JPH0439064A - サーマルヘッド - Google Patents
サーマルヘッドInfo
- Publication number
- JPH0439064A JPH0439064A JP14701190A JP14701190A JPH0439064A JP H0439064 A JPH0439064 A JP H0439064A JP 14701190 A JP14701190 A JP 14701190A JP 14701190 A JP14701190 A JP 14701190A JP H0439064 A JPH0439064 A JP H0439064A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thermal head
- common electrode
- electrode
- heating element
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 11
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 12
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 8
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 abstract description 8
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 6
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 4
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 abstract description 4
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 abstract description 3
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 abstract description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 abstract 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 abstract 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 12
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 11
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 5
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- -1 etc. Chemical compound 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- SWELZOZIOHGSPA-UHFFFAOYSA-N palladium silver Chemical compound [Pd].[Ag] SWELZOZIOHGSPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はサーマルヘッドに関するものである。
[発明の概要1
本発明は信頼性の高いサーマルヘッドを得ることを目的
としたもので、基板の一辺にそって発熱体が列状に形成
され、前記発熱体列の一方には各発熱体に共通に接続さ
れる共通電極が、他方には各発熱体に個別に接続される
個別電極が形成されているサーマルヘッドにおいて、共
通電極の下部に補強電極を有し、これを平滑な導体層と
することにより、上部に形成される発熱体、電極、保護
膜のカバーリングを完全にし、従来のようなピンホール
発生による導体層などの耐食性の劣化を防止しようとい
うものである。
としたもので、基板の一辺にそって発熱体が列状に形成
され、前記発熱体列の一方には各発熱体に共通に接続さ
れる共通電極が、他方には各発熱体に個別に接続される
個別電極が形成されているサーマルヘッドにおいて、共
通電極の下部に補強電極を有し、これを平滑な導体層と
することにより、上部に形成される発熱体、電極、保護
膜のカバーリングを完全にし、従来のようなピンホール
発生による導体層などの耐食性の劣化を防止しようとい
うものである。
[従来の技術]
基板の一辺にそって発熱体が列状に形成され、前記発熱
体列の一方には各発熱体に共通に接続される共通電極が
、他方には各発熱体に個別に接続される個別電極が形成
されているサーマルヘッドにおいては、昨今の印字品質
向上の要求から、共通電極下部に補強用電極を形成し、
共通電極の配線抵抗による電圧降下からくる印字ムラを
少なくする方法が一般的になっている。この補強用電極
としては従来、銀、銀−パラジウムといった厚膜印刷導
体が一般に使用されていた。
体列の一方には各発熱体に共通に接続される共通電極が
、他方には各発熱体に個別に接続される個別電極が形成
されているサーマルヘッドにおいては、昨今の印字品質
向上の要求から、共通電極下部に補強用電極を形成し、
共通電極の配線抵抗による電圧降下からくる印字ムラを
少なくする方法が一般的になっている。この補強用電極
としては従来、銀、銀−パラジウムといった厚膜印刷導
体が一般に使用されていた。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、第2図の断面図に示すように従来の厚膜
印刷導体8においては、スクリーン印刷でのメツシュ跡
あるいはペースト粒子の粗さなどからその表面は非常に
粗くなっており、その後発熱体4、共通電極5、保護膜
7の各層を形成し、サーマルヘッドを形成すると、同図
に示すように各層が完全に厚膜印刷導体8の上をカバー
することが困難でピンホールの発生が多かった。このた
め、厚膜印刷導体8が腐食し、経時的にもこの腐食が進
行し信頼性上問題となっていた。
印刷導体8においては、スクリーン印刷でのメツシュ跡
あるいはペースト粒子の粗さなどからその表面は非常に
粗くなっており、その後発熱体4、共通電極5、保護膜
7の各層を形成し、サーマルヘッドを形成すると、同図
に示すように各層が完全に厚膜印刷導体8の上をカバー
することが困難でピンホールの発生が多かった。このた
め、厚膜印刷導体8が腐食し、経時的にもこの腐食が進
行し信頼性上問題となっていた。
本発明は上記の問題点を解決するために、共通電極の下
部に表面が平滑な導体層よりなる補強を設けることによ
り信頼性の高いサーマルヘッドを提供するものである。
部に表面が平滑な導体層よりなる補強を設けることによ
り信頼性の高いサーマルヘッドを提供するものである。
[作用]
補強用電極を平滑な表面を有する導体層で形成すること
により、スパッタリングなどで行なう発熱体、電極、保
護膜の各層の形成の際、膜のつきまわりを気にする必要
がなく、ピンホールの発生を防止することが出来る。
により、スパッタリングなどで行なう発熱体、電極、保
護膜の各層の形成の際、膜のつきまわりを気にする必要
がなく、ピンホールの発生を防止することが出来る。
[実施例]
以下第1図と第3図の実施例により本発明をさらに説明
する。
する。
サーマルヘッド用基板としてはアルミナ等のセラミック
基板1を使用し、これにパターン精度が必要な発熱体形
成部分を中心にグレーズ層2を形成する。
基板1を使用し、これにパターン精度が必要な発熱体形
成部分を中心にグレーズ層2を形成する。
このような基板1の共通電極の下部に相当するセラミッ
ク上の部分に平滑な表面を有する導体層3を形成する。
ク上の部分に平滑な表面を有する導体層3を形成する。
この層は要求される配線抵抗値にも左右されるが、−射
的には5〜30ミクロンであり、この形成方法としては
、以下のような方法が用いられる。
的には5〜30ミクロンであり、この形成方法としては
、以下のような方法が用いられる。
一つの方法としては、セラミック基板lの上に無電解め
っき法を用いベース層を形成し、電気めっき法により光
沢めっきを行ない厚膜を形成する方法であり、一つは蒸
着、スパッタリングなどの方法によりベース層を形成し
、その後電気めっき法により光沢めっきを行ない厚膜な
形成する方法であり、これらが平滑表面の厚膜を簡単に
形成する上で有利である。
っき法を用いベース層を形成し、電気めっき法により光
沢めっきを行ない厚膜を形成する方法であり、一つは蒸
着、スパッタリングなどの方法によりベース層を形成し
、その後電気めっき法により光沢めっきを行ない厚膜な
形成する方法であり、これらが平滑表面の厚膜を簡単に
形成する上で有利である。
ここで、これらの材質としては、低抵抗で安価な材料と
して銅が主たる層と用いられ、最初の形成方法の場合は
、無電解銅めっき層上に光沢銅めっき層を形成した構造
あるいはこの上にさらにニッケルめっき、金めつきなど
を行ない耐食性を増した構造が代表的なものである。ま
た第2の方法の場合では、銅/クロム、金/クロム、ニ
ッケル/クロムなどの蒸着、スパッタリング膜上に光沢
銅めっき層を形成した構造あるいはこの上にさらにニッ
ケルめっき、金めつきなどを追加した構造が代表的なも
のである。
して銅が主たる層と用いられ、最初の形成方法の場合は
、無電解銅めっき層上に光沢銅めっき層を形成した構造
あるいはこの上にさらにニッケルめっき、金めつきなど
を行ない耐食性を増した構造が代表的なものである。ま
た第2の方法の場合では、銅/クロム、金/クロム、ニ
ッケル/クロムなどの蒸着、スパッタリング膜上に光沢
銅めっき層を形成した構造あるいはこの上にさらにニッ
ケルめっき、金めつきなどを追加した構造が代表的なも
のである。
またこの導体層3の形成においては、必要部に部分形成
することが一般的であるが、ベース層のみ全面に形成し
、電気めっきを容易にするためと、共通電極および個別
電極として利用することも方法により可能である。
することが一般的であるが、ベース層のみ全面に形成し
、電気めっきを容易にするためと、共通電極および個別
電極として利用することも方法により可能である。
このような基板上にスパッタリングなどの方法による発
熱体4(Ta−5i−0、Ti−5i0、Ta−5i−
C,Ta−N、Zr−Nなど)の形成およびパターンニ
ング、スパッタリングなどの方法による電極金1m(A
ff、Cu / Cr、A u / Crなど)の形成
および個別電極6、共通電極5のパターンニングさらに
スパッタリング、プラズマ−CVDなどの方法による保
護膜(Si−C,5i−AI2−0−N、Ta−0なと
)の必要部への形成を一般的に従来より使用されている
フォトリソグラフィー、メクルマスクスパッタリングな
どの利用により行ない、第1図に示す断面構造のサーマ
ルヘッドを得たに のようなサーマルヘッドにおいては、共通電極5の配線
抵抗も平滑表面の導体層3よりなる補強用電極の効果に
より小さく、印字ムラのない高品質の印字が出来、さら
に平滑な表面の導体層3を補強用電極に用いたことで、
発熱体4、電極5.6、保護膜7のつきまわりもよく、
ビンホルの発生がなく、耐食性上も何ら問題のない信頼
性の高いものであった。
熱体4(Ta−5i−0、Ti−5i0、Ta−5i−
C,Ta−N、Zr−Nなど)の形成およびパターンニ
ング、スパッタリングなどの方法による電極金1m(A
ff、Cu / Cr、A u / Crなど)の形成
および個別電極6、共通電極5のパターンニングさらに
スパッタリング、プラズマ−CVDなどの方法による保
護膜(Si−C,5i−AI2−0−N、Ta−0なと
)の必要部への形成を一般的に従来より使用されている
フォトリソグラフィー、メクルマスクスパッタリングな
どの利用により行ない、第1図に示す断面構造のサーマ
ルヘッドを得たに のようなサーマルヘッドにおいては、共通電極5の配線
抵抗も平滑表面の導体層3よりなる補強用電極の効果に
より小さく、印字ムラのない高品質の印字が出来、さら
に平滑な表面の導体層3を補強用電極に用いたことで、
発熱体4、電極5.6、保護膜7のつきまわりもよく、
ビンホルの発生がなく、耐食性上も何ら問題のない信頼
性の高いものであった。
なお本発明の別な構造としては、第3図に示したように
、平滑表面の導体層3よりなる補強用電極部にもグレー
ズ4を形成したものがあり、これについても前記と同様
な効果が期待できる。
、平滑表面の導体層3よりなる補強用電極部にもグレー
ズ4を形成したものがあり、これについても前記と同様
な効果が期待できる。
[発明の効果]
以上述べてきたように本発明によれば、印字品質も高く
、腐食の発生のない長期信頼性の高いサーマルヘッドが
可能になる。
、腐食の発生のない長期信頼性の高いサーマルヘッドが
可能になる。
第1図は本発明のサーマルヘッドの断面図、第2図は従
来のサーマルヘッドの断面図、第3図は本発明の他の実
施例であるサーマルヘッドの部分断面図である。 基板 グレーズ層 平滑表面の導体層(補強用電極) 発熱体 共通電極 個別電極 ・保護膜 出願人 セイコー電子工業株式会社
来のサーマルヘッドの断面図、第3図は本発明の他の実
施例であるサーマルヘッドの部分断面図である。 基板 グレーズ層 平滑表面の導体層(補強用電極) 発熱体 共通電極 個別電極 ・保護膜 出願人 セイコー電子工業株式会社
Claims (1)
- 基板の一辺にそって発熱体が列状に形成され、前記発熱
体列の一方には各発熱体に共通に接続される共通電極が
、他方には各発熱体に個別に接続される個別電極が形成
されているサーマルヘッドにおいて、共通電極の下部に
表面が平滑な導体層よりなる補強用電極を形成したこと
を特徴とするサーマルヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14701190A JPH0439064A (ja) | 1990-06-05 | 1990-06-05 | サーマルヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14701190A JPH0439064A (ja) | 1990-06-05 | 1990-06-05 | サーマルヘッド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0439064A true JPH0439064A (ja) | 1992-02-10 |
Family
ID=15420534
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14701190A Pending JPH0439064A (ja) | 1990-06-05 | 1990-06-05 | サーマルヘッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0439064A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0628416A1 (en) * | 1993-06-08 | 1994-12-14 | Rohm Co., Ltd. | End-contact type thermal head and manufacturing method therefor |
US7296880B2 (en) | 2003-12-26 | 2007-11-20 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Ink-jet printer head having laminated protective layer and method of fabricating the same |
WO2017111007A1 (ja) * | 2015-12-25 | 2017-06-29 | 京セラ株式会社 | サーマルヘッドおよびサーマルプリンタ |
-
1990
- 1990-06-05 JP JP14701190A patent/JPH0439064A/ja active Pending
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0628416A1 (en) * | 1993-06-08 | 1994-12-14 | Rohm Co., Ltd. | End-contact type thermal head and manufacturing method therefor |
US5483736A (en) * | 1993-06-08 | 1996-01-16 | Rohm Co., Ltd. | Method of manufacturing a corner head type thermal head |
US5561897A (en) * | 1993-06-08 | 1996-10-08 | Rohm Co., Ltd. | Method of manufacturing a corner head type thermal head |
US5745148A (en) * | 1993-06-08 | 1998-04-28 | Rohm Co., Ltd. | Corner head type thermal head and manufacturing method therefor |
US7296880B2 (en) | 2003-12-26 | 2007-11-20 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Ink-jet printer head having laminated protective layer and method of fabricating the same |
US7731338B2 (en) | 2003-12-26 | 2010-06-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Ink-jet printer head having laminated protective layer and method of fabricating the same |
WO2017111007A1 (ja) * | 2015-12-25 | 2017-06-29 | 京セラ株式会社 | サーマルヘッドおよびサーマルプリンタ |
CN108472964A (zh) * | 2015-12-25 | 2018-08-31 | 京瓷株式会社 | 热敏头以及热敏打印机 |
JPWO2017111007A1 (ja) * | 2015-12-25 | 2018-10-04 | 京セラ株式会社 | サーマルヘッドおよびサーマルプリンタ |
CN108472964B (zh) * | 2015-12-25 | 2020-02-07 | 京瓷株式会社 | 热敏头以及热敏打印机 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4415403A (en) | Method of fabricating an electrostatic print head | |
EP0202877A2 (en) | Integrated circuit device and manufacturing method thereof | |
EP0059102B1 (en) | Crossover construction of thermal-head | |
JPH0439064A (ja) | サーマルヘッド | |
JP4707890B2 (ja) | チップ抵抗器およびその製造方法 | |
JP3172623B2 (ja) | サーマルヘッド | |
JPH0245996A (ja) | 混成集積回路の製造方法 | |
JPH0582303B2 (ja) | ||
JPH068053B2 (ja) | サ−マルヘツド | |
JPS63268663A (ja) | サーマルヘッド基板および製造方法 | |
JP4309700B2 (ja) | サーマルヘッド基板、サーマルヘッド及びその製造方法 | |
JPS6045595B2 (ja) | サ−マルヘツドの製造方法 | |
JPH02179765A (ja) | サーマルヘッド基板 | |
JPH03142256A (ja) | サーマルヘッドの製造方法 | |
JPS61294888A (ja) | 厚膜電極 | |
JP4068899B2 (ja) | サーマルヘッドの製造方法 | |
JPS6242858A (ja) | サ−マルヘツドの製造方法 | |
JPH0138679B2 (ja) | ||
JPS6245829B2 (ja) | ||
JPH0524234A (ja) | サーマルヘツド | |
JPS62109664A (ja) | サ−マルヘツド | |
JPS6161988B2 (ja) | ||
JPS62108070A (ja) | サ−マルヘツド用電極構造 | |
JPH0653005A (ja) | チップ抵抗器 | |
JPS59179364A (ja) | サ−マルヘツド |