系、Co−Ni系、Fe、Ni、
Co等、を主成分とするメタル磁性粉等の強磁性粉が挙
げられる。なかでも、耐蝕性及び分散性の点で特にFe
−AN、Fe−A1−Ni、Fe−Aj!−ZnSFe
−Aj!−Co。
Aj!系、Fe−Ni−Zn系、Fe−Ni−Mn系、
Fe−Co−N1−P系、Co−Ni系、Fe、Ni、
Co等、を主成分とするメタル磁性粉等の強磁性粉が挙
げられる。なかでも、耐蝕性及び分散性の点で特にFe
−AN、Fe−A1−Ni、Fe−Aj!−ZnSFe
−Aj!−Co。
Fe−Ni、Fe−N1−Al2、Fe−Ni−Zn、
Fe−N1−An−3i−Zn、、Fe−Ni −A1
−3i−Mnの系のメタル磁性粉が好ましい。
Fe−N1−An−3i−Zn、、Fe−Ni −A1
−3i−Mnの系のメタル磁性粉が好ましい。
こうしたメタル磁性粉は飽和磁化、保持力が大きく、高
密度記録に優れている。また、比表面積が40rrr/
g以上、特に45nf/g以上の比表面積(BET値)
の上記の強磁性合金粉末を用いることにより、非常に電
磁変換特性が向上する。また、強磁性金属粉末の保磁力
(抗磁力)は、通常、10000e以上(好ましくは1
2000e以上)である。
密度記録に優れている。また、比表面積が40rrr/
g以上、特に45nf/g以上の比表面積(BET値)
の上記の強磁性合金粉末を用いることにより、非常に電
磁変換特性が向上する。また、強磁性金属粉末の保磁力
(抗磁力)は、通常、10000e以上(好ましくは1
2000e以上)である。
また、本発明で使用することができる磁性粉の形状に特
に制限はなく、例えば、針状、球状等のものを使用する
ことができる。
に制限はなく、例えば、針状、球状等のものを使用する
ことができる。
上記の磁性粉は、メタル磁性粉であるから、分散を十分
に行い難いものであるが、これは磁性層に下記のポリウ
レタン系樹脂を結合剤として用いることによって十分に
防止でき、分散性を高めることができる。
に行い難いものであるが、これは磁性層に下記のポリウ
レタン系樹脂を結合剤として用いることによって十分に
防止でき、分散性を高めることができる。
即ち、使用するポリウレタン系樹脂は
SO3M、 0305M、 PO(OM’)z、−
0PO(OM’ )z (但し、Mは水素又はリチウム
、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属、M′は水素
、リチウム、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属、
又はアルキル基)からなる陰性官能基(親水性極性基)
を1種又は2種以上含有しているのがよい。こうした分
子内の極性基によって、樹脂と磁性粉とのなじみが向上
し、これによって磁性粉の分散性を良くし、かつ磁性粉
の凝集も防止して塗液安定性を一層向上させることがで
き、ひいては媒体の耐久性をも向上させ得る。
0PO(OM’ )z (但し、Mは水素又はリチウム
、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属、M′は水素
、リチウム、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属、
又はアルキル基)からなる陰性官能基(親水性極性基)
を1種又は2種以上含有しているのがよい。こうした分
子内の極性基によって、樹脂と磁性粉とのなじみが向上
し、これによって磁性粉の分散性を良くし、かつ磁性粉
の凝集も防止して塗液安定性を一層向上させることがで
き、ひいては媒体の耐久性をも向上させ得る。
こうしたポリウレタン系樹脂の合成に関しては、一般に
利用される方法であるポリオールとポリイソシアネート
との反応を用いることができる。ポリオール成分として
一般には、ポリオールと多塩基酸との反応によって得ら
れるポリエステルポリオールが使用される。従って、上
記の極性基を有するポリエステルポリオールを原料とし
て利用すれば、極性基を有するポリウレタンを合成する
ことができる。
利用される方法であるポリオールとポリイソシアネート
との反応を用いることができる。ポリオール成分として
一般には、ポリオールと多塩基酸との反応によって得ら
れるポリエステルポリオールが使用される。従って、上
記の極性基を有するポリエステルポリオールを原料とし
て利用すれば、極性基を有するポリウレタンを合成する
ことができる。
使用可能なポリオールとしては、フタル酸、アジピン酸
、三量化リルイン酸、マレイン酸等の有機二塩基酸と、
エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレン
グリコール、ジエチレングリコール等のグリコール類若
しくはトリメチロールプロパン、ヘキサノ【・リオール
、グリセリン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリ
トール等の多価アルコール類若しくはこれらのグリコー
ル類及び多価アルコール類の中から選ばれた任意の2種
以トのポリオールとの反応によって合成されたポリエス
テルポリオール;又は、S−カプロラクタム、α−メチ
ル−1−カプロラクタム、Sメチル−3−カプロラクタ
ム、T−ブチロラクタム等のラクタム類から合成される
ラクトン系ポリエステルポリオール;又はエチレンオキ
ザイド、ブチレンオキ9イト、ブチレンオキ9イト等か
ら合成されるポリエーテルポリオール等これらのポリオ
ールは、トリレンジイソシアネート(TDI)、ヘキサ
メチレンジイソシアネート(HMDI)、メチレンジイ
ソシアネート、メタキシリレンジイソシアネート、ジフ
ェニルメタン−4,4’−ジイソシアネー) (MDI
)、l、5−ナフタレンジイソシアネ−1−(NDI)
、l−リジンジイソシアネート(TODI)、リジンイ
ソシアネー・トメチルエステル(LDI)等のイソシア
ネー]−化合物と反応せしめ、これによってつ1/タン
化したポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウ
レタンや、ホスゲンやジフェニルカーボネーI・でカー
ボネー]・化したポリカーボネートポリウレタンが合成
される。これらのポリウレタンは通常は主として、ポリ
イソシアネートとポリオールとの反応で製造され、そし
て遊離イソシアネート基及び/又はヒドロキシル基を含
有するウレタン樹脂又はウレタンプレポリマーの形でも
、或いはこれらの反応性末端基を含有しないもの(例え
ばウレタンプレポリマーの形)であってもよい。
、三量化リルイン酸、マレイン酸等の有機二塩基酸と、
エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレン
グリコール、ジエチレングリコール等のグリコール類若
しくはトリメチロールプロパン、ヘキサノ【・リオール
、グリセリン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリ
トール等の多価アルコール類若しくはこれらのグリコー
ル類及び多価アルコール類の中から選ばれた任意の2種
以トのポリオールとの反応によって合成されたポリエス
テルポリオール;又は、S−カプロラクタム、α−メチ
ル−1−カプロラクタム、Sメチル−3−カプロラクタ
ム、T−ブチロラクタム等のラクタム類から合成される
ラクトン系ポリエステルポリオール;又はエチレンオキ
ザイド、ブチレンオキ9イト、ブチレンオキ9イト等か
ら合成されるポリエーテルポリオール等これらのポリオ
ールは、トリレンジイソシアネート(TDI)、ヘキサ
メチレンジイソシアネート(HMDI)、メチレンジイ
ソシアネート、メタキシリレンジイソシアネート、ジフ
ェニルメタン−4,4’−ジイソシアネー) (MDI
)、l、5−ナフタレンジイソシアネ−1−(NDI)
、l−リジンジイソシアネート(TODI)、リジンイ
ソシアネー・トメチルエステル(LDI)等のイソシア
ネー]−化合物と反応せしめ、これによってつ1/タン
化したポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウ
レタンや、ホスゲンやジフェニルカーボネーI・でカー
ボネー]・化したポリカーボネートポリウレタンが合成
される。これらのポリウレタンは通常は主として、ポリ
イソシアネートとポリオールとの反応で製造され、そし
て遊離イソシアネート基及び/又はヒドロキシル基を含
有するウレタン樹脂又はウレタンプレポリマーの形でも
、或いはこれらの反応性末端基を含有しないもの(例え
ばウレタンプレポリマーの形)であってもよい。
ポリウレタン、ウレタンプレポリマー、ウレタンエクス
1−マーの製造方法、硬化架橋方法等については公知で
あるので、その詳細な説明は省略する。
1−マーの製造方法、硬化架橋方法等については公知で
あるので、その詳細な説明は省略する。
また、例えば、多官能−OHが導入されたポリウレタン
樹脂を製造し、このポリウレタン樹脂と以下に記載する
極性基及び塩素を含有する化合物とを反応(脱塩酸反応
)させてポリウレタン樹脂に極性基を導入する方法を利
用することができる。
樹脂を製造し、このポリウレタン樹脂と以下に記載する
極性基及び塩素を含有する化合物とを反応(脱塩酸反応
)させてポリウレタン樹脂に極性基を導入する方法を利
用することができる。
C1CH□CH,So、M。
C12CHz CHz OS Ox M。
(IcH7COOM
CECH2PO(OM’ )!、
このポリウレタン系樹脂の重量平均分子量は一般には1
〜15万(好ましくは2.0〜6万)の範囲内となるよ
うに反応条件を設定するのがよい。
〜15万(好ましくは2.0〜6万)の範囲内となるよ
うに反応条件を設定するのがよい。
また、上記ポリウレタン系樹脂は、極性基を有する繰り
返(−単位の共重合体中における含有率が通常0.01
〜5モル%(好ましくは0.1〜2.0モル%)の範囲
内にあるものがよい。
返(−単位の共重合体中における含有率が通常0.01
〜5モル%(好ましくは0.1〜2.0モル%)の範囲
内にあるものがよい。
なお、ポリウレタンへの極性基の導入に関しては、特公
昭5B−41565号、特開昭57−92422号、同
57−92423号、同59−8127号、同59−5
423号、同59−5424号、同62−121923
号等の公報に記載があり、本発明においてもこれらを利
用することができる。
昭5B−41565号、特開昭57−92422号、同
57−92423号、同59−8127号、同59−5
423号、同59−5424号、同62−121923
号等の公報に記載があり、本発明においてもこれらを利
用することができる。
上記のポリウレタン系樹脂によって、磁性層の耐摩耗性
が一層良くなり、適度な柔軟性も付与できる。そして、
このポリウレタン系樹脂と併用して塩化ビニル系樹脂を
用いることによって、磁性粉の分散が良好となり、かつ
、磁性層の線樋的強度を向上させることができる。この
場合、通常、塩化ビニル系樹脂とポリウレタン系樹脂と
は重量比で80820−・−20880(好ましくは7
0 : 30〜40 : 60)の範囲内にて使用する
のがよい。
が一層良くなり、適度な柔軟性も付与できる。そして、
このポリウレタン系樹脂と併用して塩化ビニル系樹脂を
用いることによって、磁性粉の分散が良好となり、かつ
、磁性層の線樋的強度を向上させることができる。この
場合、通常、塩化ビニル系樹脂とポリウレタン系樹脂と
は重量比で80820−・−20880(好ましくは7
0 : 30〜40 : 60)の範囲内にて使用する
のがよい。
使用可能な塩化ビニル系樹脂は、例えば塩化ビニル−ビ
ニルアルコール共重合体等、OH基を含有する共重合体
に下記のような極性基及び塩素原子を含有する化合物と
の反応により付加して合成することができる。
ニルアルコール共重合体等、OH基を含有する共重合体
に下記のような極性基及び塩素原子を含有する化合物と
の反応により付加して合成することができる。
(/lCH2CH2303M、
Cff1CH,CH,030,M。
CjICHz PO(OM’ )z、
(IcH,C00M
これらの中からC1CH2CH2
例として示すと、
(cHzCH) + Cl (cHz) z S
O3NaH 0s Na苓 → −(cHz−CH) + HCj!0
(cHz)z−SOJa のようになる。
O3NaH 0s Na苓 → −(cHz−CH) + HCj!0
(cHz)z−SOJa のようになる。
また、すべて共重合性のモノマーとして共重始させる方
法がある。即ち、極性基を含む繰り返し単位が導入され
る不飽和結合を有する反応性七ツマ−を所定量オートク
レーブ等の反応容器に注スし、−船釣な重合開始剤、例
えばBPO(ペンソイルパーオキサイド)、AIBN(
アゾビスイソブチロニトリル)等のラジカル重合開始剤
やレドックス重合開始剤、アニオン重合開始剤、カチオ
ン重合開始剤等の重合開始剤を使用して重合できる。例
えば、スルホン酸若しくはその塩を導入するための反応
性七ツマ−の具体例としては、ビニルスルホン酸、アリ
ルスルホン酸、メタクリルスルホン酸、P−スチレンス
ルホン酸等の不飽和炭化水素スルホン酸及びこれらの塩
が挙げられる。
法がある。即ち、極性基を含む繰り返し単位が導入され
る不飽和結合を有する反応性七ツマ−を所定量オートク
レーブ等の反応容器に注スし、−船釣な重合開始剤、例
えばBPO(ペンソイルパーオキサイド)、AIBN(
アゾビスイソブチロニトリル)等のラジカル重合開始剤
やレドックス重合開始剤、アニオン重合開始剤、カチオ
ン重合開始剤等の重合開始剤を使用して重合できる。例
えば、スルホン酸若しくはその塩を導入するための反応
性七ツマ−の具体例としては、ビニルスルホン酸、アリ
ルスルホン酸、メタクリルスルホン酸、P−スチレンス
ルホン酸等の不飽和炭化水素スルホン酸及びこれらの塩
が挙げられる。
2−更に、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンス
ルホン酸、(メタ)アクリル酸スルホエチルエステル、
(メタ)アクリル酸スルホプロピルエステル等のアクリ
ル酸又はメタクリル酸のスルホアルキルエステル類及び
これらの塩、或いはアクリル酸−2−スルホン酸エチル
等を挙げることができる。
ルホン酸、(メタ)アクリル酸スルホエチルエステル、
(メタ)アクリル酸スルホプロピルエステル等のアクリ
ル酸又はメタクリル酸のスルホアルキルエステル類及び
これらの塩、或いはアクリル酸−2−スルホン酸エチル
等を挙げることができる。
カルボン酸若しくはその塩を導入(cOOMの導入)す
る時には、(メタ)アクリル酸、マレイン酸等を、リン
酸若しくはその塩を導入する時には、(メタ)アクリル
酸−2−リン酸エステルを用いれば良い。
る時には、(メタ)アクリル酸、マレイン酸等を、リン
酸若しくはその塩を導入する時には、(メタ)アクリル
酸−2−リン酸エステルを用いれば良い。
また、塩化ビニル系共重合体にはエポキシ基が導入され
ていることが好ましい。エポキシ基の導入により塩化ビ
ニル系共重合体の熱安定性が向上する。エポキシ基を導
入する場合、エポキシ基を有する繰り返し単位の共重合
体中における含有率は好ましくは1〜30モル%(より
好ましくは1〜20モル%)である。導入するためのモ
ノマーとしてはグリシジルアクリレートが好ましく用い
られる。
ていることが好ましい。エポキシ基の導入により塩化ビ
ニル系共重合体の熱安定性が向上する。エポキシ基を導
入する場合、エポキシ基を有する繰り返し単位の共重合
体中における含有率は好ましくは1〜30モル%(より
好ましくは1〜20モル%)である。導入するためのモ
ノマーとしてはグリシジルアクリレートが好ましく用い
られる。
なお、塩化ビニル系共重合体への極性基の導入に関して
は、特開昭57−44227号、同58−108052
号同59−8127号、同60−101161号、同6
0−235814号、同60−238306号、同60
−238371号、同62−121923号、同62−
146432号、同62−146433号等の公報に記
載があり、本発明においてもこれらを利用することがで
きる。
は、特開昭57−44227号、同58−108052
号同59−8127号、同60−101161号、同6
0−235814号、同60−238306号、同60
−238371号、同62−121923号、同62−
146432号、同62−146433号等の公報に記
載があり、本発明においてもこれらを利用することがで
きる。
また、本発明において使用可能な分散助剤としては、燐
酸エステル、アミン化合物、アルキルサルフェート、脂
肪酸アミド、高級アルコール、ポリエチレンオキサイド
、スルホ琥珀酸、スルホ琥珀酸エステル、公知の界面活
性剤等及びこれらの塩があり、また陰性有機基(例えば
−COOH)を有する重合体分散剤の塩を使用すること
もできる。これら分散助剤は1種類のみで用いても、或
は2種類以上を併用してもよい。
酸エステル、アミン化合物、アルキルサルフェート、脂
肪酸アミド、高級アルコール、ポリエチレンオキサイド
、スルホ琥珀酸、スルホ琥珀酸エステル、公知の界面活
性剤等及びこれらの塩があり、また陰性有機基(例えば
−COOH)を有する重合体分散剤の塩を使用すること
もできる。これら分散助剤は1種類のみで用いても、或
は2種類以上を併用してもよい。
本発明においては前記結合剤の他、必要に応じて、従来
用いられている非変性の塩ビ系樹脂、ポリウレタン樹脂
或いはポリエステル樹脂を混用又は単用することもでき
るし、更に繊維素系樹脂、フェノキシ樹脂或いは特定の
使用方式を有する熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型
樹脂、電子線照射硬化型樹脂等を併用しても良い。
用いられている非変性の塩ビ系樹脂、ポリウレタン樹脂
或いはポリエステル樹脂を混用又は単用することもでき
るし、更に繊維素系樹脂、フェノキシ樹脂或いは特定の
使用方式を有する熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型
樹脂、電子線照射硬化型樹脂等を併用しても良い。
上記磁性層には、上記の磁性粉、結合剤の他、潤滑剤(
例えばシリコーンオイル、グラファイト、二硫化モリブ
デン、二硫化タングステン、−塩基性脂肪酸(例えばス
テアリン酸)、脂肪酸エステル等)等を添加してよい。
例えばシリコーンオイル、グラファイト、二硫化モリブ
デン、二硫化タングステン、−塩基性脂肪酸(例えばス
テアリン酸)、脂肪酸エステル等)等を添加してよい。
また、非磁性研磨剤粒子として、アルミナ(α−A2□
0.(コランダム)等)、人造コランダム、溶融アルミ
ナ、炭化ケイ素、酸化クロム、ダイヤモンド、α−Fe
、O。
0.(コランダム)等)、人造コランダム、溶融アルミ
ナ、炭化ケイ素、酸化クロム、ダイヤモンド、α−Fe
、O。
(ヘマタイト)、人造ダイヤモンド、ザクロ石、エメリ
ー(主成分:コランダムと磁鉄鉱)等も少景併用してよ
い。上記磁性層には、カーボンブラック等の帯電防止剤
を添加してもよい。
ー(主成分:コランダムと磁鉄鉱)等も少景併用してよ
い。上記磁性層には、カーボンブラック等の帯電防止剤
を添加してもよい。
磁性塗料に使用可能な溶剤としては、ケトン類(例えば
メチェチルケI・ン)、エーテル類(例えばジエチルエ
ーテル)、エステル類(例えば酢酸エチル)、芳香族系
溶剤(例えばトルエン)、アルコール類(例えばメタノ
ール)等を挙げることができ、これらは単独、或いは混
合しても使用することができる。
メチェチルケI・ン)、エーテル類(例えばジエチルエ
ーテル)、エステル類(例えば酢酸エチル)、芳香族系
溶剤(例えばトルエン)、アルコール類(例えばメタノ
ール)等を挙げることができ、これらは単独、或いは混
合しても使用することができる。
本発明の方法で得られるディスク状磁気記録媒体は、例
えば第3図に10で示すように、非磁性支持体21の両
面に、必要あれば中間層22を介して磁性層24を設け
たものである。必要あれば更に、オーバーコートN(図
示せず)が磁性層上に設けられていてよい。
えば第3図に10で示すように、非磁性支持体21の両
面に、必要あれば中間層22を介して磁性層24を設け
たものである。必要あれば更に、オーバーコートN(図
示せず)が磁性層上に設けられていてよい。
磁性層24の乾燥膜厚は0.5〜4.5μmであるのが
よく、3.0〜4.0 μmが更によい。
よく、3.0〜4.0 μmが更によい。
磁性層下に中間層22を設けるときは、上記(また各種
結合剤の塗布によって下引き層を形成してよい。この中
間層は、接着剤層又は下引き層として、磁性層と支持体
との接着性の向上、導電性の向上等を目的として設けら
れる。
結合剤の塗布によって下引き層を形成してよい。この中
間層は、接着剤層又は下引き層として、磁性層と支持体
との接着性の向上、導電性の向上等を目的として設けら
れる。
また、支持体21の素材としては、ポリエチレンテレフ
タレート及びポリエチレン−2,6−ナフタレ−1・等
のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン
類、セルローストリアセテート及びセルロースダイアセ
テート等のセルロース誘導体、ならびに、ポリカーボネ
ート等のプラスチックを挙げることができる。更にCu
、Af、Zn等の非磁性金属、ガラス、いわゆるニュー
セラミック等をも使用することができる。
タレート及びポリエチレン−2,6−ナフタレ−1・等
のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン
類、セルローストリアセテート及びセルロースダイアセ
テート等のセルロース誘導体、ならびに、ポリカーボネ
ート等のプラスチックを挙げることができる。更にCu
、Af、Zn等の非磁性金属、ガラス、いわゆるニュー
セラミック等をも使用することができる。
これらの素材を用いて形成される支持体の厚みは通常1
0〜80μmの範囲内にある。
0〜80μmの範囲内にある。
支持体の少なくとも一方の面には、磁性層が設けられて
いるが、通常は、上記のように他の面にも磁性層を有す
る。このように両面に磁性層を設けることにより、磁気
ディスクの変形(カーリング)を有効に防止することが
できる。但し、裏面にバックコート層を設けてカーリン
グを防止することも可能である。
いるが、通常は、上記のように他の面にも磁性層を有す
る。このように両面に磁性層を設けることにより、磁気
ディスクの変形(カーリング)を有効に防止することが
できる。但し、裏面にバックコート層を設けてカーリン
グを防止することも可能である。
なお、本発明は、例えば電子スチルカメラ用のビデオフ
ロッピー、データフロンビー等の磁気ディスクに適用し
てよい。
ロッピー、データフロンビー等の磁気ディスクに適用し
てよい。
ホ、実施例
以下、本発明の詳細な説明する。
以下に示す成分、割合、操作順序等は、本発明の精神か
ら逸脱しない範囲において種々変更しうる。
ら逸脱しない範囲において種々変更しうる。
〈実施例1〉
まず、以下に示す成分の組成物を調製した。
強磁性金属粉末 100重量部(F
e−Af系、Af含有率4重量%、BET比表面積:4
7ボ/g、抗磁力(Hc):12500e) 塩化ビニル系共重合体 10重量部(VA
GH,U、C,C社製) シクロへキサノン 10重1部メチル
エチルケトン 20重量部トルエン
20重量部上記組成物を加圧ニ
ーダ−で30分間混練した。
e−Af系、Af含有率4重量%、BET比表面積:4
7ボ/g、抗磁力(Hc):12500e) 塩化ビニル系共重合体 10重量部(VA
GH,U、C,C社製) シクロへキサノン 10重1部メチル
エチルケトン 20重量部トルエン
20重量部上記組成物を加圧ニ
ーダ−で30分間混練した。
・・・・・・・・・第1混練工程(A)次に、この混練
物に、ポリウレタン樹脂にツボラン2304、日本ポリ
ウレタン樹脂)10重量部を添加し、加圧ニーダ−で3
0分間混練した。
物に、ポリウレタン樹脂にツボラン2304、日本ポリ
ウレタン樹脂)10重量部を添加し、加圧ニーダ−で3
0分間混練した。
・・・・・・・・・第2混練工程(B)次に、この混練
物にオI/イン酸1重量部を添加し、加圧ニーダ−で3
0分間混練した。
物にオI/イン酸1重量部を添加し、加圧ニーダ−で3
0分間混練した。
・・・・・・・・・第3混練工程(c)この混練物をボ
ールミルに取り出し、さらに下記の素材を添加し、24
時間分散した。
ールミルに取り出し、さらに下記の素材を添加し、24
時間分散した。
混練物 171重量部α−ア
ルミナ 10重量部シクロヘキサ
ノン 50重量部メチルエチルケトン
100重量部トルエン
100重置部ミリスチン酸
1重量部ブチルステアレート 1重
量部上記磁性塗料を濾過してポリイソシアネート化合物
(コロネートL、日本ポリウレタン社製)5重量部を添
加し、非磁性支持体(ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム、厚さ32μm)の両面に、それぞれ乾燥厚が3.
5μmになるように塗布し、加熱下に溶剤を除去した後
、カレンダー処理を行い次いでポリイソシアネート化合
物のため加熱硬化を行った。加熱硬化後、直径2インチ
の円板状に打ち抜き、カセットに収容して電子スチルビ
デオフロッピーを作成した。
ルミナ 10重量部シクロヘキサ
ノン 50重量部メチルエチルケトン
100重量部トルエン
100重置部ミリスチン酸
1重量部ブチルステアレート 1重
量部上記磁性塗料を濾過してポリイソシアネート化合物
(コロネートL、日本ポリウレタン社製)5重量部を添
加し、非磁性支持体(ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム、厚さ32μm)の両面に、それぞれ乾燥厚が3.
5μmになるように塗布し、加熱下に溶剤を除去した後
、カレンダー処理を行い次いでポリイソシアネート化合
物のため加熱硬化を行った。加熱硬化後、直径2インチ
の円板状に打ち抜き、カセットに収容して電子スチルビ
デオフロッピーを作成した。
〈実施例2〉
実施例1において、第2混練工程(B)と第3混線工程
(c)とを逆にした以外は同様にして、電子スチルビデ
オフロッピーを作成した。
(c)とを逆にした以外は同様にして、電子スチルビデ
オフロッピーを作成した。
〈実施例3〉
実施例1において、第1混練工程(A)の時間を1時間
とした以外は同様にして、電子スチルビデオフロッピー
を作成した。
とした以外は同様にして、電子スチルビデオフロッピー
を作成した。
〈実施例4〉
実施例1において、第2混練工程(B)の時間を1時間
とした以外は同様にして電子スチルビデオフロッピーを
作成した。
とした以外は同様にして電子スチルビデオフロッピーを
作成した。
〈実施例5〉
実施例1において、第3混練工程(c)の時間を1時間
とした以外は同様にして、電子スチルビデオフロッピー
を作成した。
とした以外は同様にして、電子スチルビデオフロッピー
を作成した。
〈実施例6〉
実施例1において、第1混練工程(A)の塩化ビニル系
樹脂として−So、Na基を含有する塩化ビニル系樹脂
(MRIIO1日本ゼオン社製)を使用した以外は同様
にして、電子スチルビデオフロッピーを作成した。
樹脂として−So、Na基を含有する塩化ビニル系樹脂
(MRIIO1日本ゼオン社製)を使用した以外は同様
にして、電子スチルビデオフロッピーを作成した。
〈実施例7〉
実施例1において、第2混練工程(B)のポリウレタン
系樹脂として、−3o、Na基を含有するポリウレタン
系樹脂(U R−8300、東洋紡績社製)を使用した
以外は同様にして、電子スチルビデオフロッピーを作成
した。
系樹脂として、−3o、Na基を含有するポリウレタン
系樹脂(U R−8300、東洋紡績社製)を使用した
以外は同様にして、電子スチルビデオフロッピーを作成
した。
〈実施例8〉
実施例1において、第1混練工程(A)及び第2混線工
程(B)の塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン系樹脂とも
に、−3o、Na基を含有したもの(上記したMRII
O、UR−8300)を使用した以外は同様にして、電
子スチルビデオフロッピーを作成した。
程(B)の塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン系樹脂とも
に、−3o、Na基を含有したもの(上記したMRII
O、UR−8300)を使用した以外は同様にして、電
子スチルビデオフロッピーを作成した。
〈比較例1〉
実施例1において、第1、第2、第3混練工程=(A)
、(B)、(c)で使用する素材をすべて同時に添加し
、加圧ニーダ−で混練し、他は実施例工と同様にして電
子スチルビデオフロッピーを作成した。
、(B)、(c)で使用する素材をすべて同時に添加し
、加圧ニーダ−で混練し、他は実施例工と同様にして電
子スチルビデオフロッピーを作成した。
〈比較例2〉
実施例1において、第1、第2混線工程:(A)、(B
)で使用する素材をすべて同時に添加し、混練した後に
第3混練工程(c)を実施し、実施例1と同様にして電
子スチルビデオフロッピーを作成した。
)で使用する素材をすべて同時に添加し、混練した後に
第3混練工程(c)を実施し、実施例1と同様にして電
子スチルビデオフロッピーを作成した。
〈比較例3〉
実施例1において、第1、第3混線工程:(A)、(c
)で使用する素材をすべて同時に添加し、混練した後、
第2混線工程(B)を実施し、実施例1と同様にして、
電子スチルビデオフロッピーを作成した。
)で使用する素材をすべて同時に添加し、混練した後、
第2混線工程(B)を実施し、実施例1と同様にして、
電子スチルビデオフロッピーを作成した。
〈比較例4〉
実施例Iに使われている素材をすべて添加してボールミ
ルで24時間分散し、これを実施例で述べたように塗布
し、電子スチルビデオフロッピーを作成した。
ルで24時間分散し、これを実施例で述べたように塗布
し、電子スチルビデオフロッピーを作成した。
〈比較例5〉
実施例1において、第2、第3混練工程= (B)(c
)に代えてボールミル中の分散工程を実施した(従って
ウレタン系樹脂及び分散助剤はボールミル中で分散)以
外は同様にして、電子スチルビデオフロッピーを作成し
た。
)に代えてボールミル中の分散工程を実施した(従って
ウレタン系樹脂及び分散助剤はボールミル中で分散)以
外は同様にして、電子スチルビデオフロッピーを作成し
た。
上記の各ビデオフロッピーについて、以下の性能評価を
行い、結果を下記表に示した(同表において、「実」は
実施例、「比」は比較例を示す)。
行い、結果を下記表に示した(同表において、「実」は
実施例、「比」は比較例を示す)。
(1)RF出カ
ラニー■製のM V R−5500を用いて、それぞれ
1.25及び7.OM&の正弦波信号を記録し、再生R
F出力を測定した。
1.25及び7.OM&の正弦波信号を記録し、再生R
F出力を測定した。
なお、結果は、測定した再生RF出力を実施例1で製造
した電子スチルビデオフロッピーの再生RF出力をO,
OdBとj〜たときの相対値として、十−2表に記した
。RF比出力値が大きい程、良好な電子スチルビデオフ
ロッピーであることを示す。
した電子スチルビデオフロッピーの再生RF出力をO,
OdBとj〜たときの相対値として、十−2表に記した
。RF比出力値が大きい程、良好な電子スチルビデオフ
ロッピーであることを示す。
(2)ノイズレベル
■アハンラス1〜製のスペクトラムアナライザーを用い
て、7MI(zのRF比出力測定し、各サンプルの6M
Hzのノイズレベルを測定した。
て、7MI(zのRF比出力測定し、各サンプルの6M
Hzのノイズレベルを測定した。
測定したノイズレベルを、実施例1で製造した電子スチ
ルビデオフロッピーのノイズレベルを0.0dBと17
だときの相対値として、下記表に記した。、ノイズレベ
ルの値が小さい程、良好な電子スチルビデオフロッピー
であることを示す。
ルビデオフロッピーのノイズレベルを0.0dBと17
だときの相対値として、下記表に記した。、ノイズレベ
ルの値が小さい程、良好な電子スチルビデオフロッピー
であることを示す。
(3)走行耐久性
日立製作所株製のVX−50を用いて、予め画像信号を
25トラックに記録した電子スチルビデオフロッピーの
スチルモードでの再生ヲ20°C150%RHの条件下
で連続的に行い、再生出力が3dB低下するまでの時間
を測定した。
25トラックに記録した電子スチルビデオフロッピーの
スチルモードでの再生ヲ20°C150%RHの条件下
で連続的に行い、再生出力が3dB低下するまでの時間
を測定した。
(4)光沢度
ビデオフロッピーの光沢度は、磁性層の塗布方向と直角
に入射角60°で測定j7、標準板を100%として表
示した。
に入射角60°で測定j7、標準板を100%として表
示した。
(以下、1〉fヨ)
この結果から、本発明り基いて製造することによって、
ビデオフロッピーの電磁変換特性、耐久性等が大きく向
上することが分かる。
ビデオフロッピーの電磁変換特性、耐久性等が大きく向
上することが分かる。
図面は本発明を説明するためのものであって、第1図、
第2図はディスク状媒体の製造工程の主要なフローを示
す各チャート、 第3図は本発明によるディスク状媒体の〜例の断面図 である。 なお、図面に示す符号において、 21・・・・・・・・・非磁性支持体 22・・・・・・・・・中間層 24・・・・・・・・・磁性層 である。 代理人 弁理士 連環 宏
第2図はディスク状媒体の製造工程の主要なフローを示
す各チャート、 第3図は本発明によるディスク状媒体の〜例の断面図 である。 なお、図面に示す符号において、 21・・・・・・・・・非磁性支持体 22・・・・・・・・・中間層 24・・・・・・・・・磁性層 である。 代理人 弁理士 連環 宏
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、磁性粉と結合剤とを含有する磁性塗料の塗布によっ
て形成された磁性層を有するディスク状磁気記録媒体の
製造方法において、 (a)、金属磁性粉と塩化ビニル系樹脂とを混練する第
1混練工程と、 (b)、この第1混練工程で得られた混練物をウレタン
系樹脂と混練する第2混練工程と、 (c)、この第2混練工程で得られた混練物を分散助剤
と混練する第3混練工程と を有することを特徴とするディスク状磁気記録媒体の製
造方法。 2、磁性粉と結合剤とを含有する磁性塗料の塗布によっ
て形成された磁性層を有するディスク状磁気記録媒体の
製造方法において、 (a)、金属磁性粉と塩化ビニル系樹脂とを混練する第
1混練工程と、 (b)、この第1混練工程で得られた混練物を分散助剤
と混練する第2混練工程と、 (c)、この第2混練工程で得られた混練物をウレタン
系樹脂と混練する第3混練工程とを有することを特徴と
するディスク状磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26913590A JPH04146523A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | ディスク状磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26913590A JPH04146523A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | ディスク状磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04146523A true JPH04146523A (ja) | 1992-05-20 |
Family
ID=17468181
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26913590A Pending JPH04146523A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | ディスク状磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04146523A (ja) |
-
1990
- 1990-10-05 JP JP26913590A patent/JPH04146523A/ja active Pending
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